Deposition of wear-resistant TiN layers in linear magnetron sputtering system.

• Autorzy: Miernik K. , Walkowicz J. , Kułakowska-Pawlak B. , Żyrnicki W.

Warianty tytułu

PL

Nakładanie przeciwzużyciowej powłoki TiN za pomocą liniowego magnetronowego układu napylania.

• Konferencja: 5th International Sympozium INSYCONT'98 ; 16-18.09.1998 ; Kraków, Polska
• Języki publikacji: EN

Abstrakty

EN

It is the aim of this paper to study the influence of the plasma parameters of the linear magnetron with lineary extended plasma zone on the TiN layer properties and its chemical composition. Plasma parameters in different zones of plasma area were investigated using optical spectroscopy. The influence of changes in pressure on I-V characteristics and the distribution of plasma emission area were found. Practical possibilities and its application for thin film deposition are discussed.

PL

Badano wpływ parametrów plazmy liniowego magnetronu z liniowym rozszerzeniem strefy plazmy na właściwości warstwy TiN i jej skład chemiczny. Parametry plazmy w różnych strefach były badane przy użyciu spektroskopii optycznej. Wykryto wpływ zmian cisnienia na charakterystyki I-V i rozkład pola emisji plazmy. Omówiono praktyczne możliwości jego wykorzystania w nakładaniu cienkiej warstwy.

Słowa kluczowe

EN

wear-resistant layer; TiN layer; layer deposition; thin layer; plasma; linear magnetron

PL

powłoka przeciwzużyciowa; powłoka TiN; nakładanie powłok; cienka powłoka; plazma; magnetron liniowy

• Wydawca: Komitet Budowy Maszyn PAN
• Czasopismo: Zagadnienia Eksploatacji Maszyn
• Rocznik: 1998
• Tom: Vol. 33, nr 2
• Strony: 287--291
• Opis fizyczny: Bibliogr. 11 poz., rys.

Twórcy

autor

Miernik K.

• Institute for Terotechnology, Radom, Poland

autor

Walkowicz J.

• Institute for Terotechnology, Radom, Poland

autor

Kułakowska-Pawlak B.

• Institute of Inorganic Chemistry and Metallurgy of Rare Elements, Wrocław, Poland

autor

Żyrnicki W.

• Institute of Inorganic Chemistry and Metallurgy of Rare Elements, Wrocław, Poland

Bibliografia

• [1] Vossen J.L., Kern W.: Thin film processes. Academic Press. N.Y. 1978.
• [2] Window B.: Surface and Coating Technology 1995, 71-93
• [3] Sproul W.D.: Surface and Coating Technology, 1996, 8, 1
• [4] Münz W.D., Schulze D., Hauzer F.J.M.: Surface and Coating Technology, 1992, 50, 169
• [5] Belkind A., Vac J.: Sci. Technol. (1993), A11(4), 1501
• [6] Hara T., Nomura T., Mosley R.C., Suzuki H., Sone K.J. Vac. Technol. (1994), A12(2), 506
• [7] Schiller S., Goedicke K., Reschke J., Kirchoff V., Schneider S., Milde F.: Surface and Coating Technology, (1993), v.61, 331
• [8] Savvides N., Window B.: J. Vac. Sci. Technol. (1986), A4(3), 504
• [9] Sproul W.D.: Surface and Coating Technology, (1990) 43/44 270
• [10] Miernik K.: Proc. of the 4th Inter. Symp. on Trends and New Applications in Thin Films, TATF'94, Dresden 1994 - 52
• [11] Rossnagel S.M., Kaufman H.R., J.Vac. Sci. Technol. (1988), A6(2), 223