Algorithm of input data preparation for single-beam pattern generator in industry-oriented applications

• Autorzy: Doudkin A.

Warianty tytułu

PL

Algorytm przygotowania danych wejściowych dla generatora pojedynczej wiązki obrazu w aplikacjach przemysłowych

• Języki publikacji: EN

Abstrakty

EN

In this paper, a new algorithm for an automated system of input data preparation for integrated circuit layout generator is proposed. A problem of covering polygons with rectangles is considered. The rectangles must lie entirely within the polygon and it is preferable to cover the polygon with few rectangles as possible. Functions and a structure of the software are de-scribed and given some examples of data processing. Results described in this paper can be applied in computational geometry and image analysis in industry-oriented applications.

PL

Zaproponowano nowy algorytm dla zautomatyzowanego systemu przygotowania danych wejściowych dla generatora układu scalonego. W pracy rozważany jest problem pokrywania wielokątów prostokątami. Prostokąty muszą zawierać się całkowicie w wielokącie i preferowane jest, aby pokryć wielokąt możliwie niewieloma prostokątami. Funkcje i struktura oprogramowania zostały opisane wraz z przykładami przetwarzania danych. Wyniki opisane w artykule mogą być zastosowane w geometrii obliczeniowej i analizie obrazów w aplikacjach przeznaczonych dla przemysłu.

Słowa kluczowe

EN

covering algorithm; polygon; rectangle; circuit layout generator

PL

algorytm pokrycia; wielokąt; prostokąt; generator układu scalonego

• Wydawca: Sieć Badawcza Łukasiewicz - Poznański Instytut Technologiczny
• Czasopismo: Journal of Research and Applications in Agricultural Engineering
• Rocznik: 2015
• Tom: Vol. 60, nr 2
• Strony: 26--30
• Opis fizyczny: Bibliogr. 14 poz., rys., tab.

Twórcy

autor

Doudkin A.

• National Academy of Sciences of Belarus, United Institute of Informatics Problems, Laboratory of System Identification, Surganov str. 6, Minsk, 220012, Belarus

Bibliografia

• [1] Axelrad V. et al: Analysis of microlithography in an open architecture TCAD System. Optical Laser Microlithography IX, Proc. SPIE, 1996, vol. 21-26, p. 648-659.
• [2] Levenson M. D.: Wavefront engineering from 500 nm to 100 nm CD. Optical Microlithography X: Proc. SPIE. 1997. vol. 3051, p. 2-13.
• [3] Iwai H.: Future semiconductor manufacturing-challenges and opportunities. IEDM Teach. Dig., 2004, p. 1-16.
• [4] Feinberg V. Z.: Geometrical problems of machine schedulers for VLSI. М.: Radio and Sviaz, 1987, 178 p.(in Russian).
• [5] De Micheli G.: Synthesis and optimization of digital circuits. New York: McGraw-Hill, 1994, 578 p.
• [6] De Berg Mark, Van Kreveld Marc, Overmars Marc, Schwarzkopf Otfried: Computational Geometry: algorithms and applications. 2nd edition. Springer-Verlag, 2000, 367 p.
• [7] Du Q., Wang D.: Resent progress in robust and quality Delanay mesh generation. J. of Comp. and App. Math., 2006, v. 195, p. 8-23.
• [8] Berman P., Dasgupta B.: Approximating Rectilinear Polygon Cover Problems. Algorithmica, 17(4), 1997, p. 331-356.
• [9] Kwok-Kit Wong A.: Optical Imaging in Projection Microlithography. Ser. Tutorial Text in Optical Engineering. Bellingham, WA: SPIE, 2001.
• [10] Owa S. at al: Current status and future prospect of immersion lithography. Proc. SPIE, 2006, vol. 6154, 61 5408-1.
• [11] Mashohor S., Evans J. R., Arslan T.: Elitist selection schemes for genetic algorithm based printed circuit board inspection system. Evolutionary Comp., 2005, 2, p. 974-978.
• [12] Rubin S.M. Computer Aids for VLSI Design [Electronic re-source] - Mode of access: http://www.rulabinsky.com/cavd/text/chapc.html. - Date of access: 19.08.2015.
• [13] Technical description and instructions for operating GI EМ-5109. Minsk: Planar, 2001, 323 p.
• [14] CATS [Electronic resource] - Mode of access: https://www.synopsys.com/Tools/Manufacturing/MaskSynthesis/CATS/Documents/cats_ds.pdf. - Date of access: 19.08.2015.