PL EN


Preferencje help
Widoczny [Schowaj] Abstrakt
Liczba wyników
Tytuł artykułu

Mikropalniki zimnej plazmy : nowa generacja reaktorów do chemicznej obróbki powierzchni

Wybrane pełne teksty z tego czasopisma
Identyfikatory
Warianty tytułu
EN
Cold plasma microdischarge jets : a new generation of reactors for surface chemical treatment
Języki publikacji
PL
Abstrakty
PL
Omówiono nowe mikropalniki zimnej plazmy pracujące pod ciśnieniem atmosferycznym. Szczególną uwagę zwrócono na rozwiązania z wyładowaniem jarzeniowym typu RF, takie jak “igła plazmowa” oraz opracowana i opatentowana ostatnio przez nas “żyletka plazmowa”. Przedstawiono dwa przykłady zastosowań mikroplazmy do obróbki materiałów: w zakresie inżynierii polimerów oraz inżynierii biomedycznej. W pierwszym przykładzie omówiono modyfikację powierzchni elastomerów typu SBS, służącą znacznej poprawie zdolności klejenia tych materiałów, w drugim pokazano działanie mikroplazmy na mikroorganizmy, takie jak komórki grzybów Candida albicans.
EN
A review, with 34 refs., of new constructions and uses of cold plasma jets for rubber surface modification and for  disinfection of materials.
Czasopismo
Rocznik
Strony
2339-- 2344
Opis fizyczny
Bibliogr. 34 poz., wykr.
Twórcy
  • Politechnika Łódzka
autor
  • Politechnika Łódzka
  • Politechnika Łódzka
  • Uniwersytet Medyczny w Łodzi
Bibliografia
  • 1. J. Friedrich, The plasma chemistry of polymer surfaces, Wiley-VCH, Weinheim 2012 r.
  • 2. K. Ostricov, Plasma nanoscience, Wiley-VCH, Weinheim 2008 r.
  • 3. Diener plasma GmbH + Co. KG (Germany), www.plasma.de
  • 4. V. Nehra, A. Kumar, H.K. Dwivedi, Int. J. Eng. 2008, 2, 53.
  • 5. F. Iza, G.J. Kim, S.M. Lee, J.K. Lee, J.L. Walsh, Y.T. Zhang, M.G. Kong, Plasma Processes Polymer 2008, 5, 322.
  • 6. R.A. Wolf, Atmospheric pressure plasma for surface modification, Scrivener Publ., Beverley 2013 r.
  • 7. R. Foest, M. Schmidt, K. Becker, Int. J. Mass Spectrom. 2006, 248, 87.
  • 8. B. Hrycak, M. Jasiński, J. Mizeraczyk, Eur. Phys. J. D 2010, 60, 609.
  • 9. S. Emmert, F. Brehmer, H. Haenssle, A. Helmke, N. Mertens, R. Ahmed, D. Simon, D. Wandke, W. Maus-Friedrichs, G. Daeschlein, M.P. Schoen, W. Vioel, Clin. Plasma Med. 2013, 1, 24.
  • 10. E. Stoffels, A.J. Flikweert, W.W. Stoffels, G.M.W. Kroesen, Plasma Sources Sci. Technol. 2002, 11, 383.
  • 11. J. Tyczkowski, J. Zieliński, A. Kopa, I. Krawczyk, B. Woźniak, Plasma Processes Polymer 2009, 6, S419.
  • 12. J. Zieliński, Budowa i charakterystyka mikropalnika plazmy niskotemperaturowej, Praca magisterska, Wydział Inżynierii Procesowej i Ochrony Środowiska, Politechnika Łódzka, Łódź 2007 r.
  • 13. Y.C. Hong, D.H. Shin, S.C. Lee, H.S. Uhm, Thin Solid Films 2006, 506/507, 474.
  • 14. Q.Y. Nie, Z. Cao, C.S. Ren, D.Z. Wang, M.G. Kong, New J. Phys. 2009, 11, 115015.
  • 15. Pat. pol. 212569 (2012).
  • 16. I. Mian, Zbadanie procesu plazmowej modyfikacji powierzchni elastomerów SBS, Praca magisterska, Wydział Inżynierii Procesowej i Ochrony Środowiska, Politechnika Łódzka, Łódź 2011 r.
  • 17. C.P. Klages, A. Hinze, K. Lachmann, C. Berger, J. Borris, M. Eichler, M. von Hausen, A. Zaenker, M. Thomas, Plasma Processes Polymer 2007, 4, 208.
  • 18. J. Amorim, C. Oliveira, J.A. Souza-Correa, M.A. Ridenti, Plasma Processes Polymer 2013, 10, 670.
  • 19. D. Mariotti, R.M. Sankaran, J. Phys. D: Appl. Phys. 2010, 43, 323001.
  • 20. J. McKenna, J. Patel, S. Mitra, N. Soin, V. Svrcek, P. Maguire, D. Mariotti, Eur. Phys. J. Appl. Phys. 2011, 56, 24020.
  • 21. E. Stoffels, Contrib. Plasma Phys. 2007, 47, 40.
  • 22. M.G. Kong, G. Kroesen, G. Morfill, T. Nosenko, T. Shimizu, J. van Dijk, J.L. Zimmermann, New J. Phys. 2009, 11, 115012.
  • 23. K. Shimisu, M. Yamada, M. Kanamori, M. Blajan, IEEE T. Ind. Appl. 2010, 46, 641.
  • 24. G. Lloyd, G. Friedman, S. Jafri, G. Schultz, A. Fridman, K. Harding, Plasma Processes Polymer 2010, 7, 194.
  • 25. J. Tyczkowski, I. Krawczyk, B. Woźniak, Przem. Chem. 2008, 87, 937.
  • 26. J. Tyczkowski, P. Makowski, I. Krawczyk-Kłys, J. Wójcik, J. Adhes. Sci. Technol. 2012, 26, 841.
  • 27. E. Stoffels, R.E.J. Sladek, I.E. Kieft, Phys. Scripta 2004, T107, 79.
  • 28. R.E.J. Sladek, E. Stoffels, J. Phys. D: Appl. Phys. 2005, 38, 1716.
  • 29. I.E. Kieft, D. Darios, A.J.M. Roks, E. Stoffels, IEEE T. Plasma Sci. 2005, 33, 771.
  • 30. E. Stoffels, Contrib. Plasma Phys. 2007, 47, 40.
  • 31. D. Dobrynin, G. Fridman, G. Friedman, A. Fridman, New J. Phys. 2009, 11, 115020.
  • 32. X.M. Shi, G.J. Zhang, Y.K. Yuan, Y. Ma, G.M. Xu, Y. Yang, IEEE T. Plasma Sci. 2006, 36, 408.
  • 33. Y. Song, D. Liu, L. Ji, W. Wang, P. Zhao, C. Quan, J. Niu, X. Zhang, Plasma Processes Polymer 2012, 9, 17.
  • 34. G. Daeschlein, S. Scholz, A. Arnold, S. von Podesils, H. Haase, S. Emmert, T. von Woedtke, K.D. Weltmann, M. Jünger, Plasma Processes Polymer 2012, 9, 380.
Typ dokumentu
Bibliografia
Identyfikator YADDA
bwmeta1.element.baztech-3365023c-9882-4ff5-a73b-10b484011d42
JavaScript jest wyłączony w Twojej przeglądarce internetowej. Włącz go, a następnie odśwież stronę, aby móc w pełni z niej korzystać.