Tytuł artykułu
Autorzy
Treść / Zawartość
Pełne teksty:
Identyfikatory
Warianty tytułu
Języki publikacji
Abstrakty
Słowa kluczowe
Wydawca
Czasopismo
Rocznik
Tom
Strony
24--29
Opis fizyczny
Bibliogr. 9 poz., fot. (w tym kolor.), wykr.
Twórcy
autor
- Zakład Technologii Procesów Materiałowych, Zarządzania i Technik Komputerowych w Materiałoznawstwie, Instytut Materiałów Inżynierskich i Biomedycznych, Wydział Mechaniczny Technologiczny, Politechnika Śląska w Gliwicach
autor
- Zakład Technologii Procesów Materiałowych, Zarządzania i Technik Komputerowych w Materiałoznawstwie, Instytut Materiałów Inżynierskich i Biomedycznych, Wydział Mechaniczny Technologiczny, Politechnika Śląska w Gliwicach
autor
- Zakład Technologii Procesów Materiałowych, Zarządzania i Technik Komputerowych w Materiałoznawstwie, Instytut Materiałów Inżynierskich i Biomedycznych, Wydział Mechaniczny Technologiczny, Politechnika Śląska w Gliwicach
Bibliografia
- [1] B.D. Cullity, Podstawy dyfrakcji promieni rentgenowskich, PWN, Warszawa 1964.
- [2] S. J. Skrzypek, W. Zębala, Zastosowanie nieniszczących metod dyfrakcyjnych do jakościowej oceny warstw wierzchnich (ww), Archiwum Odlewnictwa 21(1/2) (2006) 427-434.
- [3] S. J. Skrzypek, A. Baczmański, W. Ratuszek, E. Kusior, New approach to stress analysis based on grazing-incidence X-ray diffraction, Journal of Applied Crystallography 34 (2001) 427-435
- [4] S.J. Skrzypek, K. Chruściel, M Goły, Nieniszczące dyfrakcyjne metody rentgenowskie charakteryzowania wybranych właściwości materiałów, Badania Nieniszczące - Serwis internetowy poświęcony badaniom nieniszczącym, (serwis 01/08/2012).
- [5] M. Staszuk, Struktura i własności gradientowych powłok PVD i CVD na sialonach i węglikach spiekanych, praca doktorska niepublikowana, Biblioteka Główna Politechniki Śląskiej, Gliwice 2009.
- [6] W. Kwaśny, Prognozowanie własności powłok PVD i CVD na podstawie wielkości fraktalnych opisujących ich powierzchnie, International OCSCO World Press, Gliwice 2009.
- [7] C. D. Wagner, W. M. Riggs, L. E. Davis, J. F. Moulder, G. E. Muilenberg, Handbook of X-Ray Photoelectron Spectroscopy, Physical Electronics Division, Perkin-Elmer Corporation, Eden Prairie, Minnesota 1979.
- [8] R.W. Kelsall, I.W. Hamley, M. Geoghegan, Nanoscale Science and Technology, John Wiley & Sons, Chichester, West Sussex 2005.
- [9] K. Lukaszkowicz, J. Sondor, K. Balin, J. Kubacki, Characteristics of CrAlSiN+DLC coating deposited by lateral rotating cathode arc PVD and PACVD process, Applied Surface Science 312 (2014) 126-133.
Typ dokumentu
Bibliografia
Identyfikator YADDA
bwmeta1.element.baztech-7307939e-6e0c-41e5-9d43-f301dbe1868b