Wpływ światła na trwałość hydrofobowych estrów i amidów kwasu pirydyno-3,5-dikarboksylowego oraz ich kompleksów z miedzią(II)

• Autorzy: Klonowska K. , Olszanowski A.

Warianty tytułu

EN

The influence of light on the photostability of hydrophobic esters and amides of pyridine-3,5-dicarboxylic acids and their complexes with copper(II)

• Konferencja: Materiały V Kongresu Technologii Chemicznej : Poznań, 11-15 września 2006 r.
• Języki publikacji: PL

Abstrakty

PL

Przedmiotem badań była analiza fototrwałości modelowych ekstrahentów miedzi z roztworów chlorkowych (hydrofobowe estry i amidy kwasu pirydyno-3,5-dikarboksylowego) oraz ich kompleksów z miedzią(II). Uzyskane wyniki wskazują na istotny wpływ rozpuszczalnika, obecności powietrza i budowy związku na szybkość fotodegradacji. W większości analizowanych układów dodatek wody i kwasu solnego przyspieszał fotodegradację, zaś obecność jonów chlorkowych i miedzi(II) nieznacznie wpływała na szybkość fotodegradacji ekstrahentów. Amidy charakteryzowały się większą odpornością na działanie światła niż estry.

EN

Photostability of model extractants like hydrophobic esters (dioctyl, 2-ethylhexyl or didodecyl) and amides (contg. 2- ethylhexyl, dihexyl or dibutyl group) of pyridine-3,5-dicar-boxylic acid and their complexes with Cu(II) was detd. in toluene or (4:1 v/v) octane-toluene (alone or with water) as solvent, in air or Ar, on 0-600-min UV-VIS or UV irradiation. Up to 10 hrs., amides were more stable than and, in =10 hrs, as stable as, esters. Octane (full degradation took 6 hrs.), H2O, air, full spectral range of light, and long alkyl chains accelerated, whereas aq. HCl and wavelengths =300 nm decelerated photodegradation; Cu(II) and Cl ions had minor effect. In esters, the O-C and aliphatic C-C bonds were ruptured and substituted with solvent-derived radicals; in amides, the N-C and aliphatic C-C bonds were ruptured only; the entire amide group was split off. In the amides contg. dialkyl groups, preliminary photodegradation improved slightly the extn properties.

Słowa kluczowe

PL

fototrwałość; ekstrahenty miedzi z roztworów chlorkowych

EN

photostability; hydrophobic esters; hydrophobic amides

• Wydawca: Wydawnictwo SIGMA-NOT
• Czasopismo: Przemysł Chemiczny
• Rocznik: 2006
• Tom: T. 85, nr 8-9
• Strony: 598--601
• Opis fizyczny: Bibliogr. 10 poz., tab., wykr.

Twórcy

autor

Klonowska K.

• Instytut Chemii Przemysłowej im. prof. Ignacego Mościckiego ul. Rydygiera 8, 01-793 Warszawa

autor

Olszanowski A.

• Wydział Technologii Chemicznej, Politechnika Poznańska, Pl. Marii Skłodowskiej-Curie 2, 60-965 Poznań