PL EN


Preferencje help
Widoczny [Schowaj] Abstrakt
Liczba wyników
Tytuł artykułu

Effect of pressure and applied voltage on the evolution of plasma characteristics for excimer laser under inhomogeneous pre-ionization conditions

Identyfikatory
Warianty tytułu
Języki publikacji
EN
Abstrakty
EN
In this work, our goal is to study the effect of the total pressure and the charging voltage on the amplification and propagation of non-uniformities in volume for a XeCl laser. This study is executed by using a parallel resistor network model (PRN). In this model, the surface of discharge is divided ideally into a resistances network in parallel. The obtained results show clearly that the formation of the plasma non-uniformity in volume and on a large scale is in this case related mainly to the chemical kinetics of the laser medium, and the increase in the pressure and applied voltage discharge parameters consequently amplifies any non-uniformity.
Rocznik
Strony
39--52
Opis fizyczny
Bibliogr. 16 poz., wykr.
Twórcy
autor
autor
autor
autor
  • Laboratoire de Physique des Plasmas des Materiaux, Conducteurs et leurs Applications (LPPMCA), El-M'Nouar B.P.1505, Oran, Algerie, zharrach@fundp.ac.be
Bibliografia
  • 1. S. LONGO, G. COMUNALE, C. GORGE, M. CAPITELLI, Plasma Chemistry and Plasma Processing, 13, 685-700, 1993.
  • 2. A. BELASRI, J.P. BOEUF, L.C. PITCHFORD, J. Appl. Phys., 74, 1553-1567, 1993.
  • 3. H. LUCK, D. LOFFHAGEN, W. BOTTICHER, Appl. Phys. B: Laser Opt., 58, 123-132, 1994.
  • 4. A. BELASRI, Z. HARRACHE, T. BABA-HAMED, Phys. Plasmas, 10, 4874-4880, 2003.
  • 5. M.J. KUSHNER, IEEE Trans. Plasma Sci., 19, 387-399, 1991.
  • 6. O. UTEZA, P. DELAPORTE, B. FONTAINE, B. FORESTIER, M. SENTIS, I. TASSY and J.P. TRUONG, Appl. Phys. B, 64, 531-537, 1997.
  • 7. A. BELASRI, Z. HARRACHE, T. BABA-HAMED, Plasma Devices and Operations, 12, 39-48, 2004.
  • 8. R.S. TAYLOR, Appl. Phys. B, 41, 1-24, 1986.
  • 9. D. AMIR AID, Z. HARRACHE, A. BELASRI, Laser Physics, 17, 12-17, 2007.
  • 10. M.J. KUSHNER, A.L. PINDROH, C.H. FICHER, T.A. ZNOTINS, J.J. EWING, J. Appl. Phys., 57, 2406-2423, 1985.
  • 11. A.V. DEM’YANOV, I.V. KOCHETOV, A.P. NAPARTOVICH, M. CAPITELLI, S. LONGO, Quantum Electronics, 25, 645-654, 1995.
  • 12. M. MAKAROV, J. Phys. D: Appl. Phys., 28, 1083-1093, 1995.
  • 13. M. MAKAROV, Y. BYCHKOV, J. Phys. D: Appl. Phys., 29, 350-363, 1996.
  • 14. Q. ZHU, G. IMADA, W. MASUDA, K. YATSUI, Jpn. J. Appl. Phys., 36, 5709-5713, 1997.
  • 15. S. LONGO, Chemical Physics Letters, 268, 306-312, 1997.
  • 16. A.V. DEM’YANOV, I.V. KOCHETOV, A.P. NAPARTOVICH, S. LONGO, M. CAPITELLI, Plasma Chemistry and Plasma Processing, 16, 121-140, 1996.
Typ dokumentu
Bibliografia
Identyfikator YADDA
bwmeta1.element.baztech-article-BAT5-0028-0003
JavaScript jest wyłączony w Twojej przeglądarce internetowej. Włącz go, a następnie odśwież stronę, aby móc w pełni z niej korzystać.