Domieszkowanie donorowe Si ze źródła ciekłego do zastosowania w produkcji ciągłej ogniw słonecznych

• Autorzy: Panek P. , Drabczyk K. , Socha R. P.

Warianty tytułu

EN

Donor doping of silicon from the liquid source applied in the solar cells continuous production

• Języki publikacji: PL

Abstrakty

PL

Niniejsza praca omawia możliwości użycia kwasu H₃PO₄, jako źródła domieszki donorowej do krzemu typu p w kontekście zastosowania otrzymanej struktury w celu wytwarzania krzemowych ogniw słonecznych metodą produkcji ciągłej. Opracowaną metodą uzyskano emiter typu n o żądanych wartościach rezystancji warstwowej w przedziale 10...90 Ω/. Na bazie otrzymanej struktury wytworzono ogniwa słoneczne o sprawności konwersji fotowoltaicznej ponad 15%. W artykule omówiono także technologiczne czynniki wpływające na parametry charakterystyki prądowo-napięciowej i sprawności fotokonwersji wytworzonych ogniw słonecznych.

EN

This paper discusses the possibility of application of H₃PO₄, acid in a spray source of dopant donor into the p type silicon. The method can be used in production of silicon solar cells in a continuous manufacturing process. The n-type emitter was obtained by this procedurę leading to layer resistance in the range of 10...90 Ω/. The silicon solar cell was produced with the use of spray technology and characterized by conversion efficiency over 15%. The technological factors affecting the current-voltage characteristic and conversion efficiency of the solar cells have been discussed.

Słowa kluczowe

PL

proces dyfuzji domieszki; ogniwo słoneczne

EN

doping process; solar cells

• Wydawca: Wydawnictwo SIGMA-NOT
• Czasopismo: Elektronika : konstrukcje, technologie, zastosowania
• Rocznik: 2013
• Tom: Vol. 54, nr 8
• Strony: 88--90
• Opis fizyczny: Bibliogr. 4 poz., wykr., tab.

Twórcy

autor

Panek P.

• Instytut Metalurgii i Inżynierii Materiałowej PAN, Kraków

autor

Drabczyk K.

• Instytut Metalurgii i Inżynierii Materiałowej PAN, Kraków

autor

Socha R. P.

• Instytut Katalizy i Fizykochemii Powierzchni im. J. Habera PAN, Kraków

Bibliografia

• [1] Rauter G., Csatáry P., Schneider H., Beigl M.: Scaling challenges for photovoltaic manufacturing facilities. Photovoltaics International, 3 (2009) 14-23.
• [2] Ebong A., Cooper I. B., Rounsaville B., Tate K., Rohatgi A., Bunkenburg B., Cathey J., Kim S., Ruf D.: High efficiency inline diffused emitter (ILDE) solar cells on mono-crystalline CZ silicon. Progress in Photovoltaics: Research and applications, 18 (2010) 590-595.
• [3] Hoornstra J., van Strien W., Lamers M., Tool K., Weeber A.: High throughput in-line diffusion: emitter and cell results. Proc. of the 22nd EPSEC, 3-7 September 2007, Milan, Italy, 1586-1588.
• [4] Bazer-Bachi B., Sabac A., Monna R., Jourdan J., Lemiti M.: Back to back technique for P and B doping using planar source diffusion. Proc. of the 22nd EPSEC, 3-7 September 2007, Milan, Italy, 1458-1462.