Przetwarzanie metanu w wyładowaniach barierowych z wypełnieniem w szczelinie wyładowczej

• Autorzy: Sentek J. , Krawczyk K. , Radomyska K. , Schmidt-Szałowski K.

Warianty tytułu

EN

Conversion of methane in barrier discharges with the discharge gap packed

• Języki publikacji: PL

Abstrakty

PL

W warunkach wyładowań barierowych (cichych) badano wpływ wybranych materiałów (szkła kwarcowego, ceramiki z tytanianu baru, żelu krzemionkowego oraz żelu krzemionkowego z naniesionym żelazem (Fe/SiO2) na przebieg reakcji konwersji metanu w temperaturze otoczenia i w 300°C w mieszaninach CH4+ArorazCH4+CO2+Ar, przy częstotliwości napięcia 50 Hz. Obecność ziarna ze szkła kwarcowego i żelu krzemionkowego powodowała wzrost szybkości reakcji metanu, natomiast w obecności pozostałych materiałów szybkość reakcji była mniejsza niż bez wypełnienia. Obecność Fe/SiO2 powodowała wzrost zawartości węglowodorów nienasyconych w produktach reakcji.

EN

Methane reactions were examd, in CH4 + Ar and CH4 + CO2 + Ar mixts. at ambient temp. and 300°C in barrier discharges (50 Hz) in relation to discharge gap packing material 1-2 mm type: (l) quartz glass, (II) Ba titanate condenser-grade ceramics, (III) broad-pore silica gel, and (IV) Fe (3%)/SiO2 with l and III, the reactions were f aster by 40-50% and, with II and IV, slower than the reaction run in the unpacked reactor. With IV, more unsatd. C2's were formed. Discharge conditions were practically unaffected by the packing materials (except for IV).

Słowa kluczowe

PL

metan; wyładowania barierowe; wypełnienia reaktora

EN

methane; barrier discharges; reactor packing material

• Wydawca: Wydawnictwo SIGMA-NOT
• Czasopismo: Przemysł Chemiczny
• Rocznik: 2004
• Tom: T. 83, nr 7
• Strony: 340--344
• Opis fizyczny: Bibliogr. 11 poz., rys., wykr., tab.

Twórcy

autor

Sentek J.

• Wydział Chemiczny Politechniki Warszawskiej, ul. Noakowskiego 3, 00-664 Warszawa

autor

Krawczyk K.

• Politechnika Warszawska

autor

Radomyska K.

• Politechnika Warszawska

autor

Schmidt-Szałowski K.

• Politechnika Warszawska

Bibliografia

• 1. C. Liu, R. Malinson, L. Lobban, J. Catal. 1998, 179, 326.
• 2. A. Oumghar, J.C. Legrand, A.M. Diamy, N. Turillon, Plasma Chem. Plasma Proc. 1995, 15, 87.
• 3. X. Zhang, B. Dai, A. Zhu, W. Gong, Ch. Liu, Catal. Today 2002, 72, 223.
• 4. C.-J. Liu, R. Mallinson, L. Lobban, Appl. Catal. A: General 1999, 178, 17.
• 5. T. Jiang, Y. Li, C.-J. Liu, G.-H. Xu, B. Eliasson, B. Xue, Catal. Today 2002, 72, 29.
• 6. C.-J. Liu, B. Xue, B. Eliasson, F. He, Y. Li, G.-H. Xu, Plasma Chem. Plasma Process. 2001, 21,301.
• 7. M. Kraus, U. Kogelschatz, B. Eliasson, A. Wokaun, materiaty opublikowane przez Paul-Scherrer-Institute, Villigen, Szwajcaria i ABB Corporate Research Ltd., Baden, Szwajcaria.
• 8. S.L. Suib, R.R Zerger, J. Catal. 1993, 139, 383.
• 9. B. Marun, D. Conde, S.L. Suib; J. Phys. Chem. A 1999, 103, 4332.
• 10. YY. Tanashev, VI. Fedoseev, Yl. Aristov, V.V. Pushkarev i in., Caf. Today 1998, 42, 333.
• 11. J. Sentek, K. Krawczyk, K. Radomyska, K. Schmidt-Szatowski, Przem. Chem. 2004,83, nr 4, 191.