Badanie rozkładu tetrachlorometanu jako substancji modelowej w środowisku plazmy wyładowań iskrowych

• Autorzy: Krawczyk K. , Jodzis S. , Lamenta A. , Kostka K. , Schmidt-Szałowski K.

Warianty tytułu

EN

Study on decomposition of tetrachloromethane as a model substance in environment of spark discharge plasma

• Języki publikacji: PL

Słowa kluczowe

PL

wyładowania iskrowe; tetrachlorometan

EN

spark discharge; tetrachloromethane

• Wydawca: Wydawnictwo SIGMA-NOT
• Czasopismo: Przemysł Chemiczny
• Rocznik: 2010
• Tom: T. 89, nr 8
• Strony: 1101--1106
• Opis fizyczny: Bibliogr. 22 poz., rys., tab., wykr

Twórcy

autor

Krawczyk K.

• Politechnika Warszawska

autor

Jodzis S.

• Politechnika Warszawska

autor

Lamenta A.

• Wydział Chemiczny, Politechnika Warszawska, ul. Noakowskiego 3, 00-664 Warszawa

autor

Kostka K.

• Politechnika Warszawska

autor

Schmidt-Szałowski K.

• Politechnika Warszawska

Bibliografia

• 1. A. Dziewulska-Łosiowa, Ozon w atmosferze, PWN, Warszawa 1991 r.
• 2. Ochrona środowiska 2008, Główny Urząd Statystyczny, Tab. 21 (167), Warszawa 2008 r.
• 3. G.R. Laster, Catal. Today 1999, 53, 407.
• 4. E. Finocchio, G. Busca, M. Notaro, Appl. Catal. B 2006, 62, 12.
• 5. A. Żarczyński, Z. Gorzka, M. Kaźmierczak, Przem. Chem. 2005, 84, nr 12, 943.
• 6. A. Czernichowski, Pure Appl. Chem. 1994, 66, 1301.
• 7. R. McAdams, J. Phys. D: Appl. Phys. 2001, 34, 2810.
• 8. J.-S. Chang i in., Jpn. J. Appl. Phys. 1997, 36, 5018.
• 9. T. Yamamoto i in., IEEE Trans. Ind. Appl. 1996, 32, 100.
• 10. A.G. Chmielewski i in., Radiat. Phys.&Chem. 2007, 76, nr 11–12, 1795.
• 11. M. Magureanu, N.B. Mandache, V.I. Parvulescu, Plasma Chem. Plasma Process. 2007, 27, 679.
• 12. B.M. Penetrante i in., Phys. Lett. 1995, A 209, 69.
• 13. K. Krawczyk, B. Ulejczyk, Plasma Chem. Plasma Process. 2003, 23, nr 2, 265.
• 14. S. Kado i in., Catal. Today 2004, 89, 47.
• 15. X.-S. Li i in., Catal. Today 2004, 98, 617.
• 16. Zh. Bo i in., Plasma Chem. Plasma Process. 2007, 27, 546.
• 17. J.V. Michael i in., J. Phys. Chem. 1993, 97, 1914.
• 18. B.M. Penetrante, J.N. Bardsley, M.C. Hsiao, Jpn. J. Appl. Phys. 1997, 36, 5007.
• 19. H. Nichipor i in., Radiat. Phys.&Chem. 2000, 57, nr 3/6, 519.
• 20. M. Koch i in., Envir. Sci. Technol. 1995, 29, 2946.
• 21. T. Kovacs i in., Plasma Chem. Plasma Process. 2005, 25, nr 2, 109.
• 22. S.J. Rubio, M.C. Quintero, A. Rodero, IEEE Trans. Plasma Sci. 2008, 36, nr 4, 98