Tytuł artykułu
Autorzy
Identyfikatory
Warianty tytułu
Verification of the immersion selective etching method applied to reveal silicon microsegregation in low-alloy spheroidal graphite iron
Języki publikacji
Abstrakty
Wykorzystując metodę kolorowego trawienia imresyjnego na gorąco w odczynniku do ujawniania mikrosegregacji krzemu w żeliwie sferoidalnym, przeprowadzono, podzielone na cztery etapy, badania mikrostruktury trzech wytopów o wyjściowym składzie chemicznym żeliwa ADI, różniących się zawartością tego pierwiastku, która wynosiła: 2,11, 2,49 i 2,91 %. Badania te zostały uzupełnione mikroanalizą rentgenowską, w ramach której wykonano mapy i profile stężeń krzemu. Różnice w obrazach mikrostruktury po kolejnych etapach trawienia świadczą o braku powtarzalności selektywnego trawienia imersyjnego, pomimo to stwierdzono dość dobrą korelację między stężeniem krzemu w mikroobszarach wytopów o wyższej zawartości tego pierwiastka a kolorem mikrostruktury. "Dotrawianie" próbek powodowało zaburzenie tej sekwencji, ponieważ dodatkowe kolory mikrostruktury, takie jak: czerwony i zielony, charakterystyczne dla wyższego stężenia krzemu, pojawiały się również na obrzeżach komórek eutektycznych.
The investigation of microstructure of low-alloy spheroidal graphite iron was carried out by applying the selective, immersion colour etching in a hot reagent for revealing the silicon microsegregation. Three melts with initial chemical composition of ADI differing from each other in the content of silicon, which was: 2,11, 2,49 and 2,91 %, were prepared. The examination of microstructure by this method was divided into four stages and completed with the X-ray microanalysis within which maps and profiles of Si concentrations were made. The differences in the pictures of microstructure after the successive stages of the etching process show the lack of repeatability of selective, immersion colour etching in obtaining their similarity. Nevertheless, quite a good convergence between the concentration of silicon in the microareas of the investigated melts and the colour of the microstructure was achieved because each time the colour sequence characteristic of the silicon segregation in cast iron was maintained, and it was specially clearly seen in the case of shorter time of etching. The reetching of the specimens caused some kind of disorder in this sequence because the additional colours of the microstructure, such as: red and green, characteristic of the highest silicon concentrations, were also revealed at the borders and beyond the areas of the eutectic cells.
Wydawca
Czasopismo
Rocznik
Tom
Strony
3--10
Opis fizyczny
fot., rys., Bibliogr. 3 poz.
Twórcy
autor
- Instytut Odlewnictwa, Kraków
Bibliografia
Typ dokumentu
Bibliografia
Identyfikator YADDA
bwmeta1.element.baztech-article-BAT4-0002-0041