Ograniczanie wyników
Czasopisma help
Autorzy help
Lata help
Preferencje help
Widoczny [Schowaj] Abstrakt
Liczba wyników

Znaleziono wyników: 106

Liczba wyników na stronie
first rewind previous Strona / 6 next fast forward last
Wyniki wyszukiwania
Wyszukiwano:
w słowach kluczowych:  cienkie warstwy
help Sortuj według:

help Ogranicz wyniki do:
first rewind previous Strona / 6 next fast forward last
PL
W artykule zaprezentowano wyniki doświadczeń dotyczących wpływu modyfikacji podłoża na energię i zdolność kiełkowania nasion lucerny i koniczyny czerwonej. Do badań wykorzystano podłoża naturalne wykonane z włókien bambusowych, bez i po modyfikacji. Zaproponowano zastosowanie tkanin pokrytych cienką warstwą srebrną otrzymaną w procesie fizycznego osadzania próżniowego, jako procesu zapewniającego dobrą adhezję cząstek metalu do włókien. W efekcie uzyskano zwiększenie zdolności kiełkowania nasion o około 20%.
EN
The article presents the results of experiments on the impact of substrate modification on energy and germination ability of lucerne and red clover seeds. Natural substrates made of bamboo fibers were used for the tests, without and after modification. It has been proposed to use fabrics covered with a thin silver layer obtained in the process of physical vacuum deposition as a process ensuring good adhesion of metal particles to fibers. As the result of research, the germination ability of seeds increased by about 20%.
PL
W artykule omówione są różne sposoby przeprowadzania obliczeń dla techniki odbiciowej wysokoenergetycznej dyfrakcji elektronowej, nazywanej zwykle techniką RHEED. Technika ta w chwili obecnej często znajduje zastosowanie m.in. do monitorowania wzrostu cienkich warstw przy użyciu metody PLD, czyli osadzania z wykorzystaniem lasera impulsowego. Artykuł poświęcony jest różnym aspektom teoretycznym opisu dyfrakcji typu RHEED. W przypadku, gdy sieć krystaliczna badanego materiału jest niemal idealna, natężenia wiązek elektronów odbitych od powierzchni powinny być wyznaczane przy użyciu dynamicznej teoria dyfrakcji, czyli z pomocą równań różniczkowych cząstkowych właściwych dla ruchu falowego. W przypadku osadzania cienkich warstw, ułożenie atomów jest jednak zwykle dalekie od idealnego i dlatego stosowanie teorii uproszczonych może być pomocne. W ogólności problem przeprowadzania symulacji komputerowych dla dyfrakcji elektronów, dla częściowo uporządkowanych struktur wciąż jest otwarty.
EN
Different methods of executing calculations for reflection high energy electron diffraction (RHEED) are discussed in the article. Currently, RHEED is often applied among others to monitor preparation of thin films with the use of pulsed laser deposition. The article is devoted to different theoretical aspects of description of the diffraction phenomenon for electrons. For the case of the material with a nearly ideal crystal lattice, intensities of electron beams reflected from the surface should be determined with the employment of the dynamical diffraction theory, i.e. with the use of partial differential equations proper for the wave motion. However, for the case of the deposition of thin films, the arrangement of atoms is usually far from the ideal one and because of this reason the employment of simplified theoretical approaches may be profitable. In general, the problem of the faithful carrying out computer simulations for electron diffraction, for partially ordered structures is still open.
PL
W pracy przedstawiono wyniki badania wpływu struktury na właściwości elektryczne oraz optyczne cienkich warstw na bazie tlenków tytanu i miedzi. Cienkie warstwy tlenku miedzi oraz dwuwarstwy TiO₂/CuxO o różnej grubości TiO₂ na powierzchni CuxO były naniesione metodą rozpylania magnetronowego. Wytworzone dwuwarstwy TiO₂/CuxO o różnej grubości TiO₂ były nanokrystaliczne o jednoskośnej strukturze tlenku miedzi II (CuO). Średni rozmiar krystalitów był w zakresie od 10 nm do 14 nm. Stwierdzono, że rezystywność dla cienkiej warstwy CuO była równa 0,7•103 Ω•cm, natomiast dla struktur TiO₂/CuO była w zakresie 0,8•103 ÷ 1,5•103 Ω•cm. W przypadku powłok dwuwarstwowych TiO₂/CuO średnia wartość współczynnika transmisji światła wynosiła ponad 80%.
