Ocena powłoki diamentopodobnej wytworzonej na podłożu nadstopu niklu IN 718 w procesach CVD wspomaganych plazmą wyładowania jarzeniowego

• Autorzy: Poręba M. , Richert M. , Sieniawski J. , Zawadzka P.

Warianty tytułu

EN

Evaluation of DLC coating on IN 718 alloy produced by glow discharge plasma assisted CVD method

• Języki publikacji: PL

Abstrakty

PL

Opracowano warunki wytwarzania warstw diamentopodobnych na stopie niklu IN 718 z zastosowaniem aparatury PACVD. Prowadzono procesy w temperaturze 550°C i 600°C przez 6 godzin. Jako gazów reakcyjnych użyto metanu i wodoru. Proporcja metanu do wodoru wynosiła 1 do 200. Wykonano analizy składu fazowego powłok, badania twardości oraz przyczepności. Otrzymane powłoki diamentopodobne mają dobrą przyczepność do podłoża oraz dużą twardość (ok. 1500 HV).

EN

The aim of the study was development of the conditions for manufacturing diamond-like carbon (DLC) coatings on the IN 718 nickel based alloy using the PACVD method. The CVD processes were carried out at the temperature of 550 and 600°C during 6 hours. Methane and hydrogen in the proportion of 1:200 were used as the reaction gases. The phase composition, hardness and adhesion of the coatings were examined. The hardness of the DLC coatings was found to be about 1500 HV and they showed good adhesion to the substrate.

Słowa kluczowe

PL

warstwy diamentopodobne; nadstopy niklu; wodór; metan; chemiczne osadzanie z fazy gazowej; wyładowanie jarzeniowe

EN

diamond-like carbon; nickel based superalloy; chemical vapour deposition (CVD); glow discharge

• Wydawca: Wydawnictwo SIGMA-NOT
• Czasopismo: Inżynieria Materiałowa
• Rocznik: 2014
• Tom: Vol. 35, nr 4
• Strony: 295--298
• Opis fizyczny: Bibliogr. 12 poz., rys., tab.

Twórcy

autor

Poręba M.

• Wydział Budowy Maszyn i Lotnictwa, Politechnika Rzeszowska

autor

Richert M.

• AGH Akademia Górniczo-Hutnicza w Krakowie, Wydział Metali Nieżelaznych

autor

Sieniawski J.

• Wydział Budowy Maszyn i Lotnictwa, Politechnika Rzeszowska

autor

Zawadzka P.

• AGH Akademia Górniczo-Hutnicza w Krakowie, Wydział Metali Nieżelaznych

Bibliografia

• [1] Shmidt J.: Technologie diamentowe w elektronice. Oficyna Wydawnicza Politechniki Warszawskiej. Warszawa (2005).
• [2] Liu Huimin, Dandy D. S.: Diamond chemical vapour deposition. Nucleation and Early Growth Stages, Noyes Publications. New Jersey, USA (1995).
• [3] Gilewicz A., Warcholiński B.: Twarde powłoki ta-C otrzymane metodą impulsowego katodowego odparowania łukowego. Inżynieria Materiałowa 1 (2010) 50÷53.
• [4] Bunshah F.: Handbook of hard coatings. Deposition technologies, properties and applications. Los Angeles, USA (2001).
• [5] Robertson J.: Diamond like amorphous carbon. Materials Science and Engineering R 37 (2002) 129÷281.
• [6] Gęsikowska E., Dudek M.: Analiza przewodności cieplnej diamentu oraz cienkich warstw DLC. Inżynieria Materiałowa 4 (2010) 965÷968.
• [7] Kobashi K.: Diamond films, chemical vapour deposition for oriented and heteroepitaxial growth. Elsevier Ltd, Oxford, Anglia (2005).
• [8] Liu H., Dandy D. S.: Studies on nucleation process in diamond CVD: an overview of recent developments. Diamond and Related Materials 4 (1995) 1173÷1188.
• [9] Brillas E., Martinez-Huitle C. A.: Synthetic diamond films. Woodhead Publishing by John&Sons, Inc., Kanada (2011).
• [10] Suzuki K., Sawabe A., Yasuda H., Inuzuka T.: Growth of diamond thin films by DC plasma chemical vapour deposition. Appl. Phys. Lett. 50 (1987) 728÷729.
• [11] Burakowski T., Wierzchoń T.: Inżynieria powierzchni metali. Wydawnictwo Naukowo-Techniczne, Warszawa (1995).
• [12] Erkens G., Vetter J., MüllerJ., Brinke T., Fromme M., Mohnfeld A.: Plasma-assisted surface coating. Processes, methods, systems and applications. Süddeutscher Verlagonpact GmbH, Monachium (2011).