PL EN


Preferencje help
Widoczny [Schowaj] Abstrakt
Liczba wyników
Tytuł artykułu

Badania wpływu koncentracji ścierniwa i intensywności dawkowania zawiesiny na efekty docierania jednotarczowego

Autorzy
Wybrane pełne teksty z tego czasopisma
Warianty tytułu
EN
Examination of impact of abradant concentration and suspension dosage intensity on single-disk lapping results
Konferencja
XXXVIII Naukowa Szkoła Obróbki Ściernej, Łódź-Uniejów, 09-11.09.2015
Języki publikacji
PL
Abstrakty
PL
Omówiono techniki dawkowania zawiesiny ściernej w docierarkach do płaszczyzn. Przedstawiono wyniki badań wpływu koncentracji mikroziaren ściernych w dawkowanej zawiesinie na wydajność i jakość obróbki powierzchni płaskich. Analizowano wpływ podstawowych warunków docierania materiałów ceramicznych z uwzględnieniem intensywności dawkowanego ścierniwa.
EN
In the paper techniques of abrasive suspension dosage in lapping tools for plains were discussed. Findings of the influence of the abrasive micrograins concentration suspension in administered suspension to the productivity and the quality of flat areas machining were presented. An influence of essential machining conditions of ceramic materials including abradant’s dosing intensity was being analyzed.
Czasopismo
Rocznik
Strony
20--24
Opis fizyczny
Bibliogr. 10 poz., rys.
Twórcy
autor
  • Politechnika Gdańska
Bibliografia
  • 1. Bakoń A., Barylski A., Preparaty na bazie nano- i mikrodiamentów do operacji docierania i polerowania. Mechanik, 8-9, 8-12/720, 2014.
  • 2. Barylski A., Docieranie powierzchni płaskich na docierarkach. Wydawnictwo Politechniki Gdańskiej, Gdańsk, 2013.
  • 3. Barylski A., Technological problems in Lapping on Flat Surfaces of Ceramic parts. Solid State Phenomena, 199, 627-632, 2013.
  • 4. Marinescu I. D.,Uhlmann E., Doi T. K., Handbook of Lapping and Polishing. Manufacturing Engineering and Materials Processing. CRC Press, Taylor & Francis Group, 2007.
  • 5. Klocke F., Manufacturing Processes 2 - Grinding, Honing, Lapping. Springer-Verlag, Berlin - Heidelberg 2009.
  • 6. Patent nr 4678119. Abrasive slurry supply system for use in metallographic sample preparation. Twórca wynal.: Ralph R. Doyle, http://www.google.com/patents/ US4678119 [dostęp 3.04.2011].
  • 7. Patent nr 4784295. Slurry dispensing system having self-purging capabilities. Twórca wynal.: Allan L. Holmstrand, http://www.google.com/patents/US4784295?hl=pl [dostęp 12.09.2012]
  • 8. Materiały informacyjne firmy Lapmaster, http://www.communicatevirtuallyanything.com/Challenge_Info/Business_Challenges/6_Complex/Lapmaster_Corporate.pdf [dostęp 1.05.2012]
  • 9. Materiały informacyjne wyrobów DiaDuo-2 firmy Struers, http://www.struers.com/resources/elements/12/190190/DiaDuo-2_BrochureEnglish.pdf [dostęp 15.09.2012]
  • 10. Materiały informacyjne firmy Peter Wolters, http://www.peter-wolters.com/archiv/technologies/downloads/LappfibelD.pdf [dostęp 28.04.2012].
Typ dokumentu
Bibliografia
Identyfikator YADDA
bwmeta1.element.baztech-9a230b46-7188-43d2-961f-3c0fb5df71ef
JavaScript jest wyłączony w Twojej przeglądarce internetowej. Włącz go, a następnie odśwież stronę, aby móc w pełni z niej korzystać.