EN
This paper provides research investigation results and analysis of influence of the structure on electrical and optical properties of thin films based on the titanium and copper oxides. CuxO and TiO₂/CuxO thin films with different thickness of top TiO₂ layer coatings were deposited by the reactive magnetron sputtering method. TiO₂/CuxO bilayers with different thickness of top TiO₂ layer were nanocrystalline and had monoclinc structure of CuO. The crystallite sizes were in the range of 10 nm to 14 nm. It was found that the resistivity for the CuO film was equal to 0.7•103 Ω•cm, and for TiO₂/CuO structures was in the range of 0.8•103 ÷ 1.5•103 Ω•cm. As-prepared bilayers were well transparent, average transparency was above 80%.
PL
W niniejszej pracy przedstawiono wyniki badań wpływu rodzaju podłoża na właściwości cienkich warstw ITO, takich jak chropowatość powierzchni, zwilżalność, rezystywność oraz współczynnik odbicia światła. Analizie poddano warstwy ITO o grubości 70 nm, naniesione metodą rozpylania magnetronowego na podłoża z krzemionki amorficznej (SiO₂), krzemu (Si), poliwęglanu (PC) oraz poli(tereftalanu etylenu) (PET). Badania wykazały istotny wpływ ukształtowania powierzchni podłoża na właściwości naniesionej cienkiej warstwy ITO. Uzyskana rezystywność warstw ITO wykazała różnice nawet o kilka rzędów wielkości dla zastosowanych różnych podłoży. Cienkie warstwy ITO wykazały właściwości hydrofilowe na każdym badanym podłożu, natomiast największą wartością kąta zwilżania charakteryzowała się warstwa ITO/SiO₂. Najmniejszą wartość współczynnika odbicia światła dla długości fali 550 nm wykazała warstwa tlenku indowo-cynowego na podłożu krzemowym i wynosiła ok. 3,2%.
EN
This paper presents the results of research on the influence of substrate type on the properties of ITO thin films, such as surface roughness, wettability, resistivity and light reflectance. ITO 70 nm thick coatings were deposited using magnetron sputtering to amorphous silica (SiO₂), silicon (Si), polycarbonate (PC) and polyethylene terephthalate (PET) substrates. The research showed a significant influence of the surface roughness of the substrate on the properties of the deposited ITO thin film. The obtained resistivity of ITO thin films varied even by several orders of magnitude for the various substrates used. Investigated materials showed a hydrophilic properties on each substrate, but the ITO/SiO₂ layer was characterized by the highest value of the contact angle. The lowest value of the reflectance at the wavelength of 550 nm showed the indium-tin oxide thin film deposited on the silicon substrate and was about 3.2%.
PL
W pracy przedstawiona została analiza wpływu parametrów procesu technologicznego wytwarzania cienkich warstw tlenków miedzi na ich właściwości strukturalne, optyczne oraz elektryczne. Badaniu poddane zostały warstwy wytworzone za pomocą metody stałoprądowego rozpylania magnetronowego w atmosferze mieszaniny O₂:Ar o zawartości O₂ wynoszącej odpowiednio 75% oraz 100%. Właściwości strukturalne badanych warstw określone zostały na podstawie badania metodą dyfrakcji rentgenowskiej. Właściwości optyczne scharakteryzowano na podstawie pomiaru transmisji światła, a elektryczne na podstawie charakterystyk prądowo-napięciowych. Badanie metodą XRD wykazało, że uzyskano warstwy CuO (tlenku miedzi II) w postaci tenorytu o średnim rozmiarze krystalitów wynoszącym około 13 nm. Badanie właściwości optycznych wykazało, że nie ma różnicy w transmisji światła dla promieniowania krótszego niż około 600 nm. Nieznaczne różnice zauważalne między warstwami widoczne są powyżej tej długości. Średnia wartość transmisji dla długości fali λ = 550 nm wynosiła 35%. Badanie właściwości elektrycznych wykazało, że warstwa naniesiona w mieszaninie O₂:Ar zawierającej 75% O₂ miała rezystancję wynoszącą około 17 kΩ podczas gdy rezystancja warstwy wytworzonej w atmosferze wyłącznie tlenowej wynosiła około 5 kΩ.
