PL EN


Preferencje help
Widoczny [Schowaj] Abstrakt
Liczba wyników
Tytuł artykułu

Analiza właściwości optycznych krzemu teksturyzowanego

Identyfikatory
Warianty tytułu
EN
Analysis of optical properties of textured silicon
Języki publikacji
PL
Abstrakty
PL
Celem przeprowadzonych badań była analiza właściwości optycznych krzemu teksturyzowanego, ze szczególnym uwzględnieniem zastosowania w fotowoltaice. Analizie poddano morfologię powierzchni teksturyzowanych, wymiary geometryczne występujących chropowatości oraz ich wpływ na zmianę współczynnika odbicia, a także transmisji światła. Badanym materiałem był krzem (Si) poddany procesowi teksturyzacji, niepolerowany, a także polerowany, będący próbką porównawczą. Badania przeprowadzono z wykorzystaniem aparatury takiej jak mikroskop i profilometr optyczny oraz spektrofotometr. Analiza wykazała, że przeprowadzona w odpowiedni sposób chemiczna modyfikacja powierzchni krzemu pozwala na obniżenie współczynnika względnie o 76,5% w stosunku do powierzchni polerowanej.
EN
The purpose of the research was analysis of optical properties of textured silicon, with a particular emphasis on their application in photovoltaics. The analysis was subjected to the morphology of the textured surfaces, geometrical dimensions of the occurring roughness and their influence on the change of reflectance, as well as light transmission. The researched material was silicon (Si) with textured surface, unpolished and polished as a comparative sample. The research was carried out using a microscope and an optical profilometer and also a spectrophotometer. The analysis showed that the chemical modification of the silicon surface carried out in a suitable way allows for a reduction of the coefficient to 76.5% in relation to the polished surface.
Rocznik
Strony
17--19
Opis fizyczny
Bibliogr. 7 poz., rys., wykr.
Twórcy
  • Politechnika Wrocławska, Wydział Elektroniki Mikrosystemów i Fotoniki, ul. Janiszewskiego 11/17, 50-372 Wrocław
  • Politechnika Wrocławska, Wydział Elektroniki Mikrosystemów i Fotoniki, ul. Janiszewskiego 11/17, 50-372 Wrocław
autor
  • Politechnika Wrocławska, Wydział Elektroniki Mikrosystemów i Fotoniki, ul. Janiszewskiego 11/17, 50-372 Wrocław
Bibliografia
  • [1] Kulesza Grażyna; Influence of the acidic and alkaline texturization processes on basic opto-electronic parameters of the silicon solar cells, Praca doktorska; s. 41-49.
  • [2] Dobrzański Leszek A., Drygała Aleksandra; (2013) Obróbka laserowa powierzchni krzemu polikrystalicznego; "Inżynieria materiałowa"; s. 661-664.
  • [3] Kulesza Grażyna, Zięba Paweł; (2011) Chemiczna modyfikacja krzemu krystalicznego do zastosowań w fotowoltaice; "Elektronika"; s. 70-73.
  • [4] Banaszyk Katarzyna, Granek Filip, Rola Krzysztof, Zubel, Irena; (2012) Zastosowanie związków powierzchniowo-czynnych do teksturyzacji podłoży krzemowych; "Elektronika"; s. 9-12.
  • [5] Zubel I., Krakowska M., (2008) Development of etch hillocks on different Si(hkl) planes in silicon anisotropic etching, Surface Science 602 1712-1721.
  • [6] Kulesza Grażyna, Panek Piotr, Zięba Paweł, (2012) Charakterystyka optoelektroniczna wysokosprawnych ogniw słonecznych na bazie krzemu krystalicznego otrzymanych w procesie kwasowej teksturyzacji powierzchni, "Elektronika"; s. 95-96.
  • [7] Dziuban J., (2004) Technologia i zastosowanie mikromechanicznych struktur krzemowych i krzemowo-szklanych w technice mikrosystemów, Oficyna wydawnicza Politechniki Wrocławskiej; Wrocław.
Uwagi
1. Opracowanie rekordu w ramach umowy 509/P-DUN/2018 ze środków MNiSW przeznaczonych na działalność upowszechniającą naukę (2018).
2. Praca naukowa finansowana ze środków na działalność statutową Ministerstwa Nauki i Szkolnictwa Wyższego w latach 2017-2018, zlec. nr 0401/0015/17.
Typ dokumentu
Bibliografia
Identyfikator YADDA
bwmeta1.element.baztech-67560161-f663-466a-a5f4-722f488096fc
JavaScript jest wyłączony w Twojej przeglądarce internetowej. Włącz go, a następnie odśwież stronę, aby móc w pełni z niej korzystać.