Fotohydrofilowe powłoki TiO2 nanoszone metodą RF PECVD z metaloorganicznego związku wyjściowego

• Autorzy: Sobczyk-Guzenda A. , Owczarek S. , Gazicki-Lipman M. , Szymanowski H. , Kowalski J.

Warianty tytułu

EN

TiO2 photohydrophilic coatings deposited with the RF PECVD technique from organometallic precursors

• Języki publikacji: PL

Abstrakty

PL

Powłoki TiO2 wytwarzane metodą RF PECVD posiadają różne właściwości w zależności od sposobu i warunków prowadzenia procesu. W prezentowanej pracy badano w jakim stopniu wartość przepływu tlenu wpływa na właściwości powłok ditlenku tytanu - kładąc szczególny nacisk na fotozwilżalność. Powłoki TiO2 nanoszone były z tetraetoksytytanu w obecności tlenu na krzemowe i szklane podłoża. Przepływ tlenu zmieniany był w przedziale pomiędzy 100 a 500 sccm. Parametrami stałymi we wszystkim procesach były: czas nanoszenia powłok wynoszący 90 minut oraz moc wyładowania jarzeniowego równa 300 W. Z badań wynika, że powłoki nanoszone przy przepływie tlenu równym 400 sccm wykazują najwyższą fotozwilżalność. Hydrofobowy charakter takiej powłoki (kąt zwilżania wodą powyżej 120 deg) ulega zmianie na hydrofilowy już po nieco ponad półgodzinnej ekspozycji na działanie promieniowania UV, zaś po 2 godzinach naświetlania kąt zwilżania maleje do wartości poniżej 40 deg. Wartość przepływu tlenu wpływa również istotnie na grubość otrzymanej powłoki. W zadanych warunkach najcieńsze powłoki otrzymywane są przy 350 sccm i ich grubość rośnie zarówno ze zwiększaniem jak i zmniejszaniem wartości przepływu tlenu.

EN

Depending on the detailed solution and parameters used, TiO2 coatings produced with the RF PECVD technique are characterized with various properties. In the present work, the effect of the flow rate of incoming oxygen on the coatings behaviour and on their photohydrophilic properties in particular is discussed. The coatings were deposited from the mixture of tetraetoxytitanium and oxygen onto the glass and silicon substrates. Oxygen flow rate was adjusted within the range of 100 and 500 sccm. Other parameters were kept constant: deposition time of 90 minutes and deposition power of 300 Watt. The results obtained show that the most pronounced photohydrophilic behaviour is exhibited by the coatings deposited at the oxygen flow rate of 400 sccm. Hydrophobic character of these films (water wetting angle above 120 deg) transforms to hydrophilic after only half an hour long exposition to UV radiation, and after two hours of illumination that wetting angle becomes lower than 40 deg. The flow rate of oxygen also substantially affects the thickness of the deposited coating. For the above parameters the lowest film thickness is obtained for the O2 flow rate of 350 sccm and it increases both when this parameter rises and when it drops.

Słowa kluczowe

PL

metoda RF PECVD; ditlenek tytanu; fotokataliza; powłoki hydrofilowe; właściwości optyczne

EN

RF PECVD method; titanium dioxide; photocatalysis; hydrophilic coatings; optical properties

• Wydawca: Polish Society for Biomaterials in Cracow
• Czasopismo: Engineering of Biomaterials
• Rocznik: 2012
• Tom: Vol. 15, no. 112
• Strony: 20--25
• Opis fizyczny: Bibliogr. 14 poz., rys., tab., wykr.

Twórcy

autor

Sobczyk-Guzenda A.

• Instytut Inżynierii Materiałowej, Politechnika Łódzka, ul. Stefanowskiego 1/15, 90-924 Łódź

autor

Owczarek S.

• Instytut Inżynierii Materiałowej, Politechnika Łódzka, ul. Stefanowskiego 1/15, 90-924 Łódź

autor

Gazicki-Lipman M.

• Instytut Inżynierii Materiałowej, Politechnika Łódzka, ul. Stefanowskiego 1/15, 90-924 Łódź

autor

Szymanowski H.

• Instytut Inżynierii Materiałowej, Politechnika Łódzka, ul. Stefanowskiego 1/15, 90-924 Łódź

autor

Kowalski J.

• Instytut Inżynierii Materiałowej, Politechnika Łódzka, ul. Stefanowskiego 1/15, 90-924 Łódź

Bibliografia

• [1] Carp O., Huisman C. L., Reller A.: Photoinduced reactivity of titanium dioxide. Progress in Solid State Chemistry 32 (2004) 33-177.
• [2] Serpone N., Emeliene A.V.: Suggested terms and definitions in photocatalysis and radiocatalysis. International Journal of Photoenergy 4 (2002) 91-131.
• [3] Dadjour M.F., Ogino Ch., Matsumura S., Shimizu N.: Kinetics of disinfection of Escherichia coli by catalytic ultrasonic irradiation with TiO2. Biochemical Engineering Journal 25 (2005).
• [4] Huang Z., Maness P.Ch., Blake D.M., Wolfrum E.J., Smolinski S.L.: Bactericidal mode of titanium dioxide photocalysis. Journal of Photochemistry and Photobiology A-Chemistry 130 (2000) 2-3.
• [5] Mills A., Hunte S.K.: A web-based overview of semiconductor photochemistry-based current commercial application. Journal of Photochemistry and Photobiology A-Chemistry 152 (2002) 233-247.
• [6] Wang R., Hoshimoto K., Fujishima A., Chikuni M., Kojima E., Kitamura A.: Light-induced amphiphilic surface. Nature 388 (1997) 431-432.
• [7] Meinhold G.: Rutile and its applications in earth sciences. Earth-Science Reviews 102 (2010) 1-28.
• [8] Nolan R.P., Langer A.M., Weisman I., Herson G.B.: Surface character and membranolytic activity of rutile and anatase: two titanium dioxide polymorphs. British Journal of Industrial Medicine 44 (1987) 687-698.
• [9] Szymanowski H., Sobczyk-Guzenda A., Rylski A., Jakubowski W., Gazicki-Lipman M., Herberth U., Olcaytug F.: Photo-induced properties of thin TiO2 films deposited using the radio frequency plasma enhanced chemical vapor deposition method. Thin Solid Films 515 (2007) 5275-5281.
• [10] Maeda M., Watanabe T.: Evaluation of photocatalytic properties of titanium oxide films prepared by plasma-enhanced chemical vapor deposition. Thin Solid Films 489 (2005) 320-324.
• [11] Martinu L., Poitras D.: Plasma deposition of optical films and coatings: A review. Journal of Vacuum Science and Technology A 18, (2000) 6.
• [12] B. Chapman, Glow Discharge Processes: Sputteing and Plasma Etching, John Wiley &Sons, New York 1980.
• [13] H. Yasuda, Plasma Polymerization, Academic Press, Orlando Florida 1985.
• [14] Larouche S, Szymanowski H., Klemberg-Sapieha J. E., Martinu L.: Microstructure of plasma-deposited SiO2/TiO2 optical films. J. Vac. Sci. Technol. A 22(4), Jul/Aug (2004), 1200-1206.