Ograniczanie wyników
Czasopisma help
Lata help
Autorzy help
Preferencje help
Widoczny [Schowaj] Abstrakt
Liczba wyników
Znaleziono wyników: 107
first rewind previous Strona / 6 next fast forward last
Wyszukiwano:
w słowach kluczowych:  rozpylanie magnetronowe
help Sortuj według:

help Ogranicz wyniki do:
1
100%
Elektronika : konstrukcje, technologie, zastosowania
PL Powłoki wielowarstwowe na szkle płaskim pozwalają na istotną modyfikację właściwości fizycznych końcowego produktu. W skali przemysłowej szkło płaskie pokrywa się różnymi rodzajami warstw przy pomocy procesu rozpylania magnetronowego. Specjalne linie produkcyjne wyposażone w wielkogabarytowe komory [...]
EN Multilayer glass coating can efficiently change the physical properties of the final product. Large area glass coatings are produced by magnetron sputtering method. Production lines equipped with large scale vacuum chambers are used to receive layers with the precisely controlled thickness and chemi[...]
2
100%
Energetyka
2008 nr 3 188-189
PL Przedstawiono wyniki badań prądów termostymulowanej depolaryzacjii cienkowarstwowych warystorów Zn-Bi-O otrzymanych metodą rozpylania magnetronowego na podłoże miedziane. Badania przeprowadzono w szerokim zakresie temperatur od 100 K do 500 K.
EN Ceramic varistors based on zinc oxide have exellent properties as protection devices used in power industry. In this article performace of micro-devices having varistor-type current-voltage characteristics with low breakdown voltage is reported. The thermally stimulated depolarization current (TSC) [...]
3
100%
Elektronika : konstrukcje, technologie, zastosowania
PL Przedstawiono konstrukcję zasilacza dużej mocy do procesów jonowego rozpylania magnetronowego o regulowanych parametrach wyjściowych: napięcie oraz prąd. Cechą charakterystyczną zasilacza jest moduł sterownika tyrystorowego sterowanego napięciowym sygnałem zadającym, otrzymywanym automatycznie z nad[...]
EN A high power supply with controlled output parameters: UH - output voltage and I - output current for magnetron sputtering processes is presented in this paper. The most characteristic feature is a tyristor module controlled by voltage signal from higher level control unit (personal computer PC, pro[...]
4
100%
Inżynieria Materiałowa
PL Gradientowe warstwy Ti:C mogą być wytworzone dzięki połączeniu technik stałoprądowego rozpylania magnetronowego i wspomaganego plazmą chemicznego osadzania z fazy gazowej. Zastosowanie wyposażonego w magnetron reaktora plazmochemicznego RF PACVD umożliwia przeprowadzenie całego procesu bez konieczno[...]
EN Metal containing carbon layers can be deposited by combination of DC magnetron sputtering and plasma assisted chemical vapor deposition. Due to hybrid deposition system made up of a RF PACVD reactor equipped with a magnetron, the deposition process can be obtained without opening the reaction chambe[...]
5
100%
Prace Instytutu Elektrotechniki
2009 Z. 241 39-50
PL W pracy przedstawiono wyniki badań tłumienia promieniowania elektromagnetycznego przez cienkie warstwy Ni-Fe naniesione na włókninę polipropylenową 160 (gramatura 160 gm^-2). Magnetyczny target zamocowany na wyrzutni magnetronowej WMK-100 został rozpylony w atmosferze czystego argonu. Zbadano szybko[...]
EN In this study the results of measurement of electromagnetic wave attenuation by Ni-Fe thin films deposited on polypropylene nonwoves 160 (basis weight 160 gźm^-2) were presented. Magnetic target fitted on magnetron gun of the WMK-100 type was sputtered in pure argon atmosphere. The rates of the mate[...]
6
88%
Elektronika : konstrukcje, technologie, zastosowania
PL W artykule przedstawiono autorski system sterowania urządzeniem próżniowym, przeznaczonym do nanoszenia wielowarstwowych powłok metalicznych metodą impulsowego rozpylania magnetronowego średniej częstotliwości. System kontroluje prędkość obrotową uchwytu podłoży oraz dozuje poprzez zawory membranowe[...]
EN Computer control system for puls MF (Mid Frequency) magnetron sputtering equipment dedicated for metallic multilayers deposition is presented in this paper. The rotation velocity of the sample holder and the gas inlet through membrane valves are the main parameters controlled by the system. Paramete[...]
