Parametry optyczne cienkich warstw krzemionkowych na podłożach krzemowych

• Autorzy: Skoczek E. , Cisowski J. , Karasiński P. , Jaglarz J. , Jarząbek B.

Warianty tytułu

EN

Optical parameters of thin silica films on silicon substrates

• Języki publikacji: PL

Abstrakty

PL

W pracy przedstawiono wyniki badań właściwości optycznych cienkich warstw krzemionkowych. Badane warstwy zostały wytworzone w technologii zol-żel i naniesione na krzemowe podłoża metodą zanurzeniową. Badania przeprowadzono metodami elipsometrycznymi i spektrofotometrycznymi, a analiza otrzymanych wyników pozwoliła na wyznaczenie parametrów optycznych badanych warstw takich jak zależności dyspersyjne współczynników załamania oraz ekstynkcji. Dodatkowo, wyznaczono grubości warstw oraz ich porowatość. Ze względu na niską wartość współczynnika załamania (1,22-1,25) warstwy krzemionkowe są stosowane jako powłoki antyrefleksyjne oraz elementy światłowodów planarnych.

EN

Studies of optical properties of thin silica fi lms are shown in the paper. The films were manufactured by the sol-gel method combined with spreading on a silicon substrate by immersing. The studies were performed by ellipsometric and spectrophotometric methods to determine optical characteristics of the films such as dispersion dependences of refractive indices or extinction coeffi cients. Moreover, the thickness and porosity of the films were determined. The silica layers are used as antireflective coatings and components of planar optical fibres due to low values of refractive index (1,22-1,25).

Słowa kluczowe

PL

porowata krzemionka; metoda zol-żel; elipsometria spektroskopowa

EN

porous silica; sol-gel method; spectroscopic ellipsometry

• Wydawca: Polskie Towarzystwo Ceramiczne
• Czasopismo: Materiały Ceramiczne
• Rocznik: 2012
• Tom: T. 64, nr 2
• Strony: 282--285
• Opis fizyczny: Bibliogr. 11 poz., rys., tab.

Twórcy

autor

Skoczek E.

autor

Cisowski J.

autor

Karasiński P.

autor

Jaglarz J.

autor

Jarząbek B.

• Politechnika Krakowska, Instytut Fizyki, ul. Podchorążych 1, 30-084 Kraków,

Bibliografia

• [1] Brinker C.J., Scherer G.W.: Sol–gel Science: The Physics and Chemistry of Sol–Gel Processing, Academic Press, Inc., San Diego, (1990).
• [2] Liu Y., Ren W., Zhang L., Yao X.: „New method for making porous SiO2 thin films”, Thin Solid Films, 353, (1999), 124- 128.
• [3] Karasiński P.: „Influence of aging and annealing on the properties of silica films produced with sol–gel method”, Optica Applicata, 36, (2–3), (2006), 389-399.
• [4] Li L., Zhang L., Yao X.: „Preparation and characterization of thick porous SiO2 fi lm for multilayer pyroelectric thin film IR detector”, Ceram. Int., 30, (2004), 1842–1846.
• [5] Murakata T., Sato S., Ohgawara T., Watanabe T., Suzuki T.: „Control of pore size distribution of silica gel through sol–gel process using inorganic salts and surfactants as additives”, J. Mater. Sci., 27, (1992), 1567–1574.
• [6] Avnir D., Kaufman V.R., Reisfeld R.: „Organic fluorescent dyes trapped in silica and silica–titania thin films by the sol–gel method. Photophysical, film and cage properties”, J. Non-Cryst. Solids, 74, (1985), 395–406.
• [7] Fan H., Bentley H.R., Kathan K.R., Clem P., Lu Y., Brinker C.J.: „Self-assembled aerogel-like low dielectric constant films”, J. Non-Cryst. Solids, 285, (2001), 79–83.
• [8] Karasiński P., Jaglarz J., Reben M., Skoczek E., Mazur J.: „Porous silica xerogel films as antireflective coatings – Fabrication and characterization”, Optical Materials, 33, (2011), 1989-1994.
• [9] Azzam R.M.A., Bashara N.M.: Ellipsometry and Polarized Light, North-Holland, Amsterdam, (1987).
• [10] Aspnes D.E.: „Optical properties of thin fi lms”, Thin Solids Films, 89, (1 982), 249-262.
• [11] Cisowski J., Jarząbek B., Jurusik J., Domański M.: „Direct determination of the refraction index normal dispersion for thin films of 3, 4, 9, 10- perylene tetracarboxylic dianhydride (PTCDA)”, Optica Applicata, 42, (2012), 181-192.