Wyładowanie jarzeniowe pod ciśnieniem atmosferycznym w kontakcie z cieczą jako nowe źródło wzbudzenia w optycznej spektrometrii emisyjnej

Gręda, K.; Jamróz, P.; Pohl, P.

Artykuł - szczegóły

Tytuł artykułu

Wyładowanie jarzeniowe pod ciśnieniem atmosferycznym w kontakcie z cieczą jako nowe źródło wzbudzenia w optycznej spektrometrii emisyjnej

Autorzy

Gręda K. , Jamróz P. , Pohl P.

Wybrane pełne teksty z tego czasopisma

przemchem.pl

Identyfikatory

Warianty tytułu

Atmospheric pressure glow discharge in a contact with liquid as a new excitation source in optical emission spectrometry

Języki publikacji

Abstrakty

Dokonano przeglądu literatury z zakresu stałoprądowego wyładowania jarzeniowego małej mocy generowanego pod ciśnieniem atmosferycznym w kontakcie z ciekłą katodą, które jest stosowane i badane od ostatnich kilkunastu lat. Poruszane zagadnienia związane są zarówno z naturą samego zjawiska, jak również wpływem różnych czynników zewnętrznych na morfologię widma emisyjnego tego wyładowania. Ponieważ wyładowanie może w przyszłości stanowić cenne źródło wzbudzenia stosowane w analitycznej spektrometrii atomowej, szczególny nacisk położono na omówienie jego charakterystyki analitycznej oraz zastosowanie w analizie pierwiastkowej różnego rodzaju próbek środowiskowych.

A review, with 45 refs. of methods based on a direct current low-power glow discharge generated under atm. pressure in contact with a liquid cathode as a excitation source in the anal. at. spectrometry.

Słowa kluczowe

wyładowanie jarzeniowe spektrometria emisyjna katoda ciekła

glow discharge emission spectrometry liquid cathode

Wydawca

Wydawnictwo SIGMA-NOT

Czasopismo

Przemysł Chemiczny

Rocznik

2012

Tom

T. 91, nr 12

Strony

2389--2397

Opis fizyczny

Bibliogr. 45 poz., rys., tab.

Twórcy

autor

Gręda K.

krzysztof.greda@pwr.wroc.pl

Wydziałowy Zakład Chemii Analitycznej, Wydział Chemiczny, Politechnika Wrocławska, Wybrzeże Wyspiańskiego 27, 50-370 Wrocław

autor

Jamróz P.

Politechnika Wrocławska

autor

Pohl P.

