Filtry UV na bazie pochodnych 1,3-diarylopropano-1,3-dionu

• Autorzy: Zawadiak J. , Jakubowski B. , Wierzbicki P.

Warianty tytułu

EN

1,3-Diarylpropane-1,3-diones as UV filters

• Języki publikacji: PL

Słowa kluczowe

PL

filtry UV; promieniowanie UV; pochodne 1,3-diarylopropano-1,3-dionu; diketony; kondensacja Claisena

EN

UV filters; UV radiation; 1,3-diarylpropane-1,3-diones; diketones; Claisen condensation

• Wydawca: Wydawnictwo SIGMA-NOT
• Czasopismo: Przemysł Chemiczny
• Rocznik: 2007
• Tom: T. 86, nr 7
• Strony: 680--683
• Opis fizyczny: Bibliogr. 46 poz., tab., rys., wykr.

Twórcy

autor

Zawadiak J.

• Politechnika Śląska, Gliwice

autor

Jakubowski B.

• Wydział Chemiczny, Politechnika Śląska, ul. Krzywoustego 4, 44-100 Gliwice

autor

Wierzbicki P.

• Politechnika Śląska, Gliwice

Bibliografia

• 1. W. Malinka, Zarys chemii kosmetycznej, Volumed, Wrocław 1999.
• 2. G.B. Ivry, C.A. Ogle, E.K. Shim, Dermatol. Surg. 2006, 32, nr 4, 481.
• 3. Z. Floriańczyk, S. Penczek, Chemia polimerów, Oficyna Wyd. PW, Warszawa 1997.
• 4. W. Schwack, T. Rudolph, J. Photochem. Photobiol. B: Biol. 1995, 28, 229.
• 5. D.F. Williams, W.H. Schmitt, Chemistry and technology of the cosmetics and toiletries industry, Chapman & Hall, London 1992.
• 6. Changzhou Sunlight Fine Chemical Co., Ltd., Prospekt firmowy.
• 7. Shenzhen Fangye Industries Co.,Ltd., Prospekt firmowy.
• 8. Changzhou Sunchem Chemicals Co., Ltd., Prospekt firmowy.
• 9. Dayang Chemicals Co., Ltd., Prospekt firmowy.
• 10. Yick-vic, Prospekt firmowy.
• 11. Merck KGaA, Prospekt firmowy.
• 12. Givaudan (DSM Nutritional Products), Prospekt firmowy.
• 13. C. Lin, C. Ho, M. Huang, Proc. Natl. Sci. Counc. ROC(B) 2001, 25, nr 3, 158.
• 14. Pat. USA 6531165 B2 (2003), Shiseido Company, Ltd.
• 15. Pat. USA 4670585 (1987), Kao Corporation.
• 16. J.J. Ares, P.E. Outt, S.V. Kakodkar, R.C. Buss, J.C. Geiger, J. Org. Chem. 1993, 58, 7903.
• 17. Pat. USA 5808165 (1998), Rhone-Poulenc Chimie.
• 18. Pat. USA 6607736 B2 (2003), Shiseido Company, Ltd.
• 19. Pat. kanad. 2007935 (1989), BASF AG.
• 20. Pat. USA 5998009 (1999), Sony Corporation.
• 21. Pat. ros. 1620936 A1 (1991), A.W. Iscenko, N.W. Staskowa.
• 22. Pat. USA 3946057 (1976), Union Carbide Corporation.
• 23. B. Ma, S. Gao, Z. Wang, C. Liao, C. Yan, G. Xu, J. Chem. Crystallogr. 1999, 29, nr 7, 793
• 24. J.L. Bender, P.S. Corbin, C.L. Fraser, D.H. Metcalf, F.S. Richardson, E.L. Thomas, A.M. Urbas, J. Am. Chem. Soc. 2002, 124, 8526.
• 25. Pat. niem. 19923579 A1 (2000), BASF AG.
• 26. J.P. Anselme, J. Org. Chem. 1967, 32, 3716.
• 27. J.J. Bloomfield, J. Org. Chem. 1962, 27, 2742.
• 28. Pat. USA 5344992 (1994), Ciba-Geigy Corporation.
• 29. Pat. europ. 0454623 A1 (1991), Ciba-Geigy AG.
• 30. J.C. Wallet, E.M. Gaydou, Synth. Commun. 1996, 26, nr 22, 4097.
• 31. S.A. Fuqua, R.M. Silverstein, J. Org. Chem. 1964, 29, 395.
• 32. Pat. USA 6844470 B2 (2005), Roche Vitamins Inc.
• 33. Pat. europ. 0697390 A1 (1996), BASF AG.
• 34. Pat. USA 5808165 (1998), Rhone-Poulenc Chimie.
• 35. Pat. USA 5015777 (1991), Witco Corporation.
• 36. F. Eiden, H-D. Schweiger, Synthesis 1974, 511.
• 37. E. Hasegawa, K. Ishiyama, T. Horaguchi, T. Shimazu, J. Org Chem. 1991, 56, 1631.
• 38. J.L. Bender, Q-D. Shen, C.L. Fraser, Tetrahedron 2004, 60, nr 34, 7277.
• 39. D.F. Martin, M. Shamma, W.C. Ferneluis, J. Am. Chem. Soc. 1958, 80, 4891.
• 40. D. Erne, W.E. Morf, S. Arvanitis, Z. Cimerman, D. Ammann, W. Simon, Helv. Chim. Acta 1979, 62, nr 4, 994.
• 41. A.A. Raval, N.M. Shah, J. Org. Chem. 1958, 23, 748.
• 42. A. Magnani, S.M. McElvain, Org. Synth. 2002, 3, 251.
• 43. G.R. Zellars, R. Levine, J. Org. Chem. 1948, 13, 160.
• 44. Pat. USA 4482745 (1984), American Cyanamid Company.
• 45. Pat. USA 4284621 (1981), Bayer AG.
• 46. Pat. WO 02/055466 (2002), Crompton Corporation.