PL EN


Preferencje help
Widoczny [Schowaj] Abstrakt
Liczba wyników
Powiadomienia systemowe
  • Sesja wygasła!
Tytuł artykułu

Nanometale : wybrane technologie wytwarzania

Wybrane pełne teksty z tego czasopisma
Identyfikatory
Warianty tytułu
EN
Nanomatals : selected production technologies
Języki publikacji
PL
Abstrakty
PL
W artykule przedstawiono wybrane zagadnienia dotyczące nanotechnologii i nanomateriałów. Główną uwagę skupiono na omówieniu najczęściej stosowanych technologii wytwarzania nanometali metodami bottom-up (z pojedynczych atomów lub cząstek). Szczegółowo przedstawiono otrzymywanie nanometali w wyniku osadzania z fazy gazowej (zarówno fizyczne osadzanie z fazy gazowej PVD, jak i chemiczne osadzanie z fazy gazowej CVD) i ciekłej (osadzanie elektrolityczne, metody zol-żel).
EN
This paper presents selected topics on nanotechnology and nanomaterials. The main attention is focused on the discussion of the most common methods of nanometals manufacturing technology using methods called bottom-up (from single atoms or molecules). Fabrication of nanometals by vapor deposition was presented in detail (both physical vapor deposition PVD and chemical vapor deposition CVD) and liquid (electrolytic deposition, sol-gel methods).
Rocznik
Strony
95--107
Opis fizyczny
Bibliogr. 21 poz., wz., il.
Twórcy
autor
  • Instytut Chemii i Technologii Nieorganicznej, Wydział Inżynierii i Technologii Chemicznej, Politechnika Krakowska
autor
  • Instytut Chemii i Technologii Nieorganicznej, Wydział Inżynierii i Technologii Chemicznej, Politechnika Krakowska
autor
  • Instytut Chemii i Technologii Nieorganicznej, Wydział Inżynierii i Technologii Chemicznej, Politechnika Krakowska
autor
  • Instytut Chemii i Technologii Nieorganicznej, Wydział Inżynierii i Technologii Chemicznej, Politechnika Krakowska
Bibliografia
  • [1] Jurczyk M., Nanomateriały. Wybrane zagadnienia, Wydawnictwo Politechniki Poznańskiej, Poznań 2001.
  • [2] Jurczyk M., Jakubowicz J., Nanomateriały ceramiczne, Wydawnictwo Naukowe PWN, Warszawa 2004, 60-99.
  • [3] Dobrzański L.A., Podstawy nauki o materiałach i metaloznawstwo. Materiały inżynierskie z podstawami projektowania materiałowego, Wydawnictwo Naukowo-Techniczne, Warszawa 2002, 37-138.
  • [4] Tengen T.B., Wejrzanowski T., Iwankiewicz R., Kurzydłowski K.J., Stochastic modelling in design of mechanical properties of nanometals, Materials Science and Engineering A, 527, 2012, 3764-3768.
  • [5] Kurzydłowski K., Lewandowska M., Nanomateriały inżynierskie konstrukcyjne i funkcjonalne, Wydawnictwo Naukowe PWN, Warszawa 2010, 130-185.
  • [6] Kelsall R.W., Hamley I.W., Geoghegan M., Nanotechnologie, Wydawnictwo Naukowe PWN, Warszawa 2009, 37-259.
  • [7] Wolfe D.E., Singh J., Narasimhan K., Synthesis and characterization of multilayered TiCyTiB2 coatings deposited by ion beam assisted, electron beam–physical vapor deposition (EB–PVD), Surface and Coatings Technology, 165, 2003.
  • [8] Szczepański Z., Okoniewski S., Technologia i materiałoznawstwo dla elektroników, WSiP, 2007, 8-25.
  • [9] Tekst dostępny w Internecie (http://brasil.cel.agh.edu.pl/~11sashot/strona.php?t=tw&h=rj&v – dostęp: 28.01.2013).
  • [10] Smardz K., Własności magnetyczne warstw wielokrotnych Co/Ti i Co/Zr w pobliżu przejścia od nano- do polikrystalicznej struktury, praca doktorska, Instytut Fizyki Molekularnej PAN, 1999, 192-200.
  • [11] Mattox D.M., Physical vapour deposition. Processes, Society of Vacuum Coaters.
  • [12] Palka J., Budowa, właściwości, wytwarzanie i zastosowanie nanomateriałów, Rudy Metale, 52, 1, 2007, 22-32.
  • [13] Tekst dostępny w Internecie (http://brasil.cel.agh.edu.pl/~11sashot/strona.php?t=tw&h=cvd&v= – dostęp: 28.01.2013).
  • [14] Rudnik S., Metaloznawstwo, Wydawnictwo Naukowe PWN, Warszawa 1998.
  • [15] MOCVD (http://www.if.pw.edu.pl/~adamow/mocvd/).
  • [16] Konuma M., Film Deposition by Plasma Techniques, Springer–Verlag, 1992.
  • [17] Tekst dostępny w Internecie (http://plazma.certigo.com.pl/cvd.htm – dostęp: 28.01.2013).
  • [18] Bicelli L.P., Bozzini B., Mele C., D’Urzo L., A Review of Nanostructural Aspects of Metal Electrodeposition, International Jurnal of Electrochemical Science, 3, 2008, 356-408.
  • [19] Jurczyk M., Jakubowicz M., Gebel B., Handstein A., Gutfleisdh O., Müller K. H., Nd2(Fe, Co, M)14B type powders produced by the HDDR process, Journal of Alloys and Compounds, 292, 1999, 296-300.
  • [20] Nakasoa K., Hanb B., Ahnc K.H., Choib M., Okuyamaa K., Synthesis of non-agglomerated nanoparticles by an electrospray assisted chemical vapor deposition (ES-CVD) method, Journal of Alloys and Compounds, 34, 2003, 869-881.
  • [21] Anderbouhra S., Ghettab V., Blanqustb E., Chabrola C., Schustera F., Bernardb C., Madarc R., LPCVD and PACVD (Ti, Al)N films: morphology and mechanical properties, Surface and Coatings Technology, 115, 1999, 103-110.
Typ dokumentu
Bibliografia
Identyfikator YADDA
bwmeta1.element.baztech-ac3cf594-9e72-4d4d-8cc4-52c1a770a1c1
JavaScript jest wyłączony w Twojej przeglądarce internetowej. Włącz go, a następnie odśwież stronę, aby móc w pełni z niej korzystać.