Łuk dwuwarstwowy w modelowaniu urządzeń elektrotechnologicznych z nagrzewaniem łukowym i plazmowym. Cz. 2, Uniwersalna użyteczność charakterystyk cieplnych łuku

• Autorzy: Sawicki A.

Warianty tytułu

EN

Two-layer arc in modelin of electric technological devices with arc and plasma heating

• Języki publikacji: PL

Abstrakty

PL

W pracy opisano podstawowe założenia struktury dwuwarstwowej łuku elektrycznego. Na jej podstawie określono współczynniki przejmowania ciepła łuku w różnych urządzeniach elektrotechnologicznych (piecach łukowych prądu stałego i przemiennego, piecach plazmowych, plazmotronach strugowych i palnikach plazmowych do cięcia). Opierając się na warunkach granicznych trzeciego rodzaju podano związki miedzy charakterystykami elektrycznymi i cieplnymi łuku. Wykazano uniwersalność charakterystyk cieplnych. Ich zaletą jest możliwość uogólnienia stanów pracy urządzeń i przeliczania ich charakterystyk na inne podobne urządzenia z zastosowaniem różnych gazów plazmotwórczych.

EN

Fundamental assumptions on the two-layer structure of elektric arc are described in the paper. On that basis heve been determined coefficient of the arc heat transfer in various electric technological devices (DC and AC arc furnaces, plasma arc furnaces, stream plasmotrons and plasma jet of cutting). Relationships between electrical and thermal characteristics are given, based on the boundary condition of the third kind. Universality of the arc thermal characteristics is shown. Their adventage is a possibility of generalisation pf the working regimes of devices and adjustment of the characteristics to other similar devices, operating with defferent plasmagenic gases.

Słowa kluczowe

PL

łuk elektryczny; piec łukowy; piec plazmowy; plazma; plazmotron

EN

arc furnace; electrical arc; plasma; plasma furnace; plasmatron

• Wydawca: Akademia Górniczo-Hutnicza im. S. Staszica w Krakowie ; Politechnika Łódzka
• Czasopismo: Jakość i Użytkowanie Energii Elektrycznej
• Rocznik: 2001
• Tom: T. 7, z. 1
• Strony: 69--76
• Opis fizyczny: Bibliogr. 21 poz.,Rys., wykr.,

Twórcy

autor

Sawicki A.

• Politechnika Czestochowska, Katedra Elektrotechniki i Elektrotechnologii, ul. Armii Krajowej 17, 42-200 Częstochowa