Nanometryczne warstwy tlenku cynku wytwarzane metodami próżniowymi

• Autorzy: Boryło Paulina , Lukaszkowicz Krzysztof

Identyfikatory

DOI

10.15199/13.2019.9.1

Warianty tytułu

EN

Nanometric zinc oxide films produced by vacuum methods

• Języki publikacji: PL

Abstrakty

PL

Celem artykułu jest porównanie wpływu metody wytwarzania oraz temperatury procesu na własności cienkich warstw tlenku cynku. Zbadano strukturę, morfologię i topografię wytworzonych warstw oraz ich własności optyczne i elektryczne. Badane warstwy ZnO zostały wytworzone w procesie rozpylania magnetronowego oraz osadzania warstw atomowych. Przeprowadzone badania wykazały wpływ metody wytwarzania oraz temperatury procesu na analizowane własności.

EN

The aim of this article is to compare the influence of prepation methods and process temperature on the production effects and properties of zinc oxide thin films. Coducted experiments included investigations of structure, morphology and topography of deposited thin films as well as their optical and electrical properties. Tested ZnO thin films were prepared by magnetron sputtering and atomic layer deposition metods. Results of studies have shown that impact of the manufacturing method and process temperature on the analyzed properties is significant.

Słowa kluczowe

PL

transparentne tlenki przewodzące; tlenek cynku; osadzanie warstw atomowych; ALD; rozpylanie magnetronowe; PVD

EN

transparent conductive oxides; zinc oxide; atomic layer deposition; ALD; magnetron sputtering; PVD

• Wydawca: Wydawnictwo SIGMA-NOT
• Czasopismo: Elektronika : konstrukcje, technologie, zastosowania
• Rocznik: 2019
• Tom: Vol. 60, nr 9
• Strony: 6--10
• Opis fizyczny: Bibliogr. 8 poz., rys., tab., wykr.

Twórcy

autor

Boryło Paulina

• Politechnika Śląska, Instytut Materiałów Inżynierskich i Biomedycznych

autor

Lukaszkowicz Krzysztof

• Politechnika Śląska, Instytut Materiałów Inżynierskich i Biomedycznych

Bibliografia

• [1] Ali, H.M., H.A. Mohamed, S.H. Mohamed, (2005) “Enhancement of the optical and electrical properties of ITO thin films deposited by electron beam evaporation technique", The European Physical Journal Applied Physics 31: 87-93.
• [2] Ellmer, Klaus, Andreas Klein, Bernd Rech, (2008) Transparent Conductive Zinc Oxide. Basics and Applications in Thin Film Solar Cells, Springer-Verlag Berlin Heidelberg.
• [3] Hosono, H., H. Ohta, M. Orita, K. Ueda, M. Hirano, (2002) “Frontier of transparent conductive oxide thin films", Vacuum 66: 419-425.
• [4] Ilican, S., M. Caglar, Y. Caglar, (2007) “Determination of the thickness and optical constants of transparent indium-doped ZnO thin films by the envelope method", Materials Science-Poland 25: 709-718.
• [5] Nalwa, Hari S., (2002) Handbook of thin film materials Vol. 1, Deposition and processing of thin films, Academic Press, San Diego.
• [6] Pinna, Nicola, Mato Knez, (2012) Atomic Layer Deposition of Nanostructured Materials, Wiley-VCH, Weinheim.
• [7] Silva, Érica P. da, Michel Chaves, Steven F. Durrant, Paulo N. Lisboa-Filho, José R.R. Bortoleto, (2014) “Morphological and electrical evolution of ZnO:Al thin films deposited by RF magnetron sputtering onto glass substrates", Materials Research 17: 1384-1390.
• [8] Wu, Hung W., Ru Y. Yang, Chin M. Hsiung, Chien H. Chu, (2013) “Characterization of aluminum-doped zinc oxide thin films by RF magnetron sputtering at different substrate temperature and sputtering power", Journal of Materials Science Materials in Electronics 41: 166-171.

Uwagi

Opracowanie rekordu w ramach umowy 509/P-DUN/2018 ze środków MNiSW przeznaczonych na działalność upowszechniającą naukę (2019).