LabVIEW controller for storage results and control parameters of low thickness antireflection coatings deposition processes

• Autorzy: Marszałek K. , Małek A. , Winkowski P. , Woźny K.

Identyfikatory

DOI

10.15199/13.2016.2.6

Warianty tytułu

PL

System kontroli i rejestracji parametrów procesu depozycji cienkowarstwowych powłok antyrefleksyjnych pracujący w środowisku LabVIEW

• Języki publikacji: EN

Abstrakty

EN

System for control, visualization and storage of PVD processes data is presented in this paper. The system has been designed in LabVIEW environment and has been implemented successfully in optical industry. Visualization is very intuitive for the operator and gives easy control of all important process data. Stored process data help improve the quality of the coatings and provide the ability to analyze processes. Low cost of implementation of the system also makes it a very useful tool for modifying older types of vacuum coaters and gives a possibility of gradual further expansion of systems.

PL

W artykule przedstawiono system do kontroli, wizualizacji i zapisu danych procesów PVD. System został zaprojektowany w oparciu o środowisko LabVIEW i został z powodzeniem zastosowany w przemyśle optycznym. Wizualizacja jest bardzo intuicyjna dla operatora daje łatwą możliwość kontroli wszystkich parametrów procesu. Zapisane dane pomagają w polepszeniu jakości powłok i dają możliwość analizy procesów. Niski koszt wprowadzenie systemu czyni go również bardzo użytecznym narzędziem do modyfikacji starszego typu napylarek próżniowych oraz daje szansę stopniowej jego rozbudowy.

Słowa kluczowe

EN

process control system; LabVIEW graphical programming; mass flow controller; antireflective coatings

PL

sterownik procesu; programowanie graficzne LabVIEW; regulator przepływu masy; powłoki antyrefleksyjne

• Wydawca: Wydawnictwo SIGMA-NOT
• Czasopismo: Elektronika : konstrukcje, technologie, zastosowania
• Rocznik: 2016
• Tom: Vol. 57, nr 2
• Strony: 31--34
• Opis fizyczny: Bibliogr. 11 poz., fig., rys.

Twórcy

autor

Marszałek K.

• AGH University of Science and Technology, Department of Electronics, Kraków

autor

Małek A.

• AGH University of Science and Technology, Department of Electronics, Kraków

autor

Winkowski P.

• Pevin, Kraków

autor

Woźny K.

• AGH University of Science and Technology, Faculty of Electrical Engineering, Automatics, Computer Science and Biomedical Engineering, Department of Power Electronics and Energy Control Systems, Kraków
• CBRTP SA Research and Development Center of Technology for Industry, Warsaw

Bibliografia

• [1] Ishikawa H., Honjo Y., Watanabe K., Three-layer broad-band antireflective coating on web, Thin Solid Films, Volume 351, Issues 1–2, 1999, 212–215.
• [2] Rey-Stolle, C. Algora Optimum antireflection coatings for heteroface AlGaAs/GaAs solar cells-Part II: The influence of uncertainties in the parameters of window and antireflection coatings, Journal of Electronic Materials , Volume 29, Issue 7, 2000, 992–999.
• [3] Bitter A., Mohiuddin R. T., Nawrocki M., LabVIEW Adwanced Programming Techniques SECOND EDITION, CRC Press, (2007).
• [4] Driankov D., Hellendorn H., Reinfrank M., An Introduction to Fuzzy Control, NewYork (1995).
• [5] Bress T., Effective LabVIEW Programming, 2013.
• [6] Marszałek K. W., Sobków Z., Pisarkiewicz T., LCD displays test system working in LabVIEW environment , Elektronika, nr 9, (2009), 85–86.
• [7] http://www.ni.com/white-paper/2995/pl/ „Zaawansowane funkcje regulacji za pomocą algorytmu PID” (2013) [15.12.2015].
• [8] http://www.ni.com/pdf/manuals/372192d.pdf „PID and Fuzzy Logic Toolkit User Manual”, (2009) [15.12.2015].
• [9] Selhofer H., Mueller R., Comparison of pure and mixed coating on materials for AR coatings for use by reactive evaporation on glass and plastic lenses, Thin Solid Films, 351, (1999), 180–183.
• [10] Winkowski P., Marszałek K. W., Wide band antireflective coatings Al2O3 / HfO2 / MgF2 for UV region, Proc. of SPIE Vol. 8902 890228-1 890228-5 (2014).
• [11] J. Yuan, L.Yuan, H. He, K. Yi, Z.Fan, et al.,”Influence of ZrO2 in HfO2 on reflectance of HfO2 /SiO2 multilayer at 248 nm prepared by electron-beam evaporation”, Applied Surface Science, 254, 15, 4864–4867, ( 2008).

Uwagi

PL

Opracowanie ze środków MNiSW w ramach umowy 812/P-DUN/2016 na działalność upowszechniającą naukę.