Rozkłady pola elektrycznego wewnątrz mikrofalowego źródła plazmy (MŹP) typu komora rezonansowa zasilana falowodowo

• Autorzy: Nowakowska H. , Mizeraczyk J.

Warianty tytułu

EN

Electric field distributions in a waveguide-fed resonant-chamber-type microwave plasma source (MPS)

• Języki publikacji: PL

Abstrakty

PL

W artykule przeprowadzono analizę numeryczną właściwości elektrodynamicznych mikrofalowego źródła plazmy typu komora rezonansowa zasilana falowodowo, przeznaczonego do plazmowej obróbki gazów. Zbadano wpływ odległości między elektrodami i przenikalności elektrycznej dielektryka wypełniającego komorę na wartości częstotliwości rezonansowych i rozkłady pola elektromagnetycznego odpowiadające dwóm najniższym rezonansowym. Ponadto zbadano wpływ parametrów plazmy (unormowana koncentracja elektronów i unormowana częstość zderzeń elektronu) na rozkłady pola elektrycznego wewnątrz komory przy pobudzeniu falą o częstotliwości 2,45 GHz. Obliczenia wykonano za pomocą oprogramowania Comsol Multiphysics.

EN

In this paper electric field distributions of a waveguide-fed resonant-chamber-type microwave plasma source are determined numerically solving the wave equation using commercial software. Dependence of the resonant frequencies for different electrodes gap widths and the dielectric insert electric permittivity values is examined. Influence of plasma parameters on electric field distributions inside the MPS is analyzed.

Słowa kluczowe

PL

plazmowa obróbka gazów; komora rezonansowa; oprogramowanie Comsol Multiphysics

EN

microwave plasma; resonant-chamber

• Wydawca: Wydawnictwo Uniwersytetu Morskiego w Gdyni
• Czasopismo: Zeszyty Naukowe Akademii Morskiej w Gdyni
• Rocznik: 2012
• Tom: nr 75
• Strony: 124--136
• Opis fizyczny: Bibliogr. 13 poz., rys.

Twórcy

autor

Nowakowska H.

• Instytut Maszyn Przepływowych im. R. Szewalskiego PAN w Gdańsku

autor

Mizeraczyk J.

• Instytut Maszyn Przepływowych im. R. Szewalskiego PAN w Gdańsku

Bibliografia

• 1. Bayliss K.H., Plasma generator with field-enhancing electrodes, 1995, Patent nr 5, 418,430.
• 2. Beech P.M., Jones S.L., Shawcross J.T., Hydrogen Production, 2007, Patent WO 2007/116225 A1.
• 3. Ginzburg W.L., Fale elektromagnetyczne w plazmie, PWN, Warszawa 1964.
• 4. Jasiński M., Dors M., Nowakowska H., Mizeraczyk J., Hydrogen production using various microwave plasma sources, Chemicke Listy, Vol. 102, 2008, s. 1332–1337.
• 5. Jasiński M., Dors M., Nowakowska H., Nichipor G.V. i in., Production of hydrogen via conversion of hydrocarbons using a microwave plasma, Journal of Physics, D: Applied Physics, Vol. 44, 2011, s. 194–202.
• 6. Jasiński M., Hrycak B., Nowakowska H., Dors M. i in., Investigations of the QinetiQ plasma block. Short summary (Report 11), 2010, Oprac. wew. IMP PAN nr arch. 561/2010.
• 7. Kabouzi Y., Moisan M., Rostaing J.C., Trassy C. i in., Abatement of perfluorinated compounds using microwave plasmas at atmospheric pressure, Journal of Applied Physics, Vol. 93, 2003, s. 9483–9496.
• 8. Litwin R., Suski M., Technika mikrofalowa, WNT, Warszawa 1972.
• 9. Moisan M., Sauve G., Zakrzewski Z., Hubert J., An atmospheric pressure waveguide-fed microwave plasma torch: the TIA design, Plasma Sources Science Technology, Vol. 3, 1994, s. 584–592.
• 10. Petitpas G., Rollier J.D., Darmon A., Gonzalez-Aguila J. i in., A comparative study of non-thermal plasma assisted reforming technologies, International Journal Hydrogen Energy, Vol. 32, 2007, s. 2848–2867.
• 11. Radoiu M., Hussain S., Microwave plasma removal of sulphur hexafluoride, Journal of Hazardous Materials, Vol. 164, 2009, s. 39–45.
• 12. Uhm H.S., Hong Y.C., Shin D.H., A microwave plasma torch and its application, Plasma Sources Science Technology, Vol. 15, 2006, s. 26–34.
• 13. www.comsol.com.