Photocurable methacrylate/nanosilica composites

• Autorzy: Andrzejewska E. , Sądej M.

Warianty tytułu

PL

Fotoutwardzalne kompozyty metakrylan/nanokrzemionka

• Języki publikacji: EN

Abstrakty

EN

Two types of photocurable systems containing triethylene glycol dimethacrylate (TEGDM) and 3-15 wt. % of nanosilica were prepared and investigated. The silicas used were structure modified fumed silicas aftertreated by methacrylsilane. The obtained dispersions were characterized by mean particle size (Z-average diameter), polydispersity index (PDI), Zeta potential and by the viscosity of the system (?). It was found that the maximum polymerization rate Rpmax and double bond conversion p increase with silica concentration up to 5 or 4 wt. %, depending on silica type; further increase in silica content reduces both Rpmax and p. This result correlates well with the stability of the dispersion as measured by its Zeta potential value. The lowest Zeta potentials were obtained for composites showing the highest Rpmax values.

PL

Otrzymano i zbadano dwa rodzaje kompozycji fotoutwardzalnych zawierających dimetakrylan glikolu trietylenowego oraz nanokrzemionkę w ilościach 3-15 % mas. Zastosowano nanokrzemionki pirolityczne modyfikowane strukturalnie oraz powierzchniowo. Otrzymane dyspersje scharakteryzowano poprzez średni rozmiar (Z-average diameter) i indeks polidyspersyjności (PDI) cząstek napełniacza, jak również przez potencjał Zeta oraz lepkość (...) kompozycji (tabela 1). Stwierdzono, że maksymalna szybkość polimeryzacji (Rpmax) i konwersja wiązań podwójnych (p) wzrastają po dodaniu krzemionki oraz rosną ze wzrostem jej zawartości osiągając maksymalną wartość przy stężeniu 5 lub 4 % mas., w zależności od rodzaju krzemionki. Dalszy wzrost zawartości napełniacza obniża zarówno Rpmax jak i p (rys. 1). Wynik ten dobrze koreluje ze stabilnością kompozycji określoną przez potencjał Zeta. Kompozycje o najwyższych wartościach Rpmax wykazywały najmniejsze wartości potencjału Zeta (rys. 2).

Słowa kluczowe

EN

nanosilica; methacrylate; composites; photopolymerization; zeta potential

PL

nanokrzemionka; kompozyty; fotopolimeryzacja; potencjał zeta

• Wydawca: Sieć Badawcza Łukasiewicz – Instytut Chemii Przemysłowej
• Czasopismo: Polimery
• Rocznik: 2008
• Tom: T. 53, nr 4
• Strony: 321--323
• Opis fizyczny: Bibliogr. 16 poz.

Twórcy

autor

Andrzejewska E.

autor

Sądej M.

• Poznan University of Technology, Faculty of Chemical Technology, pl. Skłodowskiej-Curie 2, 60-965 Poznan, Poland,

Bibliografia

• 1. Górnicka B., Czołowska B., Mazurek B., Zawadzka J., Górecki L.: Polimery 2007, 52, 367.
• 2. Garcés J. M., Moll D. J., Bicerano J., Fibiger R., McLeod D. G.: Adv. Mater. 2000, 12, 1835.
• 3. Burris D. L., Boesl B., Bourne G. R., Sawyer W. G.: Macromol. Mater. Eng. 2007, 292, 387.
• 4. Cho J. D., Ju H. T., Hong J. W.: J. Polym. Sci. Part A 2005, 43, 658.
• 5. Obłój-Muzaj M., Zielecka M., Koakiewicz J., Abramowicz A., Szulc A., Domanowski W.:  Polimery 2006, 51, 133.
• 6. Brzeziński S., Jasiorski M., Maruszewski K., Ornat M., Borak B., Malinowska G., Karbownik I.: Polimery 2007, 52, 362.
• 7. Galeski A., Piotrowska E.:  Polimery 2007, 52, 323.
• 8. Xu G. C., Li A. Y.; Zhang L. D., Wu G. S., Yuan X. Y., Xie T.: J Appl. Polym. Sci. 2003, 90, 837.
• 9. Aso O., Eguizábal J. I., Nazabal J.: Composites Sci. Technol. 2007, 67, 2854.
• 10. Raghavan S. R., Hou J., Baker G. L., Khan S. S.: Langmuir 2000, 16, 1066.
• 11. Peng Z., Kong L. X.: Polym. Bull. 2007, 59, 2007.
• 12. Li F., Zhou S., You B., Wu L.: J. Appl. Polym. Sci. 2006, 99, 1429.
• 13. ,,Aerosil R9200 to improve the scratch resistance of paint and coating system’’, Technical information of Degussa, No 1284.
• 14. Anseth K. S., Kline L. M., Walker T. A., Anderson K. J., Bowman C. N.: Macromolecules 1995, 28, 2491.
• 15. Jesionowski T.: Colloids and Surfaces A: Physicochem. Eng. Aspects 2003, 222, 87.
• 16. Kosmulski M.: ,,Chemical properties of material surfaces’’, Marcel Dekker, New York, 2001.