Metoda unipolarnego zasilania impulsowego akceleratora hybrydowego

• Autorzy: Majcher A. , Gospodarczyk A. , Mrożek M.

Warianty tytułu

EN

Method of pulsed coaxial hybrid source unipolar power supply

• Języki publikacji: PL

Abstrakty

PL

W artykule przedstawiono metodę unipolarnego zasilania impulsowego, hybrydowego akceleratora plazmy. W realizacji sprzętowej metody wykorzystano opracowany i wykonany moduł generatora impulsów dużej mocy. Opisano przebiegi sygnałów zasilających hybrydowe źródło plazmy oraz porównano je z przebiegami występującymi w standardowej metodzie zasilania tego typu źródła. Przedstawiono wyniki badań składu plazmy wytwarzanej przez źródło oraz składu otrzymywanych powłok. W opracowanej metodzie, w odróżnieniu od metody standardowej, oprócz zachowania jednokierunkowego przepływu prądu przez źródło plazmy można regulować częstotliwość, amplitudę i wartość współczynnika wypełnienia przebiegu zasilającego. Daje to szersze możliwości wpływania na parametry uzyskiwanych powłok przeciwzużyciowych.

EN

The paper presents new method of pulsed coaxial hybrid source unipolar power supply. Hardware part of the method was designed on the base of own high power pulse generator. An article described power supply signals and compared them with signals from standard power supply method. Results of measurements of plasma and layers composition obtained by unipolar supplied hybrid source are presented. The described method in contradistinction to standard method, was kept unidirectional flow of source current and possibility of amplitude, frequency, pulse duty factor setting. The new method enables the wider possibility to control of obtained layers parameters.

Słowa kluczowe

PL

plazma; magnetron; generator impulsów; generator koaksjalny; impuls prądowy

EN

magnetron; plasma; impulse generator; generator; current pulse

• Wydawca: Wydawnictwo Naukowe Instytutu Technologii Eksploatacji - Państwowego Instytutu Badawczego
• Czasopismo: Problemy Eksploatacji
• Rocznik: 2004
• Tom: nr 2
• Strony: 99--106
• Opis fizyczny: Bibliogr. 6 poz., rys.

Twórcy

autor

Majcher A.

• Instytut Technologii Eksploatacji, Radom

autor

Gospodarczyk A.

• Instytut Technologii Eksploatacji, Radom

autor

Mrożek M.

• Instytut Technologii Eksploatacji, Radom

Bibliografia

• 1. Sokołowski M., Sokołowska A., Michalski A., Gokieli B., Romanowski Z., Rusek A.: Crystallization from a reactive pulse plasma. Journal of Crystal Growth, 42 (1977) 507.
• 2. Sokołowski M., Sokołowska A., Gokieli B., Michalski A., Rusek A., Romanowski Z.: Reactive pulse plasma crystallization of diamond and diamond-like carbon. Journal of Crystal Growth, 47 (1979) 421.
• 3. Michalski A.J.: Fizykochemiczne podstawy otrzymywania powłok z fazy gazowej. Oficyna Wydawnicza Politechniki Warszawskiej, Warszawa 2000.
• 4. Walkowicz J., Barchenko V.T., Miernik K.: Analysis of plasma generation and acceleration in pulsed coaxial hybrid source. Surface and Coatings Technology, 116-119 (1999) 685-689.
• 5. Walkowicz J., Miernik K.: Space-time spectral investigation of the distribution of pulsed plasma generated by a new coaxial hybrid source. Surface and Coatings Technology, 116-119 (1999) 666-673.
• 6. Majcher A., Gospodarczyk A., Mrozek M., Przybylski J.: Modułowe systemy sterowania i zasilania dla plazmowych procesów inżynierii materiałowej. Problemy Eksploatacji 3/2003.