Pomiary energii promieniowania skrajnego nadfioletu

• Autorzy: Mikołajczyk J. , Bielecki Z.

Warianty tytułu

EN

Energy measurement of extreme ultraviolet radiation

• Języki publikacji: PL

Abstrakty

PL

W pracy omówiono system detekcji promieniowania skrajnego nadfioletu. Umożliwia on pomiar energii impulsów promieniowania w zakresie długości fal (13,5 š 0,5) nm. Przeprowadzone analizy i badania miały na celu określenie możliwości odniesienia wyników uzyskanych w tym zakresie długości fal do pasma (13,5 š 0,13) nm. W pracy zaprezentowano wyniki pomiaru widma promieniowania emitowanego ze źródła laserowo-plazmowego z ksenonową tarczą gazową dla różnych warunków wytwarzania plazmy. Na podstawie rezultatów otrzymanych za pomocą wzorcowego przyrządu E-Mon wyznaczono wartość tzw. skalibrowanej czułości widmowej systemu, która umożliwia odniesienie wyników pomiarów do pasma (13,5 š 0,13) nm.

EN

The paper presents the IOE detection system for energy measurement of EUV radiation. The system measures energy of radiation pulses within the wavelength range of (13,5 š 0,5) nm. The described analyses and experiments determine possibilities of reference of results obtained from the system to the spectral range of (13,5 š 0,13) nm. The changes of radiation spectrum emitted from a laser-plasma source with xenon gas-puff target are presented. The results obtained from the standard E-Mon meter make it possible to determine a calibrated sensitivity of the IOE detection system within the wavelength range of (13,5 š 0,13) nm.

Słowa kluczowe

PL

optoelektronika; detekcja sygnałów optycznych; pomiar energii; promieniowanie EUV; nanolitografia

EN

optoelectronics; detection of optical signals; energy measurement; EUV radiation; nanolithography

• Wydawca: Polskie Towarzystwo Diagnostyki Technicznej
• Czasopismo: Diagnostyka
• Rocznik: 2006
• Tom: nr 3(39)
• Strony: 155--160
• Opis fizyczny: Bibliogr. 9 poz., rys.

Twórcy

autor

Mikołajczyk J.

autor

Bielecki Z.

• Instytut Optoelektroniki, Wojskowa Akademia Techniczna, ul. Kaliskiego 2, 00-908 Warszawa,

Bibliografia

• [1] Lawes R. A., Future trends in high-resolution lithography, Applied Surface Science, t.154–155, str..519–526, 2000.
• [2] Arkhipov N., Bakhtin V., Kurkin S., Safronov V., Toporkov D., Vasenin S., Zhitlukhin A., Rockett P., Hunter J., Absolute VUV spectroscopy of an eroding graphite target using a calibrated CCD camera, Journal of Nuclear Materials, t.266-269, str. 751-753, 1999.
• [3] Cross-Calibration of Extreme Ultraviolet (EUV) Energy Sensors, International SEMATECH Technology Transfer #04024498A-TR http://www.sematech.org /docubase/ document/ 4498atr.pdf.
• [4] Bijkerk F., Stuik R., Bruineman C.: Flying Circus 2 a concerted effort in EUV source development, EUVL Source Workshop, ISMT, Santa Clara, 2002.
• [5] Materiały Jenoptik Jena Mikrotechnik GmgH, www.jo-mikrotechnik.com.
• [6] Bielecki Z., Mikołajczyk J., Rakowski R., Wojtas J.: Measuring system for radiation pulses from gas-puff laser-plasma source, Proc. SPIE, t. 6189, str. 300 – 305. 2006.
• [7] Fiedorowicz H., Bartnik A., Szczurek M., Daido H., Sakaya N. et. al., Investigation of soft X-ray emission from a gas puff target irradiated with a Nd:YAG laser, Optics Communications, t. 163, wyd. 1-3, str.103-114, 1999.
• [8] http://architect.wwwcomm.com/Uploads/Princeton/Documents/sx1300b.pdf.
• [9] Tanuma H., Ohashi H., Shibuya E., Kobayashi N., Okuno T., Fujioka S., Nishimura H., Nishihara K., EUV emission spectra from excited multiply charged xenon ions produced in charge-transfer collisions, Nuclear Instruments and Methods in Physics Research B 235, str. 331–336, 2005.