Metoda wyznaczania współczynników załamania na powierzchniach granicznych warstw dielektrycznych z obwiedni charakterystyk odbiciowych

• Autorzy: Krasiński P. , Tyszkiewicz C. , Skolik M. , Błaszczyk T.

Identyfikatory

DOI

10.15199/48.2018.08.14

Warianty tytułu

EN

Method of refractive indices determination on the films interfaces based on reflectances envelopes

• Języki publikacji: PL

Abstrakty

PL

W pracy przedstawiana jest nowa metoda wyznaczania wspólczynników załamania na powierzchniach granicznych warstw dielektrycznych z obwiedni ich widm odbciowych. Podawane są proste wzory na współczynniki załamania na powierzchniach granicznych warstwy, które weryfikowane są teoretycznie i eksperymentalnie. Wyliczone prezentowaną metodą współczynniki załamania używane były w obliczeniach widm odbiciowych, które porównywane są z wyjściowymi widmami eksperymentalnymi.

EN

The presentation shows the new method allowing determination of refractive indices at interfaces of dielectric films. The method is basing on the analysis of envelopes of reflectance spectra. In the presentation there are shown theoretical foundations of simple mathematical formulas, describing refractive index values at film interfaces as well as experimental results that postively verified our method. In the first step, values of the refractive index at films interfaces were determined using our method. In the second step, reflectance spectra were calculated using the values of refractive indices obtained in the first step and compared with measured ones

Słowa kluczowe

PL

spektrofotometria; współczynnik załamania; warstwa dielektryczna; cienka warstwa; widmo odbiciowe

EN

spectrophotometry; refractive index; dielectric film; thin film; reflectance spectra

• Wydawca: Wydawnictwo SIGMA-NOT
• Czasopismo: Przegląd Elektrotechniczny
• Rocznik: 2018
• Tom: R. 94, nr 8
• Strony: 51--54
• Opis fizyczny: Bibliogr. 12 poz., rys.

Twórcy

autor

Krasiński P.

• Politechnika Śląska, Katedra Optoelektroniki, ul. B. Krzywoustego 2, 44-100 Gliwice

autor

Tyszkiewicz C.

• Politechnika Śląska, Katedra Optoelektroniki, ul. B. Krzywoustego 2, 44-100 Gliwice

autor

Skolik M.

• AMA Laboratories, Inc. 216 Congres Road, Building 1, New City, NY 10956, USA

autor

Błaszczyk T.

• Technical University of Denmark, Afdelingen for Informatic, Center for Bachelor of Engineering Studies

Bibliografia

• [1] P. Karasiński, M. Skolik, ,Sol-gel derived antireflective structures for applications in silicon solar cells, Proc. SPIE, 10175, pp.1017517, 2016
• [2] E. Gondek, P. Karasiński, ,High reflectance materials for photovoltaics applications: analysis and modelling, J Mater Sci: Mater Electron, vol. 24, pp. 2934–2943, 2013
• [3] T.D. Lee, A. U. Ebong, A review of thin film solar cell technologies and challenges, Renew Sustain Energy Rev, vol. 70, pp. 1286–1297, 2017
• [4] K. Wörhoff, R. G. Heideman, A. Leinse M. Hoekman, TriPleX: a versatile dielectric photonic platform, Adv. Opt. Techn. vol. 4(2) pp.189–207, 2015
• [5] P. Karasiński, C. Tyszkiewicz, A. Domanowska, A. Michalewicz, J. Mazur, ,Low loss, long time stable sol–gel derived silica–titania waveguide films, Mat. Lett. Vol. 143, pp.5- 7, 2015
• [6] R. M. A. Azzam, N. M. Bashara, Ellipsometry and polarized light, North-Holland, Amsterdam, 1987
• [7] P. Karasiński, C. Tyszkiewicz, R. Rogoziński, J. Jaglarz, J. Mazur, Optical rib waveguides based on sol-gel derived silica– titania films, Thin Solid Films, vol. 519, pp. 5544–5551, 2011
• [8] J.C. Manifacier, J.Gasiot, J.P. Fillard, A simple method for the determination of the optical constants n, k and the thickness of a wekly absorbing thin film, J. Phys. E, vol.9. pp. 1002-1004, 1976
• [9] J.C. Martínez-Antón, Determination of optical parameters in general film-substrate systems: a reformulation based on the concepts of envelop extremes and local magnitudes, Appl. Opt. vol. 39(25) pp.4557-4568, 2000
• [10] J. Szczyrbowski, A. Czapla, On the determination of optical constants of films, J. Phys. D: Appl. Phys., vol. 12, pp. 1737- 1751, 1979
• [11] T. Pisarkiewicz, T. Stapinski, H. Czternastek, P. Rava, Inhomogeneity of amorphous-silicon thin-films from opticaltransmission and reflection measurements, J. Non-Cryst. Solids 137, pp.619–22, 1991
• [12] P. Karasiński, C. Tyszkiewicz, M. Skolik, T. Błaszczyk, A. Kaźmierczak, Determination of non-uniformity of the refractive index in thin films from the reflectance spectra, w przygotowaniu do Optics Express

Uwagi

Opracowanie rekordu w ramach umowy 509/P-DUN/2018 ze środków MNiSW przeznaczonych na działalność upowszechniającą naukę (2018).