Using Plasma Metallisation for Manufacture of Textile Screens Against Electromagnetic Fields

• Autorzy: Ziaja J. , Koprowska J. , Janukiewicz J.

Warianty tytułu

PL

Wykorzystanie metalizacji plazmowej do otrzymywania włókninowych ekranów przed polami elektromagnetycznymi

• Języki publikacji: EN

Abstrakty

EN

In this study, a method of the metallisation of polypropylene (PP) nonwovens is presented. The influence of power dissipated in the target on the efficiency of screening a flat electromagnetic wave is discussed. Fabric metallisation was carried out using the standard magnetron sputtering process of Zn-Bi metal targets in argon ambient. A pulse current source with a changing group frequency was used for powering the target. The metallic layers obtained were characterised by good adhesion to PP, with a screening efficiency approaching 45 dB.

PL

W artykule zaprezentowano metodę metalizacji włóknin polipropylenowych (PP). Przedyskutowano wpływ mocy wydzielanej na targacie na skuteczność ekranowania płaskiej fali elektromagnetycznej. Do metalizacji materiału został zastosowany standardowy proces rozpylania magnetronowego targetu metalicznego Zn-Bi w atmosferze argonu. Target zasilano impulsowym źródłem prądu ze zmienną częstotliwością grupową. Warstwy metaliczne charakteryzowały się dobra przyczepnością do podłoża polipropylenowego i skutecznością ekranowania zbliżoną do 45 dB.

Słowa kluczowe

EN

magnetron sputtering; screens against electromagnetic fields; Zn

PL

rozpylanie magnetronowe; ekranowanie pola elektromagnetycznego; Zn

• Wydawca: Sieć Badawcza Łukasiewicz - Łódzki Instytut Technologiczny
• Czasopismo: Fibres & Textiles in Eastern Europe
• Rocznik: 2008
• Tom: Vol. 16, no. 5 (70)
• Strony: 64--66
• Opis fizyczny: Bibliogr. 7 poz., rys.

Twórcy

autor

Ziaja J.

• Institute of Electrical Engineering Fundamentals, Wrocław University of Technology, Wybrzeże Wyspiańskiego 27, 50-370 Wrocław, fax: [phone]

autor

Koprowska J.

• Textile Research Institute, Brzezińska 5/15 , 92-103 Łódź

autor

Janukiewicz J.

• Institute of Telecommunication, Teleinformatics and Acoustics, Wrocław University of Technology Wybrzeże Wyspiańskiego 27, 50-370 Wrocław

Bibliografia

• 1. Ziaja J., Zubel Z., Dielectric Spectroscopy of thin PTFE layers, Progress in electroskopy. 6th Scientific Conference. Jamrozowa Polana, 20-22.09.2006. (Scientific work of the Institute of Fundamental Elektrotechnic and Electrotechnology of the Technical University of Wrocław No. 44, Conferences; ISSN 0324-9441; No. 18), pp. 369-372.
• 2. Purica M., Budianu E., Rusu E., Heterojunctions with ZnO polycrystalline Thin Films for Optoelectronic Devices Application, Microelectronic Engineering, 51-52, 2000, pp. 425-431.
• 3. Sarto M.S., Li Voti R., Sarto F., Larciprete M.C., Nanolayered Lightweight Flexible Shields with Multidirectional Optical Transparency – IEEE Trans. on EMC, vool.47, No 3, August 2005.
• 4. Bula K., Koprowska J., Janukiewicz J., Application of Cathode Sputtering for Obtaining Ultra-thin Metallic Coatings on Textile Products – Fibres & Textiles In EE, January/December 2006, Vol. 14, No.5 (59), s. 75-79.
• 5. Wei Q.F., Xu W.Z., Ye H., Huang F.L., Surface Functionalization of Polymer Fibres by Sputtering Coating – J. Industrial Textiles , vol. 35, No. 4 , 2006.
• 6. ASTM D 4935-99, Standard Test Method for Measuring the Electromagnetic Shielding Effectiveness of Planar Materials, ASTM, June 1999.
• 7. Więckowski T.W. & Janukiewicz J.M.: Method for Evaluating the Shielding Effectiveness of Textiles, FIBRES & TEXTILES in Eastern Europe, January/Decem