EN
The paper presents an analysis of the impact of the parameters of the technological process of copper oxides thin films on their structural, optical and electrical properties. Investigated films were deposited using DC magnetron sputtering method in the atmosphere of the O₂:Ar mixture with an O₂ content of 75% and 100% respectively. The structural properties of the investigated films were determined based on the X-ray diffraction method. Optical properties were characterized on the basis of light transmission measurements, and electrical properties based on current- -voltage characteristics. The XRD showed that CuO (copper oxide II) films were obtained in the form of a tenorite with an average crystallite size of about 13 nm. The investigation of the optical properties showed that there is no difference in light transmission for wavelength shorter than approximately 600 nm. Slight differences between the layers are visible above this length. The average transmission value at wavelength λ = 550 nm was 35%, so these layers can be used in transparent electronics. Testing of electrical properties showed that the layer deposited in the O₂:Ar gas mixture containing 75% of O₂ had a resistance of approximately 17 kΩ, when the resistance of the layer prepared in a pure oxygen atmosphere of approximately 5 kΩ.
EN
Twin structural traps that lie within the Miocene strata of the Carpathian Foredeep that are localized above Cierpisz and Mrowla-Bratkowice highs exhibit identical bright-spot seismic anomalies, but only those associated with the Cierpisz high are profitable gas reservoirs. Bright spots can be a result of weak gas or water saturation, but also seismic interference known as tuning effect. For these reasons, it is crucial to differentiate between seismic anomalies. In this article, we present the possibilities of verification of seismic anomalies that occur within the siliciclastic Miocene sediments of the Carpathian Foredeep with the application of AVO analysis and spectral decomposition. AVO methodology enabled to limit the number of anomalies that are present in the post-stack seismic data. These anomalies, however, may also be a result of tuning which is common for the heterolithic sequences in the Miocene sediments of the Carpathian Foredeep. For classification of anomalies in the view of the above, spectral decomposition based on the Basis Pursuit algorithm was applied. Spectral decomposition enabled to divide AVO anomalies in those that are the result of gas saturation and the tuning effect. Gas-saturated zones are characterized by higher spectral amplitudes of the lower frequency range, whereas tuning effect yields higher spectral amplitudes for the higher frequency content. This relation is visible for the data set and enables qualitative differentiation for the set of seismic anomalies.
EN
The acquisition parameters and methodology of seismic data processing for high-resolution seismic imaging viewed through relative amplitude preservation are presented. An example of the obtaining of high-quality, shallow seismic data with a variable end-on spread is shown. The source used for the project is an accelerated weight drop. The study area lies within the mine waste disposal area, near Rudna village (Fore-Sudetic Monocline, WS Poland), and results are given for a 2D experimental profile. The aim of the project was to design optimal acquisition and processing parameters for the detailed recognition of Tertiary deposits. The proposed acquisition parameters are a compromise between time, cost and results. High-resolution seismic imaging enables the determining of layers within the range of thicknesses between 5 and 15 m, while the maximal depth of imaging reaches 400 m.
EN
In thin-bedded sandy–shaly Miocene formations of the Carpathian Foredeep, the main source of errors in gas saturation evaluation is the underestimation of resistivity of thin, hydrocarbon-bearing beds, which is the result of the low vertical resolution of induction logging tools. This problem is especially visible in older boreholes drilled in times where the Dual Induction Tool (DIT) was the primary induction tool used for determining the formation resistivity, and in shallowest depth intervals of newer boreholes where the DIT was used instead of newer array tools for cost-saving reasons. In this paper, we show how a global inversion algorithm was used to improve the vertical resolution of DIT logs. Our implementation of an iterative inversion utilizes a one-dimensional formation model, vertical response functions of the DIT, and a modified simulated annealing algorithm to determine the true vertical distribution of the formation resistivity. The algorithm was tested on resistivity logs recorded in a borehole drilled in the Carpathian Foredeep in Poland, where the DIT and the High-Resolution Array Induction (HRAI) tool were run in the same depth interval.
