PL EN


Preferencje help
Widoczny [Schowaj] Abstrakt
Liczba wyników
Tytuł artykułu

Warstwa jonów dodatnich w plazmie połukowej w próżni

Autorzy
Wybrane pełne teksty z tego czasopisma
Identyfikatory
Warianty tytułu
EN
Positive-ion sheath in post arc plasma in vacuum
Języki publikacji
PL
Abstrakty
PL
W artykule przedstawiono wyniki analizy rozwoju warstwy przestrzennego ładunku dodatniego w niskociśnieniowej plazmie po zerze prądu łuku w próżni. Na podstawie wyprowadzonych równań różniczkowych dokonano ilościowej charakterystyki grubości warstwy oraz natężenia pola elektrycznego przy katodzie połukowej, pod wpływem przyłożonego napięcia powrotnego, dla różnych parametrów plazmy.
EN
The paper presents an analysis of growth of positive space charge sheath in a post-arc plasma in vacuum. On the basis of derived differential equations quantitative characteristics of a sheath thickness and electric field at the post-arc cathode under the influence of the transient recovery voltage for different plasma parameters have been carried out.
Rocznik
Strony
229--232
Opis fizyczny
Bibliogr. 8 poz., rys., tab., wz.
Twórcy
autor
  • Państwowa Wyższa Szkoła Zawodowa w Lesznie
Bibliografia
  • [1] Boxman R.L., Martin P. J., Sanders D. L., Handbook of vacuum arc science and technology, Noyes Publication, Park Ridge, New Jersey, USA, (1995)
  • [2] Kutzner J., Miller H.C., Ion Flux form the cathode region of a vacuum arc, IEEE Trans. on Plasma Science, vol. 17, (1989), no. 5, 688-694
  • [3] Załucki Z., Procesy połukowe przy gaszeniu elektrycznego łuku dyfuzyjnego w próżni, Wydawnictwo Politechniki Poznańskiej, Seria Rozprawy, Nr 180, (1986)
  • [4] Andrews J.G., Varey R.H., Sheath growth in a low pressure plasma, Physics of Fluides, vol. 14, no. 2, (1971), pp. 339-343
  • [5] Sander K.F., Theory of thick dynamic positive-ion sheath, Journal of Plasma Physics, vol. 3, part 3, (1969), 353-370
  • [6] Sarrailh P. et al., Expanding sheath in a bounded plasma in the context of the post-arc phase of vacuum arc, Jour. Phys. D: Appl. Phys, vol. 41, No 1, 015203 (2008)
  • [7] Düning G., Lindmayer M., Plasma density of vacuum discharges after current zero, IEEE Trans. Plasma Science Vol. 27, No. 4, (1999)
  • [8] van Lanen E., Popov M.,van der Sluis L., Smeets R., VCB current zero phenomena modelled for circuit analysis, Proc. XXIth Intern. Symp. Discharges and Electrical Insulation In Vacuum, Yalta, (2004), 418-421
Typ dokumentu
Bibliografia
Identyfikator YADDA
bwmeta1.element.baztech-03b3426e-51fc-449a-a979-b89cc2809016
JavaScript jest wyłączony w Twojej przeglądarce internetowej. Włącz go, a następnie odśwież stronę, aby móc w pełni z niej korzystać.