Politechnika Wrocławska

Bibliografia

1. P. Mezei, T. Cserfalvi, Appl. Spectrosc. Rev. 2007, 42, 573.
2. M.R. Webb, G.M. Hieftje, Anal. Chem. 2009, 81, 862.
3. G. Jenkins, J. Franzke, A. Manz, Lab. Chip 2005, 5, 711.
4. V.V. Yagov, M.L. Getsina, B.K. Zuev, J. Anal. Chem. 2004, 59, 1037.
5. A. Kitano, A.I.I. Duka, T. Yamamoto, Y. Ukita, E. Tamiya, Y. Takamura, Anal. Chem. 2011, 83, 9424.
6. T. Krahling, S. Muller, C. Meyer, A.-K. Stark, J. Franzke, J. Anal. At. Spectrom. 2011, 26, 1974.
7. B.K. Zuev, V.V. Yagov, M.L. Getsina, B.A. Rudenko, J. Anal. Chem. 2002, 57, 907.
8. R.K. Marcus, W.C. Davis, Anal. Chem. 2001, 73, 2903.
9. W.C. Davis, R.K. Marcus, J. Anal. At. Spectrom. 2001, 16, 931.
10. J.L. Venzie, R.K. Marcus, Spectrochim. Acta Part B 2006, 61, 715.
11. J.L. Venzie, R.K. Marcus, Anal. Bioanal. Chem. 2005, 381, 96.
12. C.D. Quarles Jr, A.J. Carado, C.J. Barinaga, D.W. Koppenaal, R.K. Marcus, Anal. Bioanal. Chem. 2012, 402, 261.
13. P. Mezei, T. Cserfalvi, Eur. Phys. J. Appl. Phys. 2007, 40, 89.
14. Y.S. Park, S.H. Ku, S.H. Hong, H.J. Kim, E.H. Piepmeier, Spectrochim. Acta Part B 1998, 53, 1167.
15. T. Cserfalvi, P. Mezei, J. Anal. At. Spectrom. 1994, 9, 345.
16. M.R. Webb, F.J. Andrade, G. Gamez, R. McCrindle, G.M. Hieftje, J. Anal. At. Spectrom. 2005, 20, 1218.
17. P. Mezei, T. Cserfalvi, L. Csillag, J. Phys. D: Appl. Phys. 2005, 38, 2804.
18. R. Shekhar, D. Karunasagar, K. Dash, M. Ranjit, J. Anal. At. Spectrom. 2010, 25, 875.
19. P. Jamroz, W. Zyrnicki, Plasma Chem. Plasma Process. 2011, 31, 681.
20. P. Jamroz, W. Zyrnicki, Mat. Międzynarodowej Konferencji “19th International Symposium on Plasma Chemistry”, Bochum (Niemcy), 26–31 lipca 2009 r., P1.5.25.
21. H.J. Kim, J.H. Lee, M.Y. Kim, T. Cserfalvi, P. Mezei, Spectrochim. Acta Part B 2000, 55, 823.
22. P. Mezei, T. Cserfalvi, M. Janossy, J. Anal. At. Spectrom. 1997, 12, 1203.
23. M.A. Mottaleb, Y.A. Woo, H.J. Kim, Microchem. J. 2001, 69, 219.
24. P. Mezei T. Cserfalvi, J. Phys. D: Appl. Phys. 2006, 39, 2534.
25. T. Cserfalvi, P. Mezei, Fresenius J. Anal. Chem. 1996, 355, 813.
26. P. Mezei, T. Cserfalvi, H.J. Kim, M.A. Mottaleb, Analyst 2001, 126, 712.
27. R. Shekhar, D. Karunasagar, M. Ranjit, J. Arunachalam, Anal. Chem. 2009 81, 8157.
28. M.R. Webb, G.C.Y. Chan, F.J. Andrade, G. Gamez, G.M. Hieftje, J. Anal. At. Spectrom. 2006, 21, 525.
29. M.R. Webb, F.J. Andrade, G.M. Hieftje, J. Anal. At. Spectrom. 2007, 22, 766.
30. Y. Yq, W. Hm, C. Yn, H. Hy, Spectrocs. Spectral Anal. 2011, 31, 3366.
31. V.A. Titov, V.V. Rybkin, A.I. Maximov, H.-S. Choi, Plasma Chem. Plasma Process. 2005, 25, 503.
32. T. Cserfalvi, P. Mezei, J. Anal. At. Spectrom. 2003, 18, 596.
33. A. Shaltout, Microchim. Acta 2006, 155, 447.
34. T. Cserfalvi, P. Mezei, P. Apai, J. Phys. D: Appl. Phys. 1993, 26, 2184.
35. P. Mezei, T. Cserfalvi, H.J. Kim, M.A. Mottaleb, Analyst 2001, 126, 712.
36. M.A. Mottaleb, J.S. Yang, H.J. Kim, Appl. Spectrosc. Rev. 2002, 37, 247.
37. A. Kulentsan, V. Rybkin, V. Titov, S. Smirnov, Mat. Międzynarodowej Konferencji „28th ICPIG”, Prague (Republika Czeska), 15–20 lipca 2007 r., temat 10.
38. A.I. Maksimov, V.A. Titov, A.V. Khlyustova, High Energy Chem. 2004, 38, 196.
39. P. Bruggeman, J. Liu, J. Degroote, M.G. Kong, J. Vierendeels, C. Leys, J. Phys. D: Appl. Phys. 2008, 41, 215201.
40. P. Bruggeman, E. Ribezl, A. Maslani, J. Degroote, A. Malesevic, R. Rego, J. Vierendeels, C. Leys, Plasma Sources Sci. Technol. 2008, 17, 025012.
41. Z. Ke, Q. Huang, H. Zhang, Z. Yu, Environ. Sci. Technol. 2011, 45, 7841.
42. N. Shirai, M. Nakazawa, S. Ibuka, S. Ishii, IEEE Trans. Plasma Sci. 2008, 36, 1160.
43. Z. Zhu, G.C.-Y. Chan, S.J. Ray, X. Zhang, G.M. Hieftje, Anal. Chem. 2008, 80, 7043.
44. Z. Zhu, Q. He, Q. Shuai, H. Zheng, S. Hu, J. Anal. At. Spectrom. 2010, 25, 1390.
45. Q. He, Z. Zhu, S. Hu, L. Jin, J. Chromatogr. A 2011, 1218, 4462.

Uwagi

Praca finansowana z dotacji Ministerstwa Nauki i Szkolnictwa Wyższego na działalność statutową Wydziału Chemicznego Politechniki Wrocławskiej.

Typ dokumentu

Bibliografia

Identyfikator YADDA

bwmeta1.element.baztech-0dce3f5e-18d8-4dc8-aaa2-ef7281911301