PL
W ramach technologii fotowoltaicznych wyróżniamy obecnie trzy generacje. Pierwsza z nich to ogniwa z mono- i polikrystalicznego krzemu (c-Si), druga obejmuje ogniwa wykonane na bazie technologii cienkowarstwowej, zarówno z krzemu amorficznego (a-Si), jak i diseleneku indowo-miedziowo-galowego (CIGS), tellurku kadmu (CdTe) oraz arsenku galu (GaAs). Trzecia generacja to najnowsze technologie, takie jak: organiczne ogniwa słoneczne, ogniwa uczulane barwnikami czy ogniwa hybrydowe. Przyjmuje się, że średnia długość życia modułu fotowoltaicznego wynosi około 17 lat, co w połączeniu ze wzrastającym zainteresowaniem technologią fotowoltaiczną wiąże się ze zwiększona ilością odpadów, trafiających na składowiska. Oszacowano, że w 2026 roku liczba odpadowych modułów fotowoltaicznych osiągnie 5 500 000 ton. Będą to zarówno pozostałości po procesie produkcji, elementy uszkodzone podczas użytkowania oraz zużyte moduły fotowoltaiczne. Rozwój technologii fotowoltaicznych prowadzi również do doskonalenia istniejących i badań nad opracowaniem nowych metod recyklingu, dostosowanych do procesów produkcji modułów. W pracy zaprezentowano stan wiedzy na temat opracowanych technologii recyklingu modułów, wykonanych z krystalicznego krzemu oraz modułów cienkowarstwowych. Przedstawiono wyniki badań własnych nad procesem delaminacji modułów oraz roztwarzania elementów ogniw wykonanych w obu technologiach. W wyniku przeprowadzonych badań określono minimalną temperaturę, która powinna zostać zastosowana podczas dekompozycji materiału laminującego. U dowodniono, że folie wykonane przez różnych producentów ulegają procesom delaminacji w różnym stopniu, co może być spowodowane różnicami w stopniu usieciowana i stosunkowi polietylenu do polioctanu winylu. Przy wykorzystaniu metody trawienia sekwencyjnego podczas usuwania metalizacji można odzyskać nawet 1,6 kg srebra na 1 t połamanych mono- i polikrystalicznych ogniw krzemowych.
EN
At present we divide photovoltaic technologies into three generations. The first generation are monoand polycrystalline silicon solar cells (c-Si), the second one includes thin film technology both amorphous silicon (a-Si) and copper-gallium-indium diselenide (CIGS), cadmium telluride (CdTe), or gallium arsenide (GaAs). The third generation are newest technologies such as: organic solar cells, cells sensitized with dyes or hybrid cells. It is assumed that the average lifespan of the module is about 17 years, which in addition with the growing interest in solar technology results in an increasing amount of electronic waste in the land fields. I t has been estimated that in 2026, the number of waste photovoltaic modules will reach 5,500,000 tons. These will include both residues from the production process, components damaged during usage and end of life solar modules. Advanced photovoltaic technologies lead to the research and development of new methods of recycling adapted to the production processes. The article presents the state of knowledge regarding recycling technologies for modules from crystalline silicon and thin films. The results of own research of the delamination process and the recovery of cells elements in both technologies are introduced. As a result of the tests, the minimum temperature which should be used during the decomposition of the laminating material was determined. I t has been proven that foil made by different manufacturers is processed in varying degrees. That might be caused by differences in the cross-link degree and the ratio of polyvinyl acetate. U se of the sequential etching method to remove metallization, provides a possibility to recover up to 1.6 kg of silver per 1t of broken mono- and polycrystalline silicon cells.
PL
Określono możliwości badania cienkich warstw o grubości poniżej 1 mikrometra metodą mikroanalizy rentgenowskiej przy zastosowaniu metody korekcji opartej na dopasowaniu funkcji rozkładu wzbudzenia promieniowania φ(ρz) do danych doświadczalnych. Wykonano serię badań testowych z powierzchni warstw jednoskładnikowych: Au na podłożu Ni i Si o grubościach w przedziale 10–50 nanometrów oraz dwuskładnikowych: tlenek indu na podłożu Si i tlenek krzemu na podłożu Ti. Stwierdzono, że obliczenia zarówno grubości warstw w zakresie od kilku do kilkuset nanometrów, jak i składu chemicznego są poprawne. Badania nie wykazały wpływu rodzaju podłoża i napięcia przyspieszającego na poprawność wyników. Pokazano, że mapy rozkładu grubości bardzo dobrze ilustrują niejednorodności warstw. Stwierdzono, że zarówno mapowanie, jaki i obliczenia ilościowe są czułe na niewielkie różnice grubości rzędu 2–3 nm.
