Wykorzystanie mikroskopii AFM do wizualizacji efektów prac nad otrzymaniem tlenków cyny SNO2

• Autorzy: Lubańska Z. , Grudniewski T. , Chodyka M.

Warianty tytułu

EN

The SNO2 formation proces observation and visualisation using AFM

• Języki publikacji: PL

Abstrakty

PL

W artykule przedstawiono charakterystyki cienkich warstw SnO2 na czystym szkle. Warstwy SnO2 nanoszone były metodą magnetronowego sputteringu (nanoszenie) na podłoże szklane w różnych temperaturach. Wykorzystano do tego urządzenie Magnetron Line 440. Do badania składu i morfologii warstwy użyto mikroskopii skaningowej i atomowej (STM/AFM). Na podstawie badań stwierdzono, że powłoki wykazują dobre połączenie z materiałem podłoża, charakteryzują się zróżnicowaną chropowatością i są jednorodnie chemiczne.

EN

Atomic force microscopy is one of the most popular method used in surface imaging. This method allows to measure the surface topography and determine the dimensions of the structures in the subatomic resolution [1]. Due to its properties, it can be applied to the measurement of conductors and semiconductor surfaces prepared in various processes. The experiment is fo-cused on SnO2 and ITO thin layers which can be used as transparent electrodes [2]. The authors are trying to illustrate the correlation between process parameters - creation of semiconductor in magnetron sputtering by different process conditions (temperature and cooling process, gas pressure and composition), surface of the sample and its other electrooptical parameters.

Słowa kluczowe

PL

mikroskopia (AFM); SnO2; mikroskopia skaningowa; mikroskopia atomowa; STM; AFM

EN

AFM microscopy; SnO2; scanning microscopy; atomic microscopy; STM; AFM

• Wydawca: Instytut Naukowo-Wydawniczy "TTS" Sp. z o.o
• Czasopismo: TTS Technika Transportu Szynowego
• Rocznik: 2015
• Tom: R. 22, nr 12
• Strony: 944--946, CD
• Opis fizyczny: Bibliogr. 8 poz., tab., rys.

Twórcy

autor

Lubańska Z.

• Państwowa Szkoła Wyższa im. Papieża Jana Pawła II w Białej Podlaskiej, Wydział Nauk Ekonomicznych i Technicznych, Katedra Nauk Technicznych, Zakład Informatyki

autor

Grudniewski T.

• Państwowa Szkoła Wyższa im. Papieża Jana Pawła II w Białej Podlaskiej, Wydział Nauk Ekonomicznych i Technicznych, Katedra Nauk Technicznych, Zakład Informatyki

autor

Chodyka M.

• Państwowa Szkoła Wyższa im. Papieża Jana Pawła II w Białej Podlaskiej, Wydział Nauk Ekonomicznych i Technicznych, Katedra Nauk Technicznych, Zakład Informatyki

Bibliografia

• 1. Bosseboeuf A., Dupeux M., Boutry M., Bourouina T., Bouchier D., Débarre D.: Characterization on W Films on Si and SiO2/Si Substrates by X-Ray Diffraction, AFM and Blister Test Adhe-sion Measurements, Microsc. Microanal. Microstuct. 8 (1997).
• 2. Batzill M., Diebold U.: The surface and materials science of thin oxide, Progress in Surface Science 79 (2005).
• 3. Posadowski W. M., Pulsed magnetron sputtering of reactive compounds, Thin Solid Films, vol. 343–344 (1999).
• 4. Musil J., Baroch P., Vlcek J., Nam K. H., Han J. G.: Reactive magnetron sputtering of thin films: present and trends, Thin Solid Films, vol. 475 (2005).
• 5. Kaczmarek D.: Modyfikacja wybranych właściwości cienkich warstw TiO2, Oficyna Wydawnicza Politechniki Wrocławskiej, Wrocław 2008.
• 6. Gurlo A.: Interplay between O2 and SnO2: Oxygen ionosorption and Spectroscopic Evidence for Adsorbed Oxygen. ChemPhy-sChem, 7 (2006).
• 7. Izydorczyk W., Adamowicz B., Miczek M., Waczyński K.: Computer analysis of an influence of oxygen vacancies on the electronic properties of the SnO2 surface and near-surface region. Physica Status Solidi (a), 203 (2006).
• 8. Luhin V., Zarapin V., Zharski I., Zhukowski P.: Sensorowe właściwości cienkich warstw SnO2 wytwarzanych rozpylaniem magnetronowym, Elektronika. Konstrukcje, Technologie, Zastosowania 11/2011.