Przetwarzanie metanu w wyładowaniach barierowych

• Autorzy: Sentek J. , Krawczyk K. , Radomyska K. , Schmidt-Szałowski K.

Warianty tytułu

EN

Methane transformations in barrier discharges

• Języki publikacji: PL

Abstrakty

PL

Opracowano laboratoryjny reaktor przeznaczony do badania procesu przetwarzania metanu w warunkach wyładowań barierowych (cichych) przy częstotliwości 50 Hz, w zakresie temp. 40300°C. Zbadano reakcje zachodzące pod wpływem wyładowania w mieszaninach CH4+Ar oraz CH4+CO2+Ar. W obydwu mieszaninach głównymi gazowymi produktami reakcji były etan i wodór. Z doświadczeń wynika, że w warunkach wyładowania barierowego proces przetwarzania metanu można przerwać na jednym z pierwszych etapów, którego produktem jest etan.

EN

Methane transformation was examined under barrier discharge conditions by using a new developed laboratory guartz-glass reactor with the internal HV (18 kV) and external grounded electrodes, operated at frequency of 50 Hz, 1 atm. over 40-300°C. Reactions were examined in the mixtures CH4+Ar and CH4+CO2+Ar; ethane and H2 were the main gas products. A part of CH4 was converted into non-volatile products deposited on the electrode and the reactor wall. As the residence time inside the discharge gap was increased from 5 to 50 s, the overall CH4 conversion rose to 35-37%. With CH4 concn. in CH4+Ar mixture raised from 2 to 27 mol%, the overall CH4 conversion fell from 25.3 to 2.2%. The initial concn., 7.5-20 mol% CH4, affected the methane reaction rate only slightly. The addition ofCO2 over CO2/CH4=0-0.05, increased the overall CH4 conversion from 7 to 9%, but the rise upwards of 0.05 was ineffective. In was concluded that, under the conditions of barrier discharges, methane transformations can be terminated after one of the initial steps of the process when ethane is produced.

Słowa kluczowe

PL

metan; przetwarzanie metanu; wyładowania barierowe; reaktory; wyładowania ciche

EN

methane; methane transformation; barrier discharges; reactors; silent discharges

• Wydawca: Wydawnictwo SIGMA-NOT
• Czasopismo: Przemysł Chemiczny
• Rocznik: 2004
• Tom: T. 83, nr 4
• Strony: 191--196
• Opis fizyczny: Bibliogr. 24 poz., rys., wykr., tab.

Twórcy

autor

Sentek J.

• Wydział Chemiczny Politechniki Warszawskiej, ul. Noakowskiego 3, 00-664 Warszawa

autor

Krawczyk K.

• Politechnika Warszawska

autor

Radomyska K.

• Politechnika Warszawska

autor

Schmidt-Szałowski K.

• Politechnika Warszawska

Bibliografia

• 1. M. Taniewski, R. Lachowioz, K. Skutil, Przem. Chem. 1990, 69, 541.
• 2. B. Michalkiewicz, K. Katucki, Przem. Chem. 2002, 81, 165.
• 3. K. Katucki, M. Łabęoki, W. Morawski, Przem. Chem. 1991, 70, 249.
• 4. A. Holmen, O. Olsvik, O.A. Rokstad, Fuel Proc. Technol. 1995, 42, 249.
• 5. R.R Anderson, J.R. Fincke, C.E. Taylor, Fuel 2002, 81, 909.
• 6. A. Szymański, Chem. Stos. 1984, 28, 207.
• 7. K. Onoe, A.Fujie, T.Yamaguchi, YHatano, Fuel 1997, 76, 281.
• 8. M. Heintze, M. Magureanu, 15th Int. Symp. Plasma Chem., Orleans 2001, 2837.
• 9. A. Babaritski, M. Deminskiy, C. Etievant, V. Jivotov, B. Potapkin i in., 14th Int. Symp. Plasma Chem., Praha 1999, 2289.
• 10. K. Thanyachotpaiboon, S. Chayadej, TA. Caldwell, L.L. Lobban, R.G. Malinson, Reactors, Kinetics&Catalysis 1998, 44, 2252.
• 11. K.V. Kozlov, R Michel, H.-E. Wagner, Int. Symp. High Pressure Low Temp. Plasma Chem. Hakone VI, Cork 1998, 78.
• 12. K.V. Kozlov, R Michel, H.-E. Wagner, Int. Symp. High Pressure Low Temp. Plasma Chem. Hakone VII, Greifswald 2000, 262.
• 13. Y. Yang, K. Anklam, M. Heintze, Int. Symp. High Pressure Low Temp. Plasma Chem. Hakone VII, Greifswald 2000, 267.
• 14. D.W. Larkin, L.L. Lobban, R.G. Malinson, Catal. Today 2001, 71, 199.
• 15. K. Schmidt-Szatowski, J. Sentek, K. Radomyska, VII Ogólnopolskie Symp. Chemii Plazmy, Kazimierz 2002, 54.
• 16. O.M. Tukhto, M.R. Predtechensky, D.A. Shestakoy, 15th Int. Symp. Plasma Chem., Orleans 2001, 2957.
• 17. M. Okumoto, A. Mizuno, Catal. Today 2001, 71, 211.
• 18. A. Czernichowski, 14lh Int. Symp. Plasma Chem., Praha 1999, 2625.
• 19. K. Krawczyk, J. Ruszniak, J. Sentek, K. Schmidt-Szatowski, High Pressure Low Temp. Plasma Chem. Hakone VIII, Puhajarve 2002.
• 20. K. Schmidt-Szatowski, J. Ruszniak, VII Ogólnopolskie Symp. Chemii Plazmy, Kazimierz 2002, 50.
• 21. T. Opalińska, T. Zieliński, K. Schmidt-Szatowski, VII Ogólnopolskie Symp. Chemii Plazmy, Kazimierz 2002, 56.
• 22. W.W. Ptotczyk, VII Ogólnopolskie Symp. Chemii Plazmy, Kazimierz 2002 36.
• 23. C. Liu, R. Mallison, L. Lobban, J. Catal. 1998, 179, 326.
• 24. S.L. Suib, RP. Zerger, J. Catal. 1993, 139, 383.