EN
One of the parameters of Refill Friction Stir Spot Welding is a tool sleeve depth in the joined components. The value of the depth depends on inter alia joined sheets thicknesses, a tolerance with which the sheets were made and the other parameters of the RFSSW process. The aim of the work was to determine the impact of tool depth on the quality of the RFSSW joints. Joints made of an aluminum alloy 2024-T3 sheet having a thickness of 1.0 mm and an aluminum alloy D16UTW sheet having a thickness of 0.6 mm were analysed. The welding was performed on the side of the sheet made of aluminum alloy 2024-T3. Three tool depths without changing the other welding parameters were tested. The tool depths were following: 1.10 mm, 1.15 mm and 1.20 mm. For each variant 10 RFSSW welds were made. Eight of them were served to assess the load bearing capacity of the joints with consideration plastic strain analysis, one of them were for macrostructural assessment, and one of them were for a visual assessment.
EN
In the modern world, there is an increasing demand for implants, and technologies connected with their manufacturing. One of the possible paths of their development relates to the use of diamond-like carbon coatings (DLC) for the improvement of surface properties of the biomaterials used for implants. Further improvement of the mentioned properties can be induced by means of doping of the coating. Among the elements which are under current investigation of researchers, the following can be placed: Ag, Si, F, Cu, Ti, Ca and P. This paper reviews previously published experimental data concerning mechanical and physicochemical properties of DLC coatings doped with Ag, Si, Cu, Ti, Ca, F and P as candidates for biomedical applications. Although plenty of articles are published in the mentioned field, the differences of coatings’ synthesis techniques, various sources of dopants and substrates, as well as conducted experiments make no consistent view about a possible solution for their future implementation in medicine. Some of the selected dopants (Cu, Ca, P), still require better characterisation of mechanical properties. There is a necessity to conduct studies of mechanical and physicochemical properties of DLC coatings doped with these elements. This will enable adjustment of the necessary technological parameters to biomedical requirements.
EN
In order to study the internal friction of thin films a nodal suspension system called GeNS (Gentle Nodal Suspension) has been developed. The key features of this system are: i) the possibility to use substrates easily available like silicon wafers; ii) extremely low excess losses coming from the suspension system which allows to measure Q factors in excess of 2×108 on 3” diameter wafers; iii) reproducibility of measurements within few percent on mechanical losses and 0.01% on resonant frequencies; iv) absence of clamping; v) the capability to operate at cryogenic temperatures. Measurements at cryogenic temperatures on SiO2 and at room temperature only on Ta2O5 films deposited on silicon are presented.
PL
Aby umożliwić prowadzenie badań tarcia wewnętrznego (Q-1 ) w cienkich warstwach opracowano węzłowy układ zawieszenia o nazwie GeNS (Gentle Nodal Suspension). Do najważniejszych cech charakterystycznych tego układu zaliczamy: i) możliwość wykorzystania łatwo dostępnych substratów, takich jak wafle krzemowe; ii) bardzo niskie straty nadmiarowe pochodzące z samego układu zawieszenia, co umożliwia pomiar wielkości Q przekraczających wartość 2×108 na waflach o średnicy 3”; iii) powtarzalność wyników pomiarów strat mechanicznych w zakresie kilku procent, a częstotliwości rezonansowej w zakresie 0,01%; iv) brak mocowań próbki; v) możliwość prowadzenia pomiarów w temperaturach kriogenicznych. W pracy przedstawiono wyniki pomiarów uzyskanych w temperaturach kriogenicznych dla SiO2 i przy temperaturze pokojowej dla warstw Ta2O5 osadzonych na krzemie.
EN
The surface passivation with titanium sol-gel coatings is a frequently used technique to control the adsorption of selected biological macromolecules and to reduce the exposure of the bulk material to biological matter. Due to the increasing number of new coating-preparation methods and new gel compositions with various types of additives, the quality and homogeneity determination of the surface covering is a critical factor affecting performance of any implanted material. While coating thickness is easy to determine, the homogeneity of the surface distribution of coating materials requires more elaborate methodologies. In the paper, the laser induced breakdown spectroscopy (LIBS) based method, capable to quantitate the homogeneity and uniformity of the europium in titanium dioxide sol-gel coatings on stainless steel surfaces prepared with two different procedures: spin-coating and dip-coating, is presented. The emission intensity of titanium has been used to determine the coating thickness whereas the relative values of europium and titanium emission intensities provide data on the coating homogeneity. The obtained results show that the spin-coating technique provides better surface coverage with titanium dioxide. However, when the surface coating compositions were compared the dip-coating technique was more reliable.
