Model niekonwencjonalnego azotowania jarzeniowego tytanu technicznego

• Autorzy: Frączek T. , Jeziorski L. , Olejnik M.

Warianty tytułu

EN

Model of unconventional glow discharge nitriding of CP titanium

• Języki publikacji: PL

Abstrakty

PL

W pracy prowadzono analizę wpływu warunków procesu azotowania jarzeniowego w atmosferze azotowo-wodorowej na właściwości warstwy wierzchniej podłoża tytanu technicznego Ti99,2. Opracowano model azotowania jarzeniowego materiału podłoża. Proces azotowania jarzeniowego prowadzono za pomocą urządzenia do azotowania typu JON-600. Ustalono, że proces azotowania na katodzie, a także wprowadzenie ekranu aktywnego, prowadzi do zwiększenia stężenia azotu w warstwie wierzchniej, także objętości względnej azotków. Czynnikiem determinującym charakterystykę jakościową i ilościową zjawisk zachodzących w obecności ekranu aktywnego jest uzyskanie dużego stężenia oraz dużej wartości energii jonów azotu oddziaływujących z podłożem w procesie azotowania.

EN

In the work analysis of the influence of various parameters of the ionitriding process in H2 + N2 atmosphere on the properties of the surface layer of CP titanium Ti99.2 was carried out. It has allowed the authors to elaborate the model of CP titanium ionitriding. The equipment used in the experimental work was a current glow-discharge furnace JON-600. It was found that the process of cathode nitriding and use of an active screen leads to an increase in the concentration of nitrogen in the surface layer and the relative volume of the nitrides. A factor which determines the qualitative and quantitative characteristics of the phenomena which occur in the presence of the active screen is the high concentration and high level of nitrogen ions energy which interact with the base material during nitriding.

Słowa kluczowe

PL

tytan techniczny; azotowanie jarzeniowe; ekran aktywny

EN

technical titanium; glow discharge nitriding; active screen

• Wydawca: Wydawnictwo SIGMA-NOT
• Czasopismo: Inżynieria Materiałowa
• Rocznik: 2012
• Tom: Vol. 33, nr 4
• Strony: 240--243
• Opis fizyczny: Bibliogr. 15 poz., rys., tab.

Twórcy

autor

Frączek T.

• Wydział Inżynierii Procesowej, Materiałowej i Fizyki Stosowanej, Politechnika Częstochowska

autor

Jeziorski L.

• Wydział Inżynierii Procesowej, Materiałowej i Fizyki Stosowanej, Politechnika Częstochowska

autor

Olejnik M.

• Wydział Inżynierii Procesowej, Materiałowej i Fizyki Stosowanej, Politechnika Częstochowska

Bibliografia

• [1] Burakowski T., Wierzchoń T.: Inżynieria powierzchni. WNT, Warszawa (1995).
• [2] Wierzchoń T.: Współczesne kierunki rozwoju inżynierii powierzchni. Konferencja „Problemy metaloznawstwa w technice XXI wieku”, Cedzyna k/Kielc,2000, Zeszyty Naukowe Politechniki Świętokrzyskiej, seria Mechanika, nr 72, Wydawnictwo Politechniki Świętokrzyskiej, Kielce (2000) 55÷63.
• [3] Burakowski T.: Rozwój obróbki cieplnej na przestrzeni 4000 lat i co dalej? Konferencja „Problemy metaloznawstwa w technice XXI wieku”, Cedzyna k/Kielc, 2000, Zeszyty Naukowe Politechniki Świętokrzyskiej, seria Mechanika, nr 72, Wydawnictwo Politechniki Świętokrzyskiej, Kielce (2000) 33÷54.
• [4] Christiansen Th., Somers M. A. J.: Characterization of low temperature surface hardened stainless steel. Struers Journal of Metallography 9 (2006) 1÷17.
• [5] Baranowska J.: Niskotemperaturowe azotowanie stali austenitycznej. Wydawnictwo Uczelniane Politechniki Szczecińskiej, Szczecin (2007).
• [6] Roliński E.: Azotowanie jonowe tytanu i jego stopów. Prace Naukowe Politechniki Warszawskiej, Mechanika, z. 118 (1988).
• [7] Michalski J.: D.C. Glow discharge in gas under lowered pressure in ion nitriding of armco iron. Journal of Materials Science Letters 19 (2000) 1411÷1414.
• [8] Frączek T., Michalski J.: Rola potencjału plazmy w warunkach wyładowania jarzeniowego prądu stałego w procesie azotowania stali EJ96. Inżynieria Materiałowa 5 (2002) 299÷301.
• [9] Tsujikawa M., Yamauchi N., Ueda U., Sone T., Hirose Y.: Behaviour of carbon in low temperature plasma nitriding layer of austenitic stainless steel. Surface & Coatings Technology 193 (2005) 309÷313.
• [10] Frączek T.: Niekonwencjonalne niskotemperaturowe azotowanie jarzeniowe materiałów metalicznych. Wydawnictwo WIPMiFS, seria: Monografie nr 13, Częstochowa (2011).
• [11] Kölbel J.: Die Nitridschichtbildung bei der Glimmentladung. Forschungsbericht des Landes NW (Nordhein-Westfalen), nr 155, Westdeutscher Verlag, Köln, Opladen (1965).
• [12] Keller K.: Schichtaufbau glimmnitrerter Eisenwerkstoffe. Härterei-Technische- Mitteilung (HTM) 26 (2) (1971) 120÷130.
• [13] Zhao C., Li C. X., Dong H., Bell T.: Study on the active screen plasma nitriding and its nitriding mechanism. Surface & Coatings Technology 201 (2006) 2320÷2325.
• [14] Gallo S. C., Dong H.: On the fundamental mechanism of active screen plasma nitriding. Vacuum 84 (2010) 321÷325.
• [15] Frączek T., Jeziorski L., Michalski J.: Model azotowania jarzeniowego tytanu w atmosferze azotu. Hutnik-Wiadomości Hutnicze 75 (7) (2008) 366÷369.

Uwagi

PL

Praca naukowa finansowana z środków budżetowych na naukę w latach 2010÷2013 jako projekt badawczy nr N N507 296239.