PL EN


Preferencje help
Widoczny [Schowaj] Abstrakt
Liczba wyników
Tytuł artykułu

Influence of modulation frequency on the synthesis of thin films in pulsed magnetron sputtering processes

Identyfikatory
Warianty tytułu
Języki publikacji
EN
Abstrakty
EN
The research on the influence of modulation frequency on the properties of films synthesized using a unique pulsed power supply combined with a standard unbalanced circular magnetron was conducted in the process of pulsed magnetron sputtering (PMS). It was shown that by using different levels of modulation, the composition of plasma (measured by optical emission spectroscopy, OES) as well as film growth rate and morphology (observed with scanning electron microscope, SEM), can be changed. The impact of modulation is related to the used materials and gases and can vary significantly. It was concluded that modulation frequency can greatly influence the synthesis of materials and can be used as an additional parameter in PMS. Specific relations between modulation frequency and synthesized material require further investigation.
Wydawca
Rocznik
Strony
697--703
Opis fizyczny
Bibliogr. 12 poz., rys., tab.
Twórcy
  • National Centre for Nuclear Research, Andrzeja Sołtana 7, 05-400 Otwock, Poland
  • National Centre for Nuclear Research, Andrzeja Sołtana 7, 05-400 Otwock, Poland
autor
  • Faculty of Materials Science and Engineering, Warsaw University of Technology, Wołoska 141, 02-507 Warsaw, Poland
autor
  • Faculty of Materials Science and Engineering, Warsaw University of Technology, Wołoska 141, 02-507 Warsaw, Poland
autor
  • Faculty of Materials Science and Engineering, Warsaw University of Technology, Wołoska 141, 02-507 Warsaw, Poland
autor
  • Faculty of Materials Science and Engineering, Warsaw University of Technology, Wołoska 141, 02-507 Warsaw, Poland
Bibliografia
  • [1] Thornton J., J. Vac. Sci. Technol. A, 11 (1974), 666.
  • [2] Christyakov R., Abraham B., Summer Bulletin, Soc. Vac. Coat., (2009), 46.
  • [3] Posadowski W.M., Wiatrowski A., Dora J., Radzimski Z.J., Thin Solid Films, 516 (2008), 4478.
  • [4] Wiatrowski A., Posadowski W.M., Mater. Sci.-Poland, 34 (2016), 374.
  • [5] Nowakowska-Langier K., Chodun R., Minikayev R., Kurpaska Ł., Skowroński Ł., Strzelecki G.W., Okrasa S., Zdunek K., Nucl. Instrum. Meth. B, 409 (2017), 167.
  • [6] Krówka K., Wiatrowski A., Posadowski W.M., Thin Solid Films, 520 (2012), 4127.
  • [7] Zdunek K., Nowakowska-Langier K., Chodun R., Okrasa S., Rabiński M., Dora J., Domanowski P., Halarowicz J., J. Phys.-Conf. Ser., 564 (1) (2014), 012007.
  • [8] http://www.gencoa.com/balance_and_unbalance, accessed on: 2018.07.18.
  • [9] Ganesan R., Treverrow B., Murdoch B., Xie D., Ross A.E., Partridge J.G., Falconer I.S., Mcculloch D.G., Mckenzie D.R., Bilek M.M.M., J. Phys. D Appl. Phys., 49 (2016), 245201.
  • [10] NIST Atomic Spectra Database Lines, https://www.nist.gov/pml/atomic-spectra-database, accessed on: 2018.07.18.
  • [11] Nowakowska-Langier K., Chodun R., Minikayev R., Okrasa S., Strzelecki G.W., Wicher B., Zdunek K., Thin Solid Films, 645 (2018), 32.
  • [12] http://www.semicore.com/reference/sputtering-yields-reference, accessed on:2018.07.18.
Uwagi
PL
Opracowanie rekordu w ramach umowy 509/P-DUN/2018 ze środków MNiSW przeznaczonych na działalność upowszechniającą naukę (2019).
Typ dokumentu
Bibliografia
Identyfikator YADDA
bwmeta1.element.baztech-6a4a7cb6-f570-4f0a-96a1-f6304dcc13ff
JavaScript jest wyłączony w Twojej przeglądarce internetowej. Włącz go, a następnie odśwież stronę, aby móc w pełni z niej korzystać.