The Analysis Of Structure For The Multi-Layered Of Ge/TiO2 Films Prepared By The Differential Pressure Co-Sputtering

• Autorzy: Adachi Y. , Abe S. , Matsuda K. , Nose M.

Identyfikatory

DOI

10.1515/amm-2015-0239

Warianty tytułu

PL

Analiza struktury wielowarstwowych filmów Ge/TiO2 wytwarzanych metodą różnicowo-ciśnieniowego współrozpylania jonowego

• Języki publikacji: EN

Abstrakty

EN

We tried to fabricate the Ge/TiO₂ composite films with the differential pressure (pumping) co-sputtering (DPCS) apparatus in order to improve the optical properties. In the study, the micro structure of these thin films has been evaluated. TEM image revealed that the thin film was alternately layered with TiO₂ and Ge, lattice fringes were observed both of Ge layer and TiO₂ layer. There were portions that lattice fringe of Ge was disturbed near the interface of Ge and TiO₂. X-ray photoelectron spectroscopy elucidated that there were few germanium oxides and a part with the thin film after annealed.

PL

W pracy przedstawiono rezultaty badań mających na celu wytworzenie warstw kompozytowych Ge/TiO₂ wykorzystując aparaturę do różnicowo-ciśnieniowego współrozpylania jonowego (DPCS) w celu poprawy właściwości optycznych. Mikrostruktura warstw została zbadana z zastosowaniem mikroskopii TEM. Analiza TEM wykazała, że cienki film składał się z naprzemiennie ułożonych warstw TiO₂ oraz Ge, a dodatkowo zlokalizowano krawędzie sieci przestrzennych Ge i TiO₂. Rentgenowska spektroskopia fotoelektronów wykazała niewielkie ilości tlenków germanu oraz występowanie cienkiego filmu po procesie wyżarzania.

Słowa kluczowe

EN

TiO2; solar cells; sputtering

PL

TiO2; ogniwa słoneczne; rozpylanie

• Wydawca: Institute of Metallurgy and Materials Science of Polish Academy of Sciences ; Committee of Materials Engineering and Metallurgy of Polish Academy of Sciences
• Czasopismo: Archives of Metallurgy and Materials
• Rocznik: 2015
• Tom: Vol. 60, iss. 2A
• Strony: 963--964
• Opis fizyczny: Bibliogr. 6 poz., rys., wykr.

Twórcy

autor

Adachi Y.

• Graduate School of Science & Engineering for Education, University of Toyama, Japan

autor

Abe S.

• Research Institute for Electromagnetic Materials, Japan

autor

Matsuda K.

• Graduate School of Science & Engineering for Research, University of Toyama, Japan

autor

Nose M.

• Faculty of Art and Design, University of Toyama, Japan

Bibliografia

• [1] S. Abe, M. Ohnuma, D.H. Ping, S. Ohnuma, Applied Physics Express. 1, 095001-1 (2008).
• [2] M. Nose, T. Kurimoto, A. Saiki, K. Matsuda, K. Terayama, J. Vac. Sci. Tecnol. 30, 1 (2012).
• [3] S. Abe, Y. adachi, K. Matsuda, M. Nose, Thin Solid Films. 562, 104 (2014).
• [4] K. Hirayama, K. Yoshino, R. Ueno, Y. Iwamura, H. Yang, D. Wahg, H. Nakashims, Solid-State Electronics. 60, 122 (2011).
• [5] Y. Maeda, N. Tsukamoto, Y. Yazawa, Y. Kanemitsu, Y. Masumoto, Appl. Phys. Lett. 59, 31687 (2014).
• [6] Y. Li, L. Chen, Y. Guo, X. Sun, Y. Wei, Chemical Engineering Journal. 181-182, 734 (2012).

Uwagi

PL

Opracowanie ze środków MNiSW w ramach umowy 812/P-DUN/2016 na działalność upowszechniającą naukę.