Selektywna metalizacja krzemowego ogniwa fotowoltaicznego

• Autorzy: Kowalik P. , Wróbel E.

Warianty tytułu

EN

Selective metallization of silicon solar cell

• Języki publikacji: PL

Abstrakty

PL

W artykule przedstawiono nowatorski sposób selektywnej metalizacji powierzchni krzemowych na strukturze ogniwa fotowoltaicznego. Przedstawiona technologia umożliwia wytworzenie metalizacji o dowolnie wybranym kształcie na powierzchni ogniwa. Technologia jest prowadzona w temperaturze pokojowej oraz może być w prosty sposób aplikowana do produkcji seryjnej.

EN

This paper presents a novel method for selectively plating on the surface of silicon solar cell structure. The presented technology allows production of metallization of any given shape on the surface of cells. The technology is carried out at room temperature and can be easily applied to mass production.

Słowa kluczowe

PL

metalizacja chemiczna; ogniwo fotowoltaiczne; ogniwo krzemowe

EN

chemical metallization; silicon cell; solar cell

• Wydawca: Wydawnictwo SIGMA-NOT
• Czasopismo: Przegląd Elektrotechniczny
• Rocznik: 2013
• Tom: R. 89, nr 10
• Strony: 103--104
• Opis fizyczny: Bibliogr. 3 poz., rys.

Twórcy

autor

Kowalik P.

• Politechnika Śląska, Instytut Elektroniki

autor

Wróbel E.

• Politechnika Śląska, Instytut Elektroniki

Bibliografia

• [1] Lee E.K. at all, Self-Aligned Ni-P Ohmic Contact Scheme for Silicon Solar Cells by Electroless Deposition, Electronic Materials Letters, Vol. 8, No. 4 (2012), 391-395
• [2] Pruszowski Z., Kowalik P., Waczyński K., Types of Resistive Layers Basing an Alloys of Transition Metals and Semiconductors Produced Using Chemical Reduction Method and Applied for the Production of Fixed Film Resistors, Proc. Of European Microelectronics Packaging and Interconnection Symposium, Cracow, Poland, 16-18 June 2002, 324-327
• [3] Bielinski J., Wybrane zagadnienia procesów bezprądowego osadzania warstw Ni-P, praca habilitacyjna, Politechnika Warszawska 1985