Tytuł artykułu
Wybrane pełne teksty z tego czasopisma
Identyfikatory
Warianty tytułu
POSS compounds as modifiers and additives for elastomeric composites
Języki publikacji
Abstrakty
Zbadano możliwość zastosowania silseskwioksanów (POSS) w charakterze napełniaczy bądź modyfikujących dodatków do elastomerów: kauczuku metylowinylosilikonowego (MVQ) oraz uwodornionego butadienowo-akrylonitrylowego (HNBR). Stwierdzono, że odpowiednio sfunkcjonalizowane silseskwioksany mogą brać udział w sieciowaniu kauczuków, zwiększać ich wytrzymałość mechaniczną, zwłaszcza w temp. -50 °C, ograniczać działanie czynników starzeniowych oraz korzystnie poprawiać hydrofobowość powierzchni, wpływając jednocześnie na barierowość wobec tlenu. Dodatek do wulkanizatów kauczuków związków POSS zawierających kwasowe lub zasadowe ugrupowania pozwala na otrzymanie materiałów obdarzonych zdolnością do samonaprawy.
The possibility of using silsesquioxanes (POSS) as nanofillers or modifying additives to elastomers: methylvinylsilicone (MVQ) and hydrogenated butadiene-acrylonitrile (HNBR) rubber was studied. It was found that suitably functionalized silsesquioxanes can take part in the cross-linking of rubbers and increase their mechanical strength, especially at temperature of -50 °C. They can also reduce the ageing effects and increase the surface hydrophobicity, while at the same time influencing oxygen barrier properties. The addition of POSS compounds containing acidic or basic groups to rubber vulcanizates enables the preparation of materials with self-healing properties.
Czasopismo
Rocznik
Tom
Strony
772--782
Opis fizyczny
Bibliogr. 23 poz., rys., wykr.
Twórcy
autor
- Politechnika Łódzka, Wydział Chemiczny, Instytut Technologii Polimerów i Barwników, ul. Stefanowskiego 12/16, 90-924 Łódź
autor
- Politechnika Łódzka, Wydział Chemiczny, Instytut Technologii Polimerów i Barwników, ul. Stefanowskiego 12/16, 90-924 Łódź
autor
- Politechnika Łódzka, Wydział Chemiczny, Instytut Technologii Polimerów i Barwników, ul. Stefanowskiego 12/16, 90-924 Łódź
autor
- Poznański Park Naukowo-Technologiczny Fundacji UAM, ul. Rubież 46, 61-612 Poznań
autor
- Uniwersytet im. A. Mickiewicza w Poznaniu, Wydział Chemii, ul. Grunwaldzka 6, 60-780 Poznań
Bibliografia
- 1. Janowski B., Pielichowski K.: Polimery 2008, 53, 87.
- 2. Bourbigot S., Turf T., Bellayer S., Duquesne S.: Polym. Degrad. Stab. 2009, 94, 1230.
- 3. Lai Y. S., Tsai C.W., Yang H.W.,Wang G. P.,Wu K. H.: Mater. Chem. Phys. 2009, 117, 91.
- 4. Pellice S. A., Fasce D. P.,Williams R. J.: J. Polym. Sci. B: Polym. Phys. 2003, 41, 1451.
- 5. Matejka L., Strachota A., Plestil J., Whelan P., Steinhart M., Slouf M.: Macromolecules 2004, 37, 9449.
- 6. Zhou Z., Cui L., Zhang Y., Zhang Y., Yin N.: Eur. Polym. J. 2008, 44, 3057.
- 7. Waddon A., Zheng L., Farris R., Coughlin E. B.: Nano. Lett. 2002, 2, 1149.
- 8. Mirchandani G., Waghoo G., Parmar R., Haseebuddin S., Ghosh S. K.: Prog. Org. Coat. 2009, 65, 444.
- 9. Lewicki J. P., Pielichowski K., Tremblot De La Croix P., Janowski B., Todd D., Liggat J. J.: Polym. Degrad. Stab. 2010, 95, 1099.
- 10. Nia Y., Zhenga S., Nieb K.: Polymer 2004, 45, 5557.
- 11. Zhao J., Fu Y., Liu S.: Polym. Polym. Comp. 2008, 16, 483.
- 12. Seurer B., Coughlin E. B.: Macromol. Chem. Phys. 2008, 209, 1198.
- 13. Huang J.-C., He C.-B., Xiao Y., Mya K. Y., Dai J., Siow Y. P.: Polymer 2003, 44, 4491.
- 14. Fina A., Abbenhuis H. C. L., Tabuani D., Camino G.: Polym. Degrad. Stab. 2006, 91, 2275.
- 15. Joshi M., Butola B. S., Simon G., Kukaleva N.: Macromolecules 2006, 39, 1839.
- 16. Pat. US 2006/0 217 473 (2006).
- 17. Pat. US 6 852 794 B2 (2005).
- 18. Pat. US 2008/0 293 858 A1 (2008).
- 19. Pat. WO 2006/027 618 A1 (2006).
- 20. Chen D., Yi S., Fang P., Zhong Y., Huang C., Wu X.: React. Funct. Polym. 2011, 71, 502.
- 21. Chen D., Yi S., Wu W., Zhong Y., Liao J., Huang C.: Polymer 2010, 51, 3867.
- 22. Chen D., Nie J., Yi S.,WuW., Zhong Y., Liao J., Huang C.: Polym. Degrad. Stab. 2010, 95, 618.
- 23. Frounchi M., Dadbin S., Panahinia F.: Nucl. Instr. Meth. Phys. Res. B 2006, 243, 354.
Typ dokumentu
Bibliografia
Identyfikator YADDA
bwmeta1.element.baztech-170a2dae-b82c-4717-9788-230619ace3cd