Stanowisko do badań czułości widmowej detektorów promieniowania o długości fali 13,5 nm

• Autorzy: Mikołajczyk J. , Bielecki Z.

Warianty tytułu

EN

Laboratory setup for measurement of detector responsivity at the wavelength of 13.5 nm

• Języki publikacji: PL

Abstrakty

PL

W pracy omówiono stanowisko do badań czułości widmowej detektorów promieniowania z zakresu skrajnego nadfioletu. Po raz pierwszy w badaniach tych zastosowano laserowo-plazmowe źródło promieniowania z tarczą gazową. Istotnym elementem tego stanowiska jest dzielnik optyczny z układem zwierciadeł wielowarstwowych. Umożliwia on przeprowadzenie porównawczych pomiarów energii promieniowania za pomocą badanego detektora i wzorcowego miernika. Ogranicza to w znacznym stopniu wpływ niestabilności źródła promieniowania oraz zmianę warunków pomiarowych na dokładność procedury. W pracy przedstawiono wyniki badań poszczególnych elementów zaprojektowanego stanowiska. Dotyczą one wyznaczenia stabilności i wydajności źródła, charakterystyk parametrów zastosowanych układów optycznych oraz właściwości opracowanego dzielnika wiązki. Jednocześnie wyznaczono niepewność pomiarów czułości badanych detektorów za pomocą przyrządu E-Mon i wzorcowego detektora typu AXUV100 firmy National Radation Detectors Inc.

EN

The paper presents a laboratory setup used for a calibration of EUV radiation detectors. For the first time, the laser-plasa source with gas puff target has been applied in such type of measuring procedure. The setup also used an optical beam splitter consisted of two Mo/Si multilayer mirrors. The splitter makes it possible to take comparative measurements by a tested detector and a model energy meter. The instabilities of the source intensity and measurement conditions were minimized in this way. The results of elements investigations of the position were presented. Measurements of the stability and energy efficiency of the radiation source were taken. The features of the beam splitters were determined. The uncertainty of the measuring procedure of detector responsivity at the position was characterized by calibrated E-Mon meter and photodiode model AXUV. A substantial improvement in the calibration systems is demonstrated.

Słowa kluczowe

PL

detekcja promieniowania optycznego; wzorcowanie detektorów

EN

detection of optical signal; detectors calibration

• Wydawca: Wydawnictwo PAK
• Czasopismo: Pomiary Automatyka Kontrola
• Rocznik: 2007
• Tom: R. 53, nr 9 bis
• Strony: 285--288
• Opis fizyczny: Bibliogr. 14 poz., rys., tab., wykr., wzory

Twórcy

autor

Mikołajczyk J.

• Instytut Optoelektroniki WAT, ul. Kaliskiego 2, 00-908 Warszawa

autor

Bielecki Z.

• Instytut Optoelektroniki WAT, ul. Kaliskiego 2, 00-908 Warszawa

Bibliografia

• [1] R. A. Laws: Future trends in high-resolution lithography. Applied Surface Science t. 154-155, 2000, str. 519-526.
• [2] K. Deguchi, T. Haga: Proximity X-ray and extreme ultraviolet lithography. Comptes Rendus de 1 Academie des Sciences Series IV Physics t. 1, 2000, str. 829-842.
• [3] R. Stuik, F. Schobe, J. Tummler, F. Bijkerk: Absolute calibration of a multilayer-based XUV diagnostic. Nuclear Instruments and Methods in Physics Research A t. 492, 2002, str. 305-316.
• [4] T. Missalla, M. C. Schürmann, R. Ubert, C. Wies, L. Juschkin, R. Klein, F. Scholze, G. Ulm, A. Egbert, B. Tkachenko, B. Chichkov: Metrology tools for FUV-sourcc characterization and optimization. Emerging Lithographic Technologies VIII Proc. SPIE t. 5374, 2004, str. 979-990.
• [5] http://w,ww.scmatcch.org/resourcesyiitho/meetings/euv|/20030223a/P06-Schobe-Htgh%20accuracy%20detector%20calibration%20at%20PTB.pdf
• [6] F. Scholze, J. Tummler, G. Ulm: High-accuracy radiometry in the EUV range at the PTB soft x-ray beamline. Metrologia 40. 2003, str. 224-228,
• [7] M. Wedowski, U. Schtegel, J. A. Underwood, E. M. Gullikson, S. Bajt, J. A. Folta, P. A. Kearney, C. Montcalm, R. Soufli. F1A. Spillen High-Precision Reflectomeuy of Multilayer Coatings for Extreme Ultraviolet Lithography. http://www-als.lbl.gov/als/compendiunVAbstractManagei/uploads/99039.pdf.
• [8] Ch. Tarrio, S. Grantham, M. B.Squires, R. E. Vest, T. B. Lucatorto: Towards High Accuracy Reflectomctry for Exuemc-Ultraviolet Lithography. J. Res. Nat. Inst. Stand. Technol. 108. 2003, str. 267-273.
• [9] H. Fiedorowicz, A. Bartnik, M. Szczurek, H. Daido, N. Sakaya, et. al.: Investigation of soft X-ray emission from a gas puff target irradiated with a Nd:YAG laser. Optics Communications t. 163, 1999, str. 103-114.
• [10] S. Kranzusch, K. Mann: Spectral characterization of EUV radiation emitted from a laser irradiated gas-puff target. Optics Communications t. 200, 2001, str. 223-230.
• [11] http://www.scmatcch.org/docubase/document/4498atr.pdf
• [12] J. Mikołajczyk, J. Wojtas, Z. Bielecki: Badania detektorów promieniowania optycznego z zakresu skrajnego nadfioletu. IV Krajowa Konferencja Elektroniki. Darłówko, 2005, str. 435-141
• [13] http://www.cxro.lbl.gov/optical_constants/indcx.html
• [14] http://www.ird-inc.com

Uwagi

PL

Powyższa praca jest wynikiem realizacji projektu badawczego Nr 0004/T00/2005/29