7
88%
Elektronika : konstrukcje, technologie, zastosowania
PL Zaprezentowano wyniki badań wpływu częstotliwości zasilania wyrzutni magnetronowej WMK 50 na proces rozpylania miedzi. Wykorzystywano dwa zasilacze (o maksymalnych prądach wyjściowych 8 i 12 A) oraz zewnętrzny moduł kluczujący zapewniający regulację częstotliwości napięcia zasilającego wyrzutnię w z[...]
EN The influence of power supply frequency on the process of magnetron sputtering of copper is presented. In this work two power supplies were used (with maximum output currents 8 and 12 A) and yhe switching module that provided cathode voltage switching in range of 12...70 kHz. The plasma emission spe[...]
8
88%
Przegląd Elektrotechniczny
2007 R. 83, nr 11 235-239
PL W prezentowanej pracy przedstawiono otrzymywanie cienkich warstw ZnO metodą impulsowego rozpylania magnetronowego. Wykazano, że szybkości rozpylania targetów metalicznych w argonie jest większa dla metody DC-M. Natomiast rozpylanie reaktywne lub targetów tlenkowych należy stosować metodę AC-M. Uzysk[...]
EN In this work, the pulse magnetron sputtering was applied to Zn-Bi-O thin films deposition. It was proved that the rate of metal target sputtering with argon model plasma was highest when using DC-M bias, while reactive sputtering of metal or oxide targets was most effective in the case of AC-M mode [...]
9
88%
Prace Naukowe Instytutu Podstaw Elektrotechniki i Elektrotechnologii Politechniki Wrocławskiej. Konferencje
PL W pracy przedstawiono wyniki badań spektrofotometrycznych plazmy magnetronowej. Wykazano, że względne intensywności badanych widm emisyjnych są różne od wzorców. Stosunek tych intensywności zależy od parametrów procesu rozpylania: gęstość mocy P wydzielonej na targecie, odległość d targ et-podłoże, [...]
EN In this paper was shown results of investigation spectrophometric magnetronic plasma. It's been proved, that arbitrary intensity of researchable emission lines are different from standards. The proportion those intensity depends on parameters of process magnetron sputtering, density power, distance [...]
10
88%
Prace Naukowe Instytutu Podstaw Elektrotechniki i Elektrotechnologii Politechniki Wrocławskiej. Konferencje
PL W pracy przedstawiono wyniki badań mikroskopowych i rentgenograficznych cienkich warstw warystorowych otrzymanych metodą, rozpylania magnetronowego. Wykazano, że stosowanie gęstości mocy powyżej 5 Wcm -2 podczas rozpylania metalicznych targetów Zn-Bi-0 powoduje powstawanie kulistych skupisk metalicz[...]
EN In this work the microscopic and X-ray investigations of thin film ZnO varistors are presented. Processing of the thin film varistors proved effective when the power dissipated into the Zn-Bi metallic or ZnO-Bi2O3 oxide target is lower than 5 Wcm-2 . Otherwise in case of Zn-Bi metallic targets the c[...]
11
75%
Świat Szkła
12
75%
Fibres & Textiles in Eastern Europe
2008 Nr 5 (70) 64--66
PL W artykule zaprezentowano metodę metalizacji włóknin polipropylenowych (PP). Przedyskutowano wpływ mocy wydzielanej na targacie na skuteczność ekranowania płaskiej fali elektromagnetycznej. Do metalizacji materiału został zastosowany standardowy proces rozpylania magnetronowego targetu metalicznego [...]
EN In this study, a method of the metallisation of polypropylene (PP) nonwovens is presented. The influence of power dissipated in the target on the efficiency of screening a flat electromagnetic wave is discussed. Fabric metallisation was carried out using the standard magnetron sputtering process of [...]
13
75%
Przegląd Elektrotechniczny
PL Celem pracy było otrzymanie cienkowarstwowych struktur TiO2 o właściwościach fotowoltaicznych. Warstwy wytwarzane były metodą rozpylania magnetronowego. Wyniki badań wykazały, że moc rozpylania oraz temperatura wygrzewania próbek ma decydujący wpływ na powstanie odpowiedniej struktury krystalicznej [...]
EN The aim of the study was to obtain structures of TiO2 thin films with photovoltaic properties. The layers were produced by magnetron sputtering. The influence of basic process parameters (power, frequency and duration of sputtering) on the of photovoltaic properties was investigated. The results obt[...]
