Wpływ temperatury podłoża na warstwy hydroksyapatytu osadzane metodą impulsowej ablacji laserowej

• Autorzy: Mróz W. , Jedyński M. , Prokopiuk A. , Burdyńska S. , Wierzchoń T.

Warianty tytułu

EN

Influence of substrate temperature on hydroxyapatite coatings deposited by pulsed laser ablation method

• Języki publikacji: PL

Abstrakty

PL

Warstwy hydroksyapatytu [wzór] zostały osadzone na podłożu Ti6Al4V metodą laserowej ablacji (PLD), przy użyciu lasera ekscymerowego ArF. W celu ustalenia wpływu temperatury podłoża na strukturę osadzonych warstw, proces osadzania przeprowadzono dla zakresu temperatur podłoża od 150 stopni Celsjusza do 650 stopni Celsjusza. Analiza fazowa osadzonych warstw została przeprowadzona przy użyciu Fourierowskiej spektrometrii podczerwieni (FTIR). Topografia otrzymanych warstw charakteryzowana była metodą mikroskopii sił atomowych (AFM). Otrzymane wyniki wskazują na zależność struktury osadzonych warstw oraz ich morfologii od temperatury podłoża.

EN

Hydroxyapatite layers [formula] were deposited on Ti6Al4V substrate by use of pulsed laser deposition (PLD) technique using ArF excimer laser. In order to determine the influence of substrate temperature on structure of deposited films the experiment was performed for substrate temperatures ranged from 150 degrees of Celsius to 650 degrees of Celsius. The chemical analysis of deposited hydroxyapatite coatings were performed by Fourier Transform Infrared spectroscopy (FTIR). The morphology of deposited layers were characterized by means of Atomic Force Microscopy (AFM) method. The results indicate dependence of apatite structure and surface morphology on the substrate temperature.

Słowa kluczowe

PL

hydroksyapatyt; ablacja laserowa

EN

hydroxyapatite; laser ablation

• Wydawca: Polish Society for Biomaterials in Cracow
• Czasopismo: Engineering of Biomaterials
• Rocznik: 2007
• Tom: Vol. 10, no. 69-72
• Strony: 12--15
• Opis fizyczny: Bibliogr. 3 poz., rys., wykr.

Twórcy

autor

Mróz W.

• Instytut Optoelektroniki, Wojskowa Akademia Techniczna, Warszawa 01-489, ul. Kaliskiego 2, Polska

autor

Jedyński M.

• Instytut Optoelektroniki, Wojskowa Akademia Techniczna, Warszawa 01-489, ul. Kaliskiego 2, Polska

autor

Prokopiuk A.

• Instytut Optoelektroniki, Wojskowa Akademia Techniczna, Warszawa 01-489, ul. Kaliskiego 2, Polska

autor

Burdyńska S.

• Instytut Optoelektroniki, Wojskowa Akademia Techniczna, Warszawa 01-489, ul. Kaliskiego 2, Polska

autor

Wierzchoń T.

• Wydział Inżynierii Materiałowej, Politechnika Warszawska, Warszawa 01-489, ul. Wołoska 141, Polska

Bibliografia

• [1] R. Eason (eds.), Pulsed laser deposition of thin films, New Jersey, 2007.
• [2] W. Mróz, Physics of deposition of hydroxyapatite layers by pulsed laser deposition methods: Functional properties of nanostructured materials. Edited by Kassing R. Springer 2006: NATO Science Series II Mathematics, Physics and Chemistry, 223: 183-196.
• [3] W. Mróz, A. Prokopiuk, B. Major, K. Hajerko, J. R. Sobiecki, T. Wierzchoń, Hydroxyapatite deposition of Nitrided Ti-6Al-4V substrates by means of the ArF laser, Annals of Transplantation, 9, No. 1A (Suppl.), (2004), 35.