Resistive Ni-W-P layers obtained by chemical metallization method

• Autorzy: Kowalik P. , Pruszowski Z.

Warianty tytułu

PL

Rezystywne warstwy Ni-W-P wytwarzane metodą chemicznej metalizacji

• Języki publikacji: EN

Abstrakty

EN

The paper describes a new method of obtaining of Ni-W-P resistor layers, featuring elevated electrical stability. Such layers may be introduced into the manufacturing process of precise metal film resistor.

PL

Artykuł opisuje nową metodę uzyskiwania warstw rezystywnych Ni-W-P, charakteryzujących się podwyższoną stabilnością elektryczną. Warstwy te mogą być wykorzystane do procesu wytwarzania precyzyjnych rezystorów warstwowych.

Słowa kluczowe

EN

resistive layer; Ni-P; precision resistor; chemical metallization

PL

warstwa rezystywna Ni-P; rezystor precyzyjny; metalizacja chemiczna

• Wydawca: Wydawnictwo SIGMA-NOT
• Czasopismo: Przegląd Elektrotechniczny
• Rocznik: 2015
• Tom: R. 91, nr 9
• Strony: 105--106
• Opis fizyczny: Bibliogr. 7 poz., wykr.

Twórcy

autor

Kowalik P.

• Politechnika Śląska, Wydział Automatyki, Elektroniki i Informatyki, Instytut Elektroniki, ul. Akademicka 16, 44-100 Gliwice

autor

Pruszowski Z.

• Politechnika Śląska, Wydział Automatyki, Elektroniki i Informatyki, Instytut Elektroniki, ul. Akademicka 16, 44- 100 Gliwice

Bibliografia

• [1] Brenner A., Riddell G., U.S. 2,532,283 (1960) Dec 5
• [2] Serota L., Metal Finishing 6 (1962) 47
• [3] Pearlstein G., Metal Finishing 6 (1963) 110-112
• [4] Pruszowski Z., Kowalik P., Waczyński K., Types of Resistive Layers Basing an Alloys of Transition Metals and Semiconductors Produced Using Chemical Reduction Method and Applied for the Production of Fixed Film Resistors, Proc. Of European Microelectronics Packaging and Interconnection Symposium, Cracow, Poland, 16-18 June 2002, 324-327
• [5] Mencer D., Journal of materials and compounds 106, 158,2000
• [6] Li Hexing, Applied surface science 125, 158, 1998
• [7] Takeo J., Chem. Letters 6 (1989) 146