14
75%
Elektronika : konstrukcje, technologie, zastosowania
PL Celem badań było opracowanie prototypowej linii do przemysłowego osadzania cienkich warstw na wielkogabarytowe podłoża. Prototypowe urządzenie wykonano w wersji wsadowej (nanoszenie cienkich warstw w oddzielnych cyklach próżniowych). Opracowano konstrukcję linii wyposażonej w oryginalne układy stero[...]
EN The aim of this study was to develop a prototype line for the industrial deposition of thin films on large-size substrate. A prototype off-line version of the device was performed (deposition of thin films in a separate vacuum cycles). Developed design a line equipped with the original controls the [...]
15
75%
Elektronika : konstrukcje, technologie, zastosowania
PL Mikrosfery glinokrzemianowe, pozyskiwane z popiołów lotnych z węgla kamiennego, mają niską gęstość objętościową, niski współczynnik przewodzenia ciepła oraz znikomą porowatość otwartą [1-4]. Powierzchnię mikrosfer można modyfikować warstwami o specjalnych właściwościach, na przykład warstwami przew[...]
EN Cenospheres - component of fly ash from the combustion of coal - are characteristic by low density per unit volume, low thermal conductivity and low open porosity [1-4]. The surface of cenospheres can be modified with layers having special properties, such as conductive layers. Thus modified ceno[...]
16
75%
Świat Szkła
2004 nr 9 [78] 52-57
PL O ile szkła absorpcyjne otrzymywane są bezpośrednio w procesie topienia szkła, najczęściej metodą float, o tyle produkcja szkieł z powłokami może odbywać się drogą powlekania świeżo uformowanej taśmy szkła bezpośrednio w linii do otrzymywania szkła (metodą float lub inną), przy zastosowaniu do otrzy[...]
17
75%
Elektronika : konstrukcje, technologie, zastosowania
PL Wykonano komputerowe symulacje ruchu naładowanych cząstek w wyładowaniu jarzeniowym magnetronu kołowego WMK-50. Symulowano warunki pracy magnetronu za pomocą pakietu programów obliczających tory cząstek naładowanych poruszających się w polach elektrycznym i magnetycznym. Otrzymane wyniki porównano z[...]
EN Computer simulations of charged particles movement in a glow discharge of WMK-50 circular magnetron have been done. The magnetron working conditions were simulated using codes for charged particles trajectories in electric and magnetic fields. The obtained results were compared with the phenomena ob[...]
18
75%
Journal of Achievements in Materials and Manufacturing Engineering
EN Purpose: Investigation the effect of varying r.f. power and oxygen flow rates during deposition on the electrical properties of copper oxide thin films prepared by reactive magnetron sputtering. Design/methodology/approach: The films were characterised by AFM, XPS, four point electrical resistivity[...]
19
75%
Elektronika : konstrukcje, technologie, zastosowania
PL Zastosowanie do zasilania katody magnetronowej zasilaczy impulsowych ze zmiennym współczynnikiem wypełnienia impulsu wyjściowego powoduje, że parametry plazmy w czasie procesu ulegają zmianom, odzwierciedlając chwilowe wartości prądu katody. Do pomiaru parametrów plazmy przy zasilaniu impulsowym wyk[...]
EN Application of PWM (pulse width modulation) power supply for magnetron sputtering, results in changing parameters of plasma reflecting present value of discharge current. Application of synchronisation system allowed to record stable current-voltage characteristic of Langmuir probe. Synchronisation [...]
20
75%
Elektronika : konstrukcje, technologie, zastosowania
PL W pracy opisano wpływ wygrzewania na konduktywność nanokompozytów (CoFeZr)x + (AI₂O₃)1-x wytwarzanych rozpylaniem magnetronowym w atmosferze argonu. Wykorzystano nanomateriały o strukturze metal-dielektryk o zawartości frakcji metalicznej x₁ = 31,2%, x₂ = 42,2% oraz x₃ = 64,1 % (odpowiednio przed na[...]
EN The effect of annealing on conductivity of (CoFeZr)x (Al₂O₃)1+x nanocomposites produced by magnetron sputtering In the at mo sphere of argon has been carried out. Nanomaterials of metal-insulator structure with content of metallic phase x₁ = 1.2% (beneath the percolation threshold), x₂ = 42.2% (on t[...]
first rewind previous Strona / 6 next fast forward last