Weryfikacja możliwości zastosowania cienkich warstw TiO₂ w charakterze transparentnych pokryć przewodzących ogniw słonecznych różnych typów

• Autorzy: Znajdek K. , Sibiński M. , Tadaszak K. , Posadowski W.

Warianty tytułu

EN

Verification of thin TiO₂ layers possible application as transparent conductive coatings for solar cells

• Języki publikacji: PL

Abstrakty

PL

W artykule przedstawiono właściwości cienkich warstw dwutlenku tytanu wykonanych metodą reaktywnego impulsowego osadzania magnetronowego w różnych wariantach w zależności od parametrów procesu. Warstwy TiO₂, osadzone zarówno na podłożach szklanych jak i na elastycznych foliach polimerowych, zostały poddane charakteryzacji optycznej i elektrycznej w celu weryfikacji możliwości ich zastosowań w charakterze transparentnych warstw przewodzących w strukturach fotowoltaicznych. Dodatkowo, w ramach oceny potencjału zastosowania TiO₂ w elastycznych ogniwach słonecznych, badane warstwy otrzymane na elastycznych podłożach PET zostały przetestowane pod kątem wpływu dynamicznych cykli zginania na zmianę ich rezystancji na kwadrat.

EN

This paper presents properties of titanium dioxide thin films prepared in reactive pulse magnetron deposition method using differential variants of process parameters. Layers of TiO₂ were deposited on both glass and polymer foil substrates. They were characterized in terms of optical and electrical parameters in order to verify their possible application as emitter conductive coatings in photovoltaic structures. Additionally, within the evaluation process of potential TiO₂ application in flexible solar cells, layers deposited on PET foils, were investigated for mechanical durability. They were tested in terms of the influence of dynamic bending cycles on surface resistance per square changes.

Słowa kluczowe

PL

dwutlenek tytanu; ogniwa fotowoltaiczne; transparentne tlenki przewodzące

EN

transparent conductive oxides; photovoltaic cells; titanium dioxide

• Wydawca: Wydawnictwo SIGMA-NOT
• Czasopismo: Elektronika : konstrukcje, technologie, zastosowania
• Rocznik: 2013
• Tom: Vol. 54, nr 5
• Strony: 24--26
• Opis fizyczny: Bibliogr. 10 poz., wykr.

Twórcy

autor

Znajdek K.

• Politechnika Łódzka, Katedra Przyrządów Półprzewodnikowych i Optoelektronicznych

autor

Sibiński M.

• Politechnika Łódzka, Katedra Przyrządów Półprzewodnikowych i Optoelektronicznych

autor

Tadaszak K.

• Politechnika Wrocławska, Wydział Elektroniki Mikrosystemów i Fotoniki

autor

Posadowski W.

• Politechnika Wrocławska, Wydział Elektroniki Mikrosystemów i Fotoniki

Bibliografia

• [1] Kavan L., M. Grätzel, S. E. Gilbert, C. Klemenz, H. J. Scheel:" Electrochemical and Photoelectrochemical Investigation of Single-Crysta Anatase", J. Am. Chem. Soc., vol. 118, p. 6716-6723, 1996.
• [2] Yang G., Z. Jiang, H. Shi, T. Xiao, Z. Yan: „Preparation of highly visible light active N-doped ТiO2 photocatalyst" J. Mater. Chem., vol. 20, pp. 5301-5309, 2010.
• [3] Visai L., L. De Nardo, C. Punta, L. Melone, A. Cigada, M. Imbriani, C. R. Arciola:" Titanium oxide antibacterial surfaces in biomedical devices", Int. J. Artif. Organs., vol. 34, pp. 929-946, 2011.
• [4] Huang J. J., Y. T. Lee: "Self-cleaning and antireflection properties of titanium oxide film by liquid phase deposition", Surface and Coatings Technology, in press, http://dx.doi.org/10.1016/ j.surfcoat. 2012.04.078, 2012.
• [5] Zhao L., X. Zhao, J. Liu, A. Z., D. Wang, B. Wei: "Fabrications of N-doped ТiO2 (TNO) transparent conductive oxide polycrystalline film; on glass substrates by sol-gel method", J. Sol-Gel Sci. Technol., vol 53, pp. 475-479, 2010.
• [6] Dunnill C. W., A. Kafizas, I. P. Parkin: "CVD Production of Doped Titanium Dioxide Thin Films", Chemical Vapor Deposition, vol. 18, pp 89-101, 2012.
• [7] Dabney M. S., M. F. A. M. van Hest, C. W. Teplin, S. P. Arenkiel, J. D. Perkins, D. S. Ginley: "Pulsed laser deposited N-doped ТiO2 as a transparent conducting oxide", Thin Solid Films, vol. 516, pp. 4133-4138, 2008.
• [8] Sakaguchi К., M. Fukazawa, K. Shimakawa, Y. Hatanaka: ,,Highly conductive titanium oxide films by RF magnetron sputtering", Phys. Status Solidi C, vol. 8, pp. 2742-2745, 2011.
• [9] Posadowski W. M., Wiatrowski A., Dora J., Radzimski Z.: Magnetron sputtering process control by medium-frequency power supply parameter, Thin Solid Films, vol. 516, 4478-482, 2008.
• [10] Dora J.: Patent Nr 313150, 1996.