Identyfikatory
Warianty tytułu
Optical emission spectra of Zn and Bi in pulsed magnetron plasma
Języki publikacji
Abstrakty
Za pomocą spektroskopii optycznej określono korelacje pomiędzy technologicznymi parametrami procesu rozpylania – moc wydzielona na materiale rozpylanym, odległość target – podłoże, ciśnienie gazu roboczego, a składem chemicznym magnetronowej plazmy zasilanej impulsowo. W badaniach zastosowano metaliczny stop 0,90Zn-0,10Bi, o średnicy 50 mm. Target rozpylano w atmosferze argonu (Ar), tlenu (O2) oraz w atmosferze będącej mieszaną tych gazów. W mieszaninie ciśnienie parcjalne tlenu zmieniano w zakresie 0 < pO2 / p(O2 + Ar) < 1. Optyczne widma emisyjne zmierzono w zakresie długości fal od 200-800 nm. Stwierdzono, że dla różnych warunków pracy magnetronu widma emisyjne różnią się od standardowych. Wykazano, iż wartość intensywności Ibi oraz IZn wzrasta wraz ze wzrostem mocy dostarczanej do materiału rozpylanego i maleje w funkcji odległości od niego. Intensywności są również funkcją ciśnienia parcjalnego tlenu. Zmieniając stosunek IZn/IBi można w sposób kontrolowany otrzymywać warstwy o zadanym składzie chemicznym, co jest bardzo istotnym elementem z technologicznego punktu widzenia.
This study aimed at determining the relations between technological parameters of sputtering process – power dissipated in the target, the distance target – substrate, working gas pressure and the chemical composition of pulsed magnetron plasma by means of optical spectrophotometry. Planar 0.90Zn – 0.10Bi target with a diameter of 50 mm was sputtered in Ar, O2 and in the atmosphere of both gases mixture. In the mixture of both gases the partial pressure of oxygen was changed in the range 0 < pO2 / p(O2 + Ar) < 1. Optical emission spectra were measured in 200 – 800 nm wavelength range. The intensity of characteristic optical lines of bismuth and zinc for selected wavelengths (λBi = 306.77 nm and λZn = 636.23 nm) was studied. It was stated that for various conditions of magnetron operation the emission spectra are different from the standard ones. It was shown that the intensity of IBi and IZn lines increases along with the increase of power supplied to the target and decreases in the distance function from it. It was also proven that the intensity of characteristic optical lines of bismuth and zinc depends on the oxygen partial pressure. The relative lines intensities IBi and IZn are a function decreasing along with the increase in oxygen concentration.
Czasopismo
Rocznik
Tom
Strony
51--52
Opis fizyczny
Twórcy
autor
- Politechnika Wrocławska, Instytut Podstaw Elektrotechniki i Elektrotechnologii
autor
- lnstytut Elektrotechniki Oddział Technologii i Materiałoznawstwa Elektrotechnicznego
Bibliografia
Uwagi
Abstrakty
Typ dokumentu
Bibliografia
Identyfikator YADDA
bwmeta1.element.baztech-3250cbb9-a738-408e-92e9-a71daf6ba268
JavaScript jest wyłączony w Twojej przeglądarce internetowej. Włącz go, a następnie odśwież stronę, aby móc w pełni z niej korzystać.