15
Content available Rozwój cienkowarstwowych ogniw fotowoltaicznych
PL
Fotowoltaika cienkowarstwowa jest jednym z najbardziej dynamicznie rozwijających się obszarów techniki ostatnich lat. W artykule przedstawiono rozwój ogniw fotowoltaicznych, w szczególności drugiej i trzeciej generacji, oraz zmiany, jakie się dokonują w produkcji paneli fotowoltaicznych z korzyścią dla paneli cienkowarstwowych. Opisano również szereg elementów cienkowarstwowych, będących elementem paneli fotowoltaicznych, w znaczący sposób wpływających na podstawowy parametr służący do oceny jakości ogniwa, jakim jest jego efektywność, jak również zmiany, jakie następują w rodzaju podłoży, będących elementami nośnymi każdej ze struktur cienkowarstwowych. Przedstawiono wpływ, jaki mają elektrody przewodzące, pasywacyjne, czy antyrefleksyjne na wydajność panelu fotowoltaicznego.
EN
Thin film photovoltaics is one of the fastest growing industrial field in the last few years. The development of the second and third generation of the solar cells is presented in this work, especially changes and a fast growing production of the thin film panels. All other thin film components which influenced the efficiency of solar panels are presented as well as the changes in substrates for thin film solar cell technology. The influence of the conductive transparent electrodes, passivation and antireflective films on efficiency of the solar panel is shown.
EN
The M-WO3 (M-Au, Pt) films were grown by pulsed laser deposition (PLD) using an Nd:YAG laser Continuum (λ = 266 nm) and sputtered using Sputter Coated K575X on Si [100] substrate. The TEM, AFM and XRD was used to characterize the structure and morphology of the surface. The resistances of the thin films in atmosphere CO, NO2 gases were examined as function of temperature. The XRD analysis showed that the layers consist of WO3, Au, Pt phases with crystallites size of WO3 25 nm. Highly developed layer surface was observed in AFM microscope. The TEM cross-section observation of the layers showed column-shaped structure of 20÷50 nm in the width. The resistance measurements R of the Pt-WO3 thin film, in air, CO and NO2 atmospheres showed stronger signals for both gases (NO2, CO) at higher temperature T = 300°C.
PL
Cienkie warstwy M-WO3 (M = Au, Pt) wytworzono metodą ablacji laserowej stosując laser Nd:YAG laser Continuum (λ = 266 nm), na podkładkach Si [100]. Warstwy Au i Pt nałożono przez rozpylanie za pomocą Sputter Coated K575X. Analizę struktury wytworzonych warstw przeprowadzono za pomocą TEM, AFM i XRD. Badania rezystancji warstw w atmosferze NO2 i CO przeprowadzono w funkcji temperatury. Badania rentgenowskie wykazały krystaliczną budowę warstw WO3 oraz warstw Au i Pt o średniej wielkości krystalitów WO3 25 nm. Obserwacje powierzchni warstw za pomocą AFM wykazały rozwinięcie powierzchni. Obserwacje przeprowadzone za pomocą TEM na przekrojach warstw wykazały kolumnowy charakter o szerokości kolumn 20÷50 nm. Pomiary rezystancji przeprowadzono jedynie dla warstw Pt-WO3. Warstwa była czuła na oba gazy, przy czym większe zmiany rezystancji zaobserwowano w wyższej temperaturze T = 300°C.
PL
W pracy badano proces laserowej ablacji Cr2Te3: dla potrzeb nanoszenia cienkich warstw tego materiału metodą impulsowego osadzania laserowego (PLD). Target przygotowano w formie sprasowanej pastylki z proszkowego Cr2Te3 domieszkowanego proszkowym Zn. Do odparowania tarczy zastosowano promieniowanie lasera ND3+:YAG o długości impulsu 20 ns i gęstości energii 16 J/cm2 oraz 34 J/cm2. Metodą EDX zbadano skład powierzchni targetu po ablacji. Stwierdzono nadmiar chromu co wskazuje na jego słabą desorpcję przy zastosowanych parametrach ablacji.
