Osadzanie cienkich warstw z hydroksyapatytu metodą laserowej ablacji

• Autorzy: Mróz W. , Major B. , Major R. , Prokopiuk A. , Wierzchoń T.

Warianty tytułu

EN

Deposition of hydroxyapatite thin films using laser ablation method

• Języki publikacji: PL EN

Abstrakty

PL

Nowoczesne technologie laserowe, w tym metoda osadzania warstw metodą laserowej ablacji (pulsed laser deposition - PLD), są coraz szerzej wykorzystywane we współczesnej technice [1]. Pełne opanowanie technologii osadzania warstw wymaga lepszego zrozumienia zjawisk fizycznych zachodzących podczas procesów absorpcji promieniowania laserowego i ablacji osadzanych materiałów. W prezentowanej pracy przedstawiony zostanie wpływ warunków procesu, takich jak: długość fali i fluencja promieniowania laserowego, częstotliwość pracy lasera, temperatura podkładu, typ materiałów podłoża, skład atmosfery reaktywnej i grubość nanoszonych warstw na ich właściwości fizyczne. Prezentowane wyniki bazują na badaniach osadzania warstw hydroksyapatytu (HA) Ca10(PO4)6(OH)2 z wykorzystaniem lasera ekscymerowego LPX305 firmy Lambda Physics. Diagnostyka warstw została wykonana za pomocą mikroskopu sił atomowych (AFM).

EN

Modern laser technologies, including layers deposition method by pulsed laser beam (pulsed laser deposition) (PLD) are widely applied [1]. For full control of deposition technology, better knowledge of physical conditions during absorption of laser radiation and ablation of analysed materials is needed. This paper presents influence of process conditions like wavelength and fluence of laser beam radiation, laser repetition rate, substrate temperature, target material type, reactive atmosphere composition and thickness of deposited layers, on their physical properties. The presented results are obtained during examination of hydroxyapatite (HA) Ca10(PO4)6(0H)2 layers, deposited by LPX305 excimer laser of Lambda Physics. A surface topography was measured by atomic force microscope (AFM).

Słowa kluczowe

PL

warstwy hydroksyapatytowe; osadzanie warstw hydroksyapatytowych; metoda ablacji laserowej

• Wydawca: Polskie Stowarzyszenie Biomateriałów
• Czasopismo: Inżynieria Biomateriałów
• Rocznik: 2005
• Tom: R. 8, nr 47-53
• Strony: 117--119
• Opis fizyczny: Bibliogr. 4 poz.

Twórcy

autor

Mróz W.

• Instytut Optoelektroniki, Wojskowa Akademia Techniczna, 01-489 Warszawa, ul. Kaliskiego 2

autor

Major B.

• Instytut Metalurgii i Inżynierii Materiałowej, PAN, 30-059 Kraków, ul. Reymonta 25

autor

Major R.

• Instytut Metalurgii i Inżynierii Materiałowej, PAN, 30-059 Kraków, ul. Reymonta 25

autor

Prokopiuk A.

• Instytut Optoelektroniki, Wojskowa Akademia Techniczna, 01-489 Warszawa, ul. Kaliskiego 2

autor

Wierzchoń T.

• Wydział Inżynierii Materiałowej, Politechnika Warszawska, 02-507 Warszawa, ul. Wołoska 141

Bibliografia

• [1] Applied Physics A: Material Sciences & Processing, vol. 70 No. 4-6 (2004), (Proceedings of 7th COLA, Greece, 2003).
• [2] W. Mróz, "Physics of growth of thin films deposited by laser ablation", Solid State Phenomena vol. 101-102 (2005), pp. 187- 196.
• [3] R. Major, W. Mróz, T. Wierzchoń, J.M. Lackner, W. Waldhauser, J. Bonarski, K. Haberko, A. Pawłowski, "Texture and microstructure of HAp thin layers on Ti6Al4V", Proceedings of Symposium on Texture and Microstructure Analysis of Functionally Graded Materials, Kraków, Poland, 2004.
• [4] M. Jedyński, Z. Szymański, W. Mróz, A. Prokopiuk, M. Jelinek, T. Kocourek, "Spectroscopic measurements of plasma plume induced during the laser deposition of the hydroxyapatite", Czechoslovak Journal of Physics, Vol. 54 (2004), Suppl. C, C397-402.