PL EN


Preferencje help
Widoczny [Schowaj] Abstrakt
Liczba wyników
Tytuł artykułu

MOVPE Technology of Fe-Compensated InP Layers for the Quantum Cascade Laser Applications

Autorzy
Treść / Zawartość
Identyfikatory
Warianty tytułu
Języki publikacji
EN
Abstrakty
EN
Quantum cascade laser is one of the most sophisticated semiconductor devices. Its technology requires extremely high precision and layers quality. Device performance is limited by thermal extraction form laser core. One of solutions is to apply highly resistivity epitaxial material acting as insulating layer on top of the QCL. Present work describes consequent steps of elaboration of MOVPE technology of Fe-compensated InP layers for further applications in quantum cascade lasers.
Rocznik
Strony
389--394
Opis fizyczny
Bibliogr. 7 poz., fot., rys., wykr.
Twórcy
  • Faculty of Microsystem Electronics and Photonics, Wrocław University of Science and Technology, Janiszewskiego 11/17, 50-372 Wrocław, Poland
Bibliografia
  • [1] C. Gmachl, F. Capasso, D.L. Sivco, A.Y. Cho, Recent progress in quantum cascade lasers and applications, Rep. Prog. Phys. 64 (2001) 1533–1601. doi:10.1088/0034-4885/64/11/204.
  • [2] J. Faist, F. Capasso, D.L. Sivco, C. Sirtori, A.L. Hutchinson, A.Y. Cho, Quantum Cascade Laser, Science (80-. ). 264 (1994) 553–556. doi:10.1126/science.264.5158.553.
  • [3] M. Bugajski et al., Mid-IR quantum cascade lasers: Device technology and non-equilibrium Green’s function modeling of electro-optical characteristics, Phys. Status Solidi. 251 (2014) 1144–1157. doi:10.1002/pssb.201350322.
  • [4] J. Jaramillo-Fernandez, E. Chavez-Angel, R. Sanatinia, H. Kataria, S. Anand, S. Lourdudoss, C.M. Sotomayor-Torres, Thermal conductivity of epitaxially grown InP: experiment and simulation, CrystEngComm. 19 (2017) 1879–1887. doi:10.1039/C6CE02642G.
  • [5] K.K. Ng, Complete Guide to Semiconductor Devices, John Wiley & Sons, Inc., Hoboken, NJ, USA, 2009. doi:10.1002/9781118014769.
  • [6] S.M. Sze, K.K. Ng, Physics of Semiconductor Devices, John Wiley & Sons, Inc., Hoboken, NJ, USA, 2006. doi:10.1002/0470068329.
  • [7] T. Takanohashi, K. Nakai, K. Nakajima, SIMS and DLTS measurements on Fe-doped InP epitaxial layers grown by MOCVD, Jpn. J. Appl. Phys. 27 (1988) L113–L115. doi:10.1143/JJAP.27.L113.
Uwagi
Opracowanie rekordu ze środków MNiSW, umowa Nr 461252 w ramach programu "Społeczna odpowiedzialność nauki" - moduł: Popularyzacja nauki i promocja sportu (2020).
Typ dokumentu
Bibliografia
Identyfikator YADDA
bwmeta1.element.baztech-4a80a1ea-f580-4d75-be6b-72211f4763bb
JavaScript jest wyłączony w Twojej przeglądarce internetowej. Włącz go, a następnie odśwież stronę, aby móc w pełni z niej korzystać.