Właściwości fotokatalityczne cienkich warstw TiO2:Ag

• Autorzy: Jasiński M. , Trenczek-Zając A. , Radecka M.

Warianty tytułu

EN

Photocatalytic properties of TiO2:Ag thin films

• Języki publikacji: PL

Abstrakty

PL

Cienkie warstwy TiO2 otrzymano metodą reaktywnego rozpylenia jonowego w systemie r.f. Powierzchnię warstw TiO2 modyfikowano nieciągłą warstwą srebra. Srebro nanoszono metodą foto-rozkładu roztworu wodnego AgNO3. Badano wpływ srebra na właściwości mikrostrukturalne i fotoelektrochemiczne cienkich warstw. Strukturę krystalograficzną i morfologię określono przy zastosowaniu GID i SEM. Stopień utlenia jonów srebra i tytanu warstw badano metodą XPS. Fotoanody TiO2 z nieciągłą warstwą srebra wykazują dużo lepszą charakterystykę fotoelektrycznego ogniwa PEC, niż niemodyfikowane elektrody.

EN

Titanium dioxide thin films are deposited by means of rf reactive sputtering. Surfaces of the films are modified by formation of discontinuous silver layers. Photo-deposition method of silver is applied using water solution of AgNO3. The effect of Ag on the microstructure and photoelecrochemical properties of thin film has been studied. The crystallographic structure and morphology of the films have been investigated by means of GID and SEM. The valence of silver and titanium ions has been studied by XPS. The photoanodes of TiO2 with modified Ag layers show significantly better properties in photoelectrochemical cells PEC, than those unmodified.

Słowa kluczowe

PL

cienkie warstwy TiO2; TiO2; metoda XPS; dwutlenek tytanu

EN

thin films; TiO2; XPS; titanium dioxide

• Wydawca: Polskie Towarzystwo Ceramiczne
• Czasopismo: Materiały Ceramiczne
• Rocznik: 2006
• Tom: R. 58, nr 1
• Strony: 17--20
• Opis fizyczny: Bibliogr. 17 poz., rys., wykr., tab.

Twórcy

autor

Jasiński M.

autor

Trenczek-Zając A.

autor

Radecka M.

• Wydział Inżynierii Materiałowej i Ceramiki, Akademia Górniczo-Hutnicza w Krakowie, 30-059 Kraków, al. Mickiewicza 30

Bibliografia

• [1] Bolton J.R.: Solar photoproduction of hydrigen: A review, Soi.Energy, 57, 1996, 37-50.
• [2] Mills A., Le Hunte S.: An overview of semiconductor photocatalysis, J. Photochem. Photobiol. A Chem., 108, 1997, 1-35.
• [3] Fujishima A.K., Honda K.: Electrochemical photolysis of water at semiconductor electrode, Nature, 238, 1972, 37-38.
• [4] Radecka M., Zakrzewska K., Wierzbicka M., Gorzkowska A., Komornicki S.: Study of the TiO2-Cr2O3 system for photoelectrolytic decomposition of water, Solid State Ionics, 157, 2003, 379-386.
• [5] Zakrzewska K., Radecka M., Kruk A. and Osuch W.:Noble metal/titanium dioxide nanocermets for photoelectrochemical applications, Solid State Ionics, 157, 2003, 349-356.
• [6] Radecka M., J. Przewoźnik J., Zakrzewska K.: Microstructure and gas-sensing properties of (Sn,Ti)O2 thin films deposited by RGTO technique, Thin Solid Films, 391, 2001, 247-54.
• [7] He J., Yang P., et al: Effects of Ag-photodeposition on photocur-rent of an ITO electrode modified by hybrid film of TiO2 nanoshets, J. Electronanalitical Chemistry, 566, 2004, 227-233.
• [8] Radecka M., Zakrzewska Z., Czternastek H., Stapiński T., Debrus S.: The influence of thermal annealing on the structural, electrical and optical properties of TiO2.K thin films, Appl. Surf. Sci. 65, 1993, 227-234.
• [9] Radecka M., Zakrzewska K.: TiO2-SnO2thin films, Le Vide, Suppl. 279, 1996,137-139.
• [10] Zakrzewska K., Radecka M.: Struktura i własności elektronowe cienkich warstw TiO2.x, Materiały I Kongresu Polskiego Towarzystwa Próżniowego, Kraków 25-27 maj 1998, Wydawnictwo Uniwersytetu Jagiellońskiego, 366-371.
• [11] Zakrzewska K. , Brudnik A., Radecka M., Posadowski W.: Reactively sputtered TiO2.x thin films with plasma-emission-controlled departure from stoichiometry, Thin Solid Films, 343-344,1999, 152-155.
• [12] Radecka M., Zakrzewska K.: Gas adsorption on highly diffusing surfaces of (Sn,Ti)O2 thin films, Surface engineering: In Materials Science I, Edited by S. Seal, N.B. Dahotre, J.J. Moore and B. Mishra, Miner., Met. Mater. Soc, 2000, 267-276
• [13] Rocker G., Gopel W.: Titanium overlayers on TiO2 (110), Surf. Sci., 181, 1987, 530-558.
• [14] McCafferty E, Wightman J.P.: An X-ray photoelectron spectroscopy sputter profile study of the native air-formed oxide film on titanium, Appl. Surf. Sci., 143, 1999, 92-100.
• [15] Gopel W., Anderson J.A., Frankel D., Jaehnig M„ Phillips K, Schafer J.A., Rocker G. Surface defects of TiO2 (110): a combined XPS, XAES and ELS study, Surf. Sci., 139,1984, 333-346.
• [16] KumarP. M., Badrinarayanan S., Sastry M.: NanocrystallineTiO2 studied by optical, FTIR and X-ray photoelectron spectroscopy: correlation to presence of surface states, Thin Solid Films, 358, 2000, 122-130.
• [17] http:/www.lasurface.com/Data_base/Aw_Text_princ_databas.