Nanocomposites deposited by reactive magnetron sputtering and their applications

• Autorzy: Tadaszak K.

Warianty tytułu

PL

Nanokompozyty osadzane metodą rozpylania magnetronowego i ich zastosowania

• Języki publikacji: EN

Abstrakty

EN

Nanocomposite thin films are popular in various industries, from electronics, mechanics to photovoltaics, because of their unusual properties. In paper, the possibility of composite deposition with characteristic size 10 to 300 nm (grains or single layers) with the use of reactive magnetron sputtering technology was indicated. The properties of mixture of oxides or nitrides with metal (Al, Ti) were discussed. The electrical and optical properties of nanocomposites were compared with those of clean oxides and then pre-characterized in terms of possible applications.

PL

Cienkie warstwy nanokompozytów ze względu na ciekawe właściwości znajdują coraz szersze zastosowanie w różnych gałęziach przemysłu, od elektroniki, przez mechanikę po fotowoltaikę. W pracy zostały przedstawione możliwości wykorzystania reaktywnego rozpylania magnetronowego do nanoszenia warstw kompozytów o rozmiarach charakterystycznych 10 – 300 nm. Omówione zostały właściwości mieszanin tlenków i azotków z metalami (Al, Ti) i wstępnie scharakteryzowane pod kątem możliwych zastosowań.

Słowa kluczowe

EN

reactive magnetron sputtering; nanocomposites; thin films

PL

rozpylanie reaktywne magnetronowe; nanokompozyty; cienkie warstwy

• Wydawca: Wydawnictwo SIGMA-NOT
• Czasopismo: Przegląd Elektrotechniczny
• Rocznik: 2013
• Tom: R. 89, nr 7
• Strony: 307--309
• Opis fizyczny: Bibliogr. 15 poz., schem., wykr.

Twórcy

autor

Tadaszak K.

• Politechnika Wrocławska, Wydział Elektroniki Mikrosystemów i Fotoniki, ul. Janiszewskiego 11/17, 50-372 Wrocław

Bibliografia

• [1] Aricò A. S., Bruce P. et al., Nanostructured materials for advanced energy conversion and storage devices, Nature materials, 4 (2005), 366-377.
• [2] Berg S., Nyberg T., Fundamental understanding and modeling of reactive sputtering processes, Thin Solid Films, 476 (2005), 2, 215- 230.
• [3] Cavaleiro A., De Hosson J., Nanostructured Coatings, Springer–Verlag, 2006.
• [4] Dora J., Polish Patent No. 313150, 1996.
• [5] Ji B., Gao H., Mechanical properties of nanostructure of biological materials, Journal of the Mechanics and Physics of Solids, 52 (2004), 9, 1963-1990.
• [6] Liu Y., Chen T.P. et al., Charging effect of Al2O3 thin films containing Al nanocrystals, Applied Physics Letters, 93 (2008), 142106.
• [7] Long H., Chen A. et al., Third-order optical nonlinearities in anatase and rutile TiO2 thin films, Thin Solid Films, 517 (2009), 19, 5601-5604.
• [8] Musil J., Hard and superhard nanocomposite coatings, Surface and Coatings Technology, 125 (2000), 1- 3, 322- 330
• [9] Musil J., Bell A. J. et al, Formation of high temperature phases in sputter deposited Ti-based films below 100◦C, Journal of Vacuum Science Technology A, 14 (1996), 4, 2247- 2250
• [10] Posadowski W.M., Wiatrowski A., Dora J., Radzimski Z., Magnetron sputtering process control by medium-frequency power supply parameter, Thin Solid Films, 516 (2008), 14, 4478-4482.
• [11] Revaux A., Dantelle G. et al., Synthesis of YAG: Ce/TiO2 nanocomposite films, Optical Materials, 33 (2011), 7, 1124-1127.
• [12] Siegel R.W., Nanophase Materials, Encyclopedia of Applied Physics, VCH Publishing, Weinheim, Germany, 11 (1994), 173-200.
• [13] Sproul W.D, Christie D.J., Carter D.C., Control of reactive sputtering processes, Thin Solid Films, 491 (2005), 1- 2, 1-17.
• [14] Veprek S., Nesladek P. et al., Recent progress in the superhard nanocrystalline composites: Towards their industrialization and understanding of the origin of the superhardness, Surface and Coatings Technology, 108–109 (1998), 138-147.
• [15] Yu J., Xiong J., Cheng B., Liu S., Fabrication and characterization of Ag–TiO2 multiphase nanocomposite thin films with enhanced photocatalytic activity, Applied Catalysis B: Environmental, 60 (2005), 3- 4, 211-221.