EN
In the paper, the process of laser ablation of Cr2Te3 has been studied in the respect of its application to thin solid films deposition of this material in the pulsed laser deposition (PLD) technology. Target has been prepared in the shape of pressed tablet from powder Cr2Te3. The energy density of the ND3+:YAG laser beam were 16 J/cm2 and 34 J/cm2 and the time of laser pulse was 20 ns. The composition of the surface layer of the target after ablation has been measured using EDX method. The excess of chromium in respect to it amount in initial composition has been measured. This result points on the weak desorption of this component at the ablation parameters applied.
PL
W pracy prezentowane są techniki pomiarów profili optycznych cienkich warstw wyznaczone z profilometrii optycznej i elipsometrii skaningowej. Pierwsza z wymienionych metod umożliwia uzyskanie mapy lokalnych współczynników odbicia z małych obszarów powierzchni (10-2 mm2), druga metoda umożliwia wyznaczanie zmiany stanu polaryzacji wąskiej wiązki promieniowania odbitego od cienkich warstw. Badania te pozwalają opisać topografię powierzchni z dużych obszarów (rzędu od kilku do kilkunastu cm2) uzupełniając tym samym pomiary wykonane przy pomocy mikroskopii sił atomowych (AFM). Analiza obrazów uzyskana przy użyciu tych metod, umożliwia wyznaczenie parametrów topograficznych powierzchni i warstw.
EN
The work presents thin film profiles measured by the optical profilometry PO and spectroscopic ellipsometry SSE techniques. First technique allows to get the surface map of intensities collected from small (10-2 mm2) spots while the second allows to obtain surface map of the phase differences of reflected radiation from studied sample. These studies enable to find many interesting features concerning surfaces in a much larger area than AFM technique. The analysis of obtained images allowed to determine most important statistic parameters of film surfaces, as variation of film thickness, surface roughness, and distribution of height irregularities.
EN
Reflection properties of layered antiferromagnetic-dielectric structures with an oblique axis orientation and an oblique planar wave falling are investigated in this paper. Nonreciprocal angle dependence in oblique axis orientation was obtained and described. Founded properties are based not on the Faraday effect but on the non-reciprocity of anisotropic material - FeF2 antiferromagnetic. Obtained result were studied in terahertz region but may be used in near-infrared region and radio frequency region with another anisotropic materials using. Obtained results allow us to propose a valve based on the investigated structure.
PL
Właściwości odbijające warstwowych antyferromagnetyczno-dielektrycznych struktur z ukośną orientacją osi i ukośną, płaską falą padania są badane w tej pracy. Uzyskano i opisano zależność kąta w orientacji skośnej osi. Założone właściwości nie są oparte na efekcie Faradaya, ale na braku wzajemności materiału anizotropowego-antyferromagnetycznego FeF2. Otrzymany wynik oceniano w obszarze terahercowym ale może być stosowany w obszarze bliskiej podczerwieni i w obszarze częstotliwości radiowych w odniesieniu do innych materiałów anizotropowych.
PL
W artykule zaprezentowano wyniki badań impulsowych procesów rozpylania targetów z grafitu pyrolitycznego (φ = 100 mm) za pomocą wyrzutni magnetronowej typu WMK-100. Mierzono charakterystyki rozkładów natężenia pola magnetycznego oraz określono stopień niezbalansowania magnetronu przy wykorzystaniu kilku wymiennych układów magnetycznych. Badano wpływ parametrów technologicznych (gęstość mocy wydzielanej w materiale rozpylanym, warunki chłodzenia targetu, odległość target podłoże, ciśnienie gazu roboczego Ar) na przebieg procesu rozpylania grafitu pyrolitycznego. Wstępne obserwacje wskazywały na otrzymywanie cienkich warstw składających się z fazy grafitowej i fazy diamentopodobnej.
EN
The article presents the results of investigations of pulsed magnetron sputtering processes from pyrolytic graphite targets (φ = 100 mm) using WMK-100 magnetron sputtering gun. Distributions of magnetic field were measured and magnetrons degrees of unbalance were established for several interchangeable magnetic assemblies. The influence of technological parameters (power density in the sputtered material, target cooling conditions, target substrate distance, working gas Ar pressure) on the pyrolytic graphite target sputtering process was investigated. Preliminary observations indicated that obtained thin films consisted of graphite phase and diamond like phase.
first rewind previous Strona / 6 next fast forward last
JavaScript jest wyłączony w Twojej przeglądarce internetowej. Włącz go, a następnie odśwież stronę, aby móc w pełni z niej korzystać.