Synteza i rozkład ozonu w warunkach wyładowania barierowego w tlenie

• Autorzy: Jodzis S.

Identyfikatory

DOI

10.15199/62.2016.2.7

Warianty tytułu

EN

Synthesis and decomposition of ozone under conditions of dielectric barrier discharge in oxygen

• Języki publikacji: PL

Abstrakty

PL

Wykazano, że bezpośrednią przyczyną rozkładu ozonu podczas wytwarzania go metodą elektroplazmową jest energia dostarczana do kanałów mikrowyładowań, a więc energia przeznaczona na jego wytworzenie. W zakresie typowych czasów przebywania gazu w ozonatorze rozkład ozonu spowodowany wysoką temperaturą cieczy chłodzącej, a w związku z tym także podwyższoną temperaturą gazu w szczelinie, ma charakter marginalny. Pokazano, że nawet stężony ozon praktycznie nie ulega rozkładowi dopóki nie zachodzą wyładowania.

EN

O₂ was converted to O₃ in electroplasma at residence time 2.5 s and O₃ concn. up to 200 g/m³ to study the reactions of O₃ formation and decompn. The gas temp. did not play any substantial role.

Słowa kluczowe

PL

ozon; tlen; synteza ozonu; rozkład ozonu

EN

ozone; oxygen; ozone synthesis; ozone decomposition

• Wydawca: Wydawnictwo SIGMA-NOT
• Czasopismo: Przemysł Chemiczny
• Rocznik: 2016
• Tom: T. 95, nr 2
• Strony: 219--222
• Opis fizyczny: Bibliogr. 18 poz., wykr.

Twórcy

autor

Jodzis S.

• Wydział Chemiczny, Politechnika Warszawska, ul. Noakowskiego 3, 00-664 Warszawa

Bibliografia

• [1] S. Jodzis, [w:] Występowanie i właściwości ozonu (red. J. Perkowski, R. Zarzycki), PAN Oddział w Łodzi, Komisja Ochrony Środowiska, Łódź 2005, 64–106.
• [2] B. Eliasson, M. Hirth, U. Kogelschatz, J. Physics D: Appl. Phys. 1987, 20, nr 11, 1421.
• [3] S. Jodzis, A. Kowalska, Przegl. Elektrotech. 2009, 85, nr 5, 118.
• [4] M.B. Chang, S.-J. Wu, Ozone Sci. Eng. 1997, 19, 241.
• [5] B. Ulejczyk, K. Krawczyk, M. Młotek, K. Schmidt-Szałowski, Ł. Nogal, B. Kuca, Open Chem. 2015, 13, 509.
• [6] M. Simek, S. Pekarek, V. Prukner, Plasma Chem. Plasma Proc. 2012, 32, 743.
• [7] S. Jodzis, Ozone Sci. Eng. 2012, 34, 378.
• [8] S. Jodzis, B. Ulejczyk, Mat. IEEE Int. Conf. on Optimization of Electrical and Electronic Equipment, OPTIM 2014, 22–24 maja 2014 r., Moeciu de Sus Bran, Rumunia, 1011.
• [9] B. Ulejczyk, Mat. IEEE Int. Conf. on Optimization of Electrical and Electronic Equipment, OPTIM 2014, 22–24 maja 2014 r., Moeciu de Sus Bran, Rumunia, 1053.
• [10] U. Kogelschatz, Plasma Chem. Plasma Proc. 2003, 23, nr 1, 1.
• [11] S. Jodzis, J. Petryk, IEEE Trans. Plasma Sci. 2011, 39, nr 11, 2120.
• [12] S. Jodzis, Industry Eng. Chem. Res. 2011, 50, 6053.
• [13] S. Jodzis, Ozone Sci. Eng. 2003, 25, 63.
• [14] B. Eliasson, U. Kogelschatz, J. Phys. B: Atomic Mol. Optical Phys. 1986, 19, 1241.
• [15] P. Cicman, M. Francis, J.D. Skalny, S. Matejcik, T.D. Märk, Czechoslovak J. Phys. 2003, 53, nr 3, 181.
• [16] P. Cicman, J.D. Skalny, J. Fedor, N.J. Mason, P. Scheier, E. Illenberger, T.D. Märk, Int. J. Mass Spectroscopy 2007, 260, 85.
• [17] S. Jodzis, Europ. Phys. J.: Appl. Phys. 2013, 61, 24319.
• [18] S. Jodzis, J. Petryk, IEEE Trans. Plasma Sci. 2014, 42, nr 10, 2654.

Uwagi

PL

Opracowanie ze środków MNiSW w ramach umowy 812/P-DUN/2016 na działalność upowszechniającą naukę.