Oddziaływanie między Ti/TiO2 a kwasem tetrachlorozłotowym jako przyczyna zjawiska cementacji złota w wysokociśnieniowych i wysokotemperaturowych reaktorach tytanowych

• Autorzy: Wojnicki M. , Handzlik P. , Fitzner K.

Warianty tytułu

EN

Interaction between Ti/TiO2 and chloroauric acid as an explanation of the phenomena of gold cementation in high pressure and high temperature reactor made of titanium

• Konferencja: "Aluminium 2010" : XII międzynarodowa konferencja : Niepołomice, 21-23.04.2010
• Języki publikacji: PL

Abstrakty

PL

Warstwę tlenku tytanu na powierzchni tytanu otrzymywano metodą mokrą, polegającą na traktowaniu wypolerowanego tytanu silnym utleniaczem, jakim jest kwas siarkowy oraz woda utleniona 30 %. Obserwowano kształt oraz strukturę otrzymanych warstw tlenkowych, stosując mikroskopię sił atomowych AFM, jak również wyznaczano grubość warstwy tlenkowej posługując się elipsometrem SE400adv firmy Sentech Instruments (z laserem HeNe - długość fali 632,8 nm). Właściwości chemiczne otrzymanej warstewki tlenkowej badano wobec wodnego roztworu kwasu tetrachlorozłotowego, stosując spektrofotometr UV-VIS firmy Shimadzu model U-2501PC. Na podstawie wyników badań stwierdzono, iż główną przyczyną efektu redukcji kompleksu chlorkowego złota na powierzchni tlenkowej są jego zanieczyszczenia.

EN

To produce TiO2 films on titanium, surface of the samples was treated by mixture of H2SO4 and H2O2 at the room temperature by 2 hours with different concentration of acid and H2O2. The compositions of the solution are presented in Table 1. After that, samples were washed in deionized water. Samples were analyzed by AFM microscopy, optical microscopy and ellipsometry. This study shows, that TiO2 film can be obtained by simple chemical treatment. Amount of aqueous hydrogen peroxide has influence on titanium dioxide thickness and surface structure. Obtained films did not protect against cementation process for gold chloride complex. Probably, impurities in titanium grade 2, are responsible for, this cementation process. This studies show that titanium grade 2 materials can be used for industrial autoclave, but in daily laboratory life impurities have great influence on obtained results.

Słowa kluczowe

PL

tlenek tytanu; cementacja złota; analiza morfologii; reaktory wysokociśnieniowe i temperaturowe

EN

titanium dioxide; gold cementation process; morphology analysis; high pressure and temperature reactors

• Wydawca: Wydawnictwo SIGMA-NOT
• Czasopismo: Rudy i Metale Nieżelazne
• Rocznik: 2010
• Tom: R. 55, nr 9
• Strony: 593--597
• Opis fizyczny: Bibliogr. 10 poz., rys., tab.

Twórcy

autor

Wojnicki M.

autor

Handzlik P.

autor

Fitzner K.

• Akademia Górniczo-Hutnicza, Wydział Metali Nieżelaznych, Katedra Fizykochemii i Metalurgii Metali Nieżelaznych, Kraków

Bibliografia

• 1. Spitzer M., Bertazzoli R.: Selective electrochemical recovery of gold and silver from cyanide aqueous effluents using titanium and vitreous carbon cathodes. Hydrometallurgy, 2004, nr 74, s. 233-242.
• 2. Pangum L. S., Browner R. E.: Pressure chloride leaching of a Refractory Gold Ore. Minerals Engineering, 1996, nr 6, s. 547-556.
• 3. Frach P., Glob D., Goedicke K., Fahland M., Gnehr W. M.: High rate deposition of isulating TiO2 and Conducting ITO films for optical and display applications. Thin Solid Films 2003, nr 445, s. 251-258.
• 4. Treichel O., Kirchhoff V.: The influence of pulsed magnetron sputtering on topography and crystallinity of TiO2 films on glass. Surface & coating technology 2000, nr 123, s. 268-272.
• 5. Fuyuki T., Kobayashi T., Matsumami H.: Effect of small amount of water on physical and electrical properties o TiO2 films deposited by CVD method. J. Electrochem. Soc. 1998, nr 135, s. 248-250.
• 6. Ji-Hyun Yi, Bernard C., Variola F., Zalzal S. F., Wuest J. D., Rosei F., Nanci A.: Characterization of a bioactive nanotextured surface created by controlled chemical oxidation of titanium. Surface Science 2006, nr 600, s. 4613-4621.
• 7. Handzlik P., Fitzner K.: Electronic properties of anodic oxide films on titanium in phosphate buffered saline solution and artificial saliva determined by EIS method. Archives of Metallurgy and Materials 2007, nr 52, s. 543-553.
• 8. Haas J. H., Cohen Stuart M. A., Sieval A. B., Zuilhof H., Sudhoter E. J. R.: Preparation of polystyrene brushes by reaction of terminal vinyl groups on silicon and silica surfaces. Thin solid films 2003, nr 426, s. 135-139.
• 9. Sungwook Joo, Izumi Muto, Nobuyoshi Hara: In situ ellipsometric analysis of growth processes of anodic TiO2 nanotube films. Journal of the electrochemical society 2008, nr 155, s. C154-C161.
• 10. Abrantes L.M., Correia J. P., Jin G.: The heterogeneous growth of P(3MeTh) - an ellipsometric study. Electrochemica Acta 2001, nr 41, s. 3993-3999.