Filtry UV na bazie pochodnych 1,3-diarylopropano-1,3-dionu

Zawadiak, J.; Jakubowski, B.; Wierzbicki, P.

Artykuł - szczegóły

Tytuł artykułu

Filtry UV na bazie pochodnych 1,3-diarylopropano-1,3-dionu

Autorzy

Zawadiak J. , Jakubowski B. , Wierzbicki P.

Wybrane pełne teksty z tego czasopisma

przemchem.pl

Identyfikatory

Warianty tytułu

1,3-Diarylpropane-1,3-diones as UV filters

Języki publikacji

Abstrakty

Słowa kluczowe

filtry UV promieniowanie UV pochodne 1,3-diarylopropano-1,3-dionu diketony kondensacja Claisena

UV filters UV radiation 1,3-diarylpropane-1,3-diones diketones Claisen condensation

Wydawca

Wydawnictwo SIGMA-NOT

Czasopismo

Przemysł Chemiczny

Rocznik

2007

Tom

T. 86, nr 7

Strony

680--683

Opis fizyczny

Bibliogr. 46 poz., tab., rys., wykr.

Twórcy

autor

Zawadiak J.

Politechnika Śląska, Gliwice

autor

Jakubowski B.

Bartlomiej.Jakubowski@polsl.pl

Wydział Chemiczny, Politechnika Śląska, ul. Krzywoustego 4, 44-100 Gliwice

autor

Wierzbicki P.

Politechnika Śląska, Gliwice

Bibliografia

1. W. Malinka, Zarys chemii kosmetycznej, Volumed, Wrocław 1999.
2. G.B. Ivry, C.A. Ogle, E.K. Shim, Dermatol. Surg. 2006, 32, nr 4, 481.
3. Z. Floriańczyk, S. Penczek, Chemia polimerów, Oficyna Wyd. PW, Warszawa 1997.
4. W. Schwack, T. Rudolph, J. Photochem. Photobiol. B: Biol. 1995, 28, 229.
5. D.F. Williams, W.H. Schmitt, Chemistry and technology of the cosmetics and toiletries industry, Chapman & Hall, London 1992.
6. Changzhou Sunlight Fine Chemical Co., Ltd., Prospekt firmowy.
7. Shenzhen Fangye Industries Co.,Ltd., Prospekt firmowy.
8. Changzhou Sunchem Chemicals Co., Ltd., Prospekt firmowy.
9. Dayang Chemicals Co., Ltd., Prospekt firmowy.
10. Yick-vic, Prospekt firmowy.
11. Merck KGaA, Prospekt firmowy.
12. Givaudan (DSM Nutritional Products), Prospekt firmowy.
13. C. Lin, C. Ho, M. Huang, Proc. Natl. Sci. Counc. ROC(B) 2001, 25, nr 3, 158.
14. Pat. USA 6531165 B2 (2003), Shiseido Company, Ltd.
15. Pat. USA 4670585 (1987), Kao Corporation.
16. J.J. Ares, P.E. Outt, S.V. Kakodkar, R.C. Buss, J.C. Geiger, J. Org. Chem. 1993, 58, 7903.
17. Pat. USA 5808165 (1998), Rhone-Poulenc Chimie.
18. Pat. USA 6607736 B2 (2003), Shiseido Company, Ltd.
19. Pat. kanad. 2007935 (1989), BASF AG.
20. Pat. USA 5998009 (1999), Sony Corporation.
21. Pat. ros. 1620936 A1 (1991), A.W. Iscenko, N.W. Staskowa.
22. Pat. USA 3946057 (1976), Union Carbide Corporation.
23. B. Ma, S. Gao, Z. Wang, C. Liao, C. Yan, G. Xu, J. Chem. Crystallogr. 1999, 29, nr 7, 793
24. J.L. Bender, P.S. Corbin, C.L. Fraser, D.H. Metcalf, F.S. Richardson, E.L. Thomas, A.M. Urbas, J. Am. Chem. Soc. 2002, 124, 8526.
25. Pat. niem. 19923579 A1 (2000), BASF AG.
26. J.P. Anselme, J. Org. Chem. 1967, 32, 3716.
27. J.J. Bloomfield, J. Org. Chem. 1962, 27, 2742.
28. Pat. USA 5344992 (1994), Ciba-Geigy Corporation.
29. Pat. europ. 0454623 A1 (1991), Ciba-Geigy AG.
30. J.C. Wallet, E.M. Gaydou, Synth. Commun. 1996, 26, nr 22, 4097.
31. S.A. Fuqua, R.M. Silverstein, J. Org. Chem. 1964, 29, 395.
32. Pat. USA 6844470 B2 (2005), Roche Vitamins Inc.
33. Pat. europ. 0697390 A1 (1996), BASF AG.
34. Pat. USA 5808165 (1998), Rhone-Poulenc Chimie.
35. Pat. USA 5015777 (1991), Witco Corporation.
36. F. Eiden, H-D. Schweiger, Synthesis 1974, 511.
37. E. Hasegawa, K. Ishiyama, T. Horaguchi, T. Shimazu, J. Org Chem. 1991, 56, 1631.
38. J.L. Bender, Q-D. Shen, C.L. Fraser, Tetrahedron 2004, 60, nr 34, 7277.
39. D.F. Martin, M. Shamma, W.C. Ferneluis, J. Am. Chem. Soc. 1958, 80, 4891.
40. D. Erne, W.E. Morf, S. Arvanitis, Z. Cimerman, D. Ammann, W. Simon, Helv. Chim. Acta 1979, 62, nr 4, 994.
41. A.A. Raval, N.M. Shah, J. Org. Chem. 1958, 23, 748.
42. A. Magnani, S.M. McElvain, Org. Synth. 2002, 3, 251.
43. G.R. Zellars, R. Levine, J. Org. Chem. 1948, 13, 160.
44. Pat. USA 4482745 (1984), American Cyanamid Company.
45. Pat. USA 4284621 (1981), Bayer AG.
46. Pat. WO 02/055466 (2002), Crompton Corporation.

Typ dokumentu

Bibliografia

Identyfikator YADDA

bwmeta1.element.baztech-article-AGH4-0008-0058