Wybrane właściwości cienkich warstw tlenków wolframu wytwarzanych przy różnych warunkach procesu rozpylania magnetronowego

• Autorzy: Lubańska Aneta , Mańkowska Ewa , Mazur Michał

Identyfikatory

DOI

10.15199/13.2020.10.3

Warianty tytułu

EN

Analysis of the selected properties of tungsten oxide thin films deposited by magnetron sputtering in various technological parameters

• Języki publikacji: PL

Abstrakty

PL

W pracy przedstawiono wyniki badań i analizy właściwości cienkich warstw tlenków wolframu wytworzonych metodą rozpylania magnetronowego. Proces wytwarzania przeprowadzono przy zmiennych warunkach technologicznych, takich jak proporcja mieszaniny gazów O₂:Ar oraz odległość target-podłoże. Zwiększenie przepływu argonu w mieszaninie gazów O₂:Ar podczas procesu spowodowało zmianę właściwości elektrycznych cienkich warstw z dielektrycznych na półprzewodnikowe. Ponadto, wyniki pomiarów współczynnika transmisji światła wykazały, że wraz ze wzrostem przepływu argonu przezroczystość warstw ulega pogorszeniu. Mniejsze odległości target-podłoże skutkowały zwiększeniem szybkości nanoszenia warstw. Wszystkie naniesione warstwy charakteryzowały się małą chropowatością oraz właściwościami hydrofilowymi powierzchni.

EN

The aim of the presented work is investigation of the properties of tungsten oxide thin films deposited by magnetron sputtering. The process was performed with use of various technological properties such as O₂:Ar gas mixture ratios and target-substrate distance. Increase of argon content in O₂:Ar gas mixture during process caused change of electrical properties of thin films from dielectric to semiconducting. Moreover, measurements of light transmission coefficient showed that thin layer transparency decreased with increase of argon content. Decrease of target-substrate distance resulted in an increase of deposition rate. All deposited thin films had low roughness and hydrophilic properties.

Słowa kluczowe

PL

tlenek wolframu; cienkie warstwy; rozpylanie magnetronowe; właściwości optyczne i elektryczne

EN

tungsten oxide; thin films; magnetron sputtering; optical and electrical properties

• Wydawca: Wydawnictwo SIGMA-NOT
• Czasopismo: Elektronika : konstrukcje, technologie, zastosowania
• Rocznik: 2020
• Tom: Vol. 61, nr 10
• Strony: 10--12
• Opis fizyczny: Bibliogr. 7 poz., rys., tab.

Twórcy

autor

Lubańska Aneta

• Politechnika Wrocławska, Wydział Elektroniki Mikrosystemów i Fotoniki, Katedra Mikroelektroniki, Laboratorium Technologii Próżniowych i Diagnostyki Nanomateriałów, Wrocław

autor

Mańkowska Ewa

• Politechnika Wrocławska, Wydział Elektroniki Mikrosystemów i Fotoniki, Katedra Mikroelektroniki, Laboratorium Technologii Próżniowych i Diagnostyki Nanomateriałów, Wrocław

autor

Mazur Michał

• Politechnika Wrocławska, Wydział Elektroniki Mikrosystemów i Fotoniki, Katedra Mikroelektroniki, Laboratorium Technologii Próżniowych i Diagnostyki Nanomateriałów, Wrocław

Bibliografia

• [1] Xu, X., Yazdi, M. A. P., Salut, R., Cote, J. M., Billard, A., Martin, N. (2018). Structure, composition and electronic transport properties of tungsten oxide thin film sputter-deposited by the reactive gas pulsing process. Materials Chemistry and Physics, 205, 391-400.
• [2] Raudoniene, J., Laurikenas, A., Kaba, M. M., Sahin, G., Morkan, A. U., Brazinskiene, D., Garskaite, E. (2018). Textured WO3 and WO3:Mo films deposited from chemical solution on stainless steel. Thin Solid Films, 653, 179-187.
• [3] Yu, S. Q., Ling, Y. H., Wang, R. G., Zhang, J., Qin, F., Zhang, Z. J. (2018). Constructing superhydrophobic WO3@ TiO2 nanoflake surface beyond amorphous alloy against electrochemical corrosion on iron steel. Applied Surface Science, 436, 527-535.
• [4] Zhang, X., Dou, S., Li, W., Wang, L., Qu, H., Chen, X., Li, Y. (2019). Preparation of monolayer hollow spherical tungsten oxide films with enhanced near infrared electrochromic performances. Electrochimica Acta, 297, 223-229.
• [5] Selvakumar, N., Barshilia, H. C., Rajam, K. S. (2010). Effect of substrate roughness on the apparent surface free energy of sputter deposited superhydrophobic polytetrafluoroethylene coatings: A comparison of experimental data with different theoretical models. Journal of Applied Physics, 108(1), 013505.
• [6] Wang, B., Zhang, Y., Shi, L., Li, J., Guo, Z. (2012). Advances in the theory of superhydrophobic surfaces. Journal of Materials Chemistry, 22(38), 20112-20127.
• [7] Mattox, D. M. (2010). Handbook of physical vapor deposition (PVD) processing. William Andrew.

Uwagi

Opracowanie rekordu ze środków MNiSW, umowa Nr 461252 w ramach programu "Społeczna odpowiedzialność nauki" - moduł: Popularyzacja nauki i promocja sportu (2020).

Praca finansowana z subwencji MNiSzW na naukę na rok 2020, realizowana w Laboratorium Technologii Próżniowych i Diagnostyki Nanomateriałów, w Katedrze Mikroelektroniki Politechniki Wrocławskiej (Nr 8201